SiC单晶体的制造装置、在制造装置中使用的夹具以及SiC单晶体的制造方法制造方法及图纸

技术编号:9116500 阅读:166 留言:0更新日期:2013-09-05 05:45
本发明专利技术提供一种能够抑制多晶体的生成的SiC单晶体的制造装置。在腔室(1)内容纳有夹具(41)和坩埚(6)。在坩埚(6)内容纳有SiC溶液(8)。夹具(41)包括晶种轴(411)和盖构件(412)。晶种轴(411)能够升降,在晶种轴(411)的下表面安装SiC晶种(9)。盖构件(412)配置在晶种轴(411)的下端部。盖构件(412)是下端敞开的壳体,且在内部配置晶种轴(411)的下端部。在制造SiC单晶体时,SiC晶种(9)浸渍在SiC溶液(8)中。进而,盖构件(412)的下端浸渍在SiC溶液(8)中。因此,盖构件(412)覆盖SiC溶液(8)中的、SiC单晶体周边的部分并进行保温。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:龟井一人楠一彦矢代将齐冈田信宏加渡干尚坂元秀光大黑宽典
申请(专利权)人:新日铁住金株式会社丰田自动车株式会社
类型:
国别省市:

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