双头激光蚀刻机制造技术

本实用新型专利技术涉及激光切割技术领域，具体涉及一种双头激光蚀刻机。它包括机架、工控机、显示器、激光发生系统、振镜、真空吸附平台、CCD定位系统、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统，所述振镜包括第一振镜和第二振镜，第一振镜和第二振镜并排安装在Z轴运动系统上，位于真空吸附平台上方，第一振镜和第二振镜底部分别设有第一透镜和第二透镜。本实用新型专利技术的双头激光蚀刻机相对于现有蚀刻机，增加了一套振镜、激光设备，可同时对两件工件进行加工蚀刻，提高了ITO薄膜刻线的生产效率。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

双头激光蚀刻机
本技术涉及激光切割
，具体涉及一种双头激光蚀刻机。
技术介绍
随着触摸屏及液晶显示屏行业的不断发展，对ITO薄膜基材性能需求的不断提高，对ITO薄膜的加工需求也越来越高。现有的蚀刻机为单头蚀刻机，即蚀刻机上仅设置一个切割头，一次只能对一件工件进行加工蚀刻，一般日产量只能达到IOK左右(只刻蚀银浆) 或5K左右(刻蚀银浆加ΙΤ0)，产能瓶颈很突出，生产效率低不能满足企业要求。
技术实现思路
本技术的目的就是为了解决上述
技术介绍
存在的不足，提供一种生产效率高、可同时对多个工件进行加工的双头激光蚀刻机。本技术采用的技术方案是:一种双头激光蚀刻机，包括机架、工控机、显示器、 激光发生系统、振镜、真空吸附平台、CXD定位系统、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统，所述工控机、显不器、激光发生系统、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统都安装在机架上；所述真空吸附平台由X轴运动系统、Y轴运动系统驱动，真空吸附平台上吸附有ITO薄膜；CCD定位系统固定在Z轴运动系统底部与工控机电连接，所述振镜包括第一振镜和第二振镜，第一振镜和第二振镜并排安装在Z轴运动系统上，位于真空吸附平台上方， 第一振镜和第二振镜底部分别设有第一透镜和第二透镜。进一步地，所述真空吸附平台固定在Y轴运动系统上，位于X轴运动系统的上方； 所述Y轴运动系统安装在X轴运动系统上，并交叉呈十字状，X轴运动系统安装在机架上。进一步地，所述机架上还设有抽尘装置，抽尘装置位于真空吸附平台与CXD定位系统之间。更进一步地，所述Z轴运动系统的升降轴上固定有横连杆，第一振镜和第二振镜并排固定在横连杆两端。本技术的双头激光蚀刻机相对于现有蚀刻机，增加了一套振镜、激光设备，可同时对两件工件进行加工蚀刻，提高了 ITO薄膜刻线的生产效率。采用CCD定位系统确定工件打标的位置，工件只需一次定位就可以完成全部工作，影响产品质量因素少，易于控制。附图说明图1为本技术的结构示意图。图2为图1中A处的放大示意图。其中:1 一机架；2—工控机；3 —罩壳；4一键盘；5 —电气控制；6—显不器；7—第一透镜；8—第一振镜；9一Z轴运动系统；10—第二振镜；11一第二透镜；12—(XD定位系统；13—激光发生系统；14一大理石组件；15—抽尘装置；16 — ITO薄膜；17—真空吸附平台`；18 — Y轴运动系统；19一X轴运动系统；20—可调整脚轮。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本技术作进一步的详细说明，便于清楚地了解本技术，但它们不对本技术构成限定。如图1、图2所示，本技术包括机架1、工控机2、显示器6、激光发生系统13、振镜、真空吸附平台17、CXD定位系统12、Y轴运动系统18、X轴运动系统19和Z轴运动系统 9，所述工控机2、显不器6、激光发生系统13、Y轴运动系统18、Χ轴运动系统19和Z轴运动系统9都安装在机架I上。真空吸附平台17固定在Y轴运动系统18上，位于X轴运动系统19的上方'Y轴运动系统18安装在X轴运动系统19上，并交叉呈十字状，X轴运动系统 19安装在机架I上。真空吸附平台17由Y轴运动系统18和X轴运动系统19驱动左右或前后移动，真空吸附平台17上吸附有ITO薄膜16。CXD定位系统12固定在Z轴运动系统 9底部与工控机2电连接，并通过显示器6显示，位于真空吸附平台17上方，由工控机2控制CCD定位系统12捕捉ITO薄膜16上的定位点对待刻工件进行定位。所述振镜包括第一振镜8和第二振镜10,第一振镜8和第二振镜10并排安装在Z轴运动系统9上。Z轴运动系统9的升降轴上固定有横连杆9.1,第一振镜8和第二振镜10并排固定在横连杆9.1两端，第一振镜8和第二振镜10底部分别设有第一透镜7和第二透镜11。机架I上还设有抽尘装置15，抽尘装置15位于真空吸附平台17与CXD定位系统12之间。本技术通过键盘4在显示器6中设置需要的激光刻蚀图形，将裁减好的工件放到真空吸附平台17上，通过CXD定位系统12捕捉ITO薄膜16上的定位点对工件进行定位。上料时，工件放置好后经工控机2控制真空吸附平台17成吸附状态，便于工件切割时不移位；下料时，工作台面的真空吸附平台17由真空吸附切换到压缩气体反吹浮起工件， 并回到上料位置，便于工件下料。机架I结构采用大理石组件14组装，在机架I的底部安装可调整脚轮20，方便机架I调整搬动。本技术的第一振镜8和第二振镜10分别连接一套激光发生系统，激光发生系统使用的是固体(YAG)激光发生器，可以使用波长为1064nm、532nm或者355nm激光发生器，激光基本仅作用于ITO薄膜，不会影响基板材料，及影响板材透光性；振镜与透镜同轴设置，其中的透镜聚焦镜组使激光聚焦成能量集中的小光点，以作用在ITO薄膜表面，按设计的图形通过激光热分解法或是分子链破坏的方式将有用的ITO导电膜区域与需要去除的ITO导电膜区域分隔开。抽尘装置15中设置吹气部件及吸尘部件，吹气部件连接压缩气体，在刻线过程中吹净刻线后薄膜面，其上的吸尘部件连接吸气系统，在刻线过程中吸走刻线后的粉尘。工作过程中由电脑系统全程控制，加工完成真空吸附平台回到上料位置后停机。本技术中的刻线轨迹可为直线方式，首先将上层基板或下层基板放置于真空吸附平台上，Y轴运动系统18与X轴运动系 统19组合运动，带动真空吸附平台按需求图形移动，激光经由激光发生器通过切割头聚焦成小光点，作用在ITO薄膜上，把基板上ITO薄膜刻划成X轴或Y轴阵列排布的导电膜。本技术中的刻线轨迹亦可实现非直线方式。 Y轴运动系统18与X轴运动系统19的移动控制均由电气控制5内各器件实现，在机架I外部设置罩壳3，将机架I内部的一些结构封住，保证各部件正常使用。上述实施例是提供给熟悉本领域内的人员来实现或使用本技术的，熟悉本领域的人员可在不脱离本技术的专利技术思想的情况下，对上述实施例做出种种修改或变化，因而本技术的保护范围并不被上述实施例所 限，而应该是符合权利要求书提到的创新性特征的最大范围。权利要求1.一种双头激光蚀刻机，包括机架、工控机、显示器、激光发生系统、振镜、真空吸附平台、(XD定位系统、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统，所述工控机、显不器、激光发生系统、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统都安装在机架上；所述真空吸附平台由X轴运动系统、Y轴运动系统驱动，真空吸附平台上吸附有ITO薄膜；(XD定位系统固定在Z轴运动系统底部与工控机电连接，其特征在于:所述振镜包括第一振镜和第二振镜，第一振镜和第二振镜并排安装在Z轴运动系统上，位于真空吸附平台上方，第一振镜和第二振镜底部分别设有第一透镜和第二透镜。2.根据权利要求1所述的双头激光蚀刻机，其特征在于:所述真空吸附平台固定在Y 轴运动系统上，位于X轴运动系统上方；所述Y轴运动系统安装在X轴运动系统上，并交叉呈十字状，X轴运动系统安装在机架上。3.根据权利要求1所述的双头激光蚀刻机，其特征在于:所述机架上还设有抽尘装置， 抽尘装置位于真空吸附平台与CCD定位系统之间。4.根据权利要求1所述的双头激光蚀刻机，其特征在于:所述Z轴运动系统的升降轴上固定有横连本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双头激光蚀刻机，包括机架、工控机、显示器、激光发生系统、振镜、真空吸附平台、CCD定位系统、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统，所述工控机、显示器、激光发生系统、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统都安装在机架上；所述真空吸附平台由X轴运动系统、Y轴运动系统驱动，真空吸附平台上吸附有ITO薄膜；CCD定位系统固定在Z轴运动系统底部与工控机电连接，其特征在于：所述振镜包括第一振镜和第二振镜，第一振镜和第二振镜并排安装在Z轴运动系统上，位于真空吸附平台上方，第一振镜和第二振镜底部分别设有第一透镜和第二透镜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡兵，应花山，
申请(专利权)人：武汉拓普银光电技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：