玻璃基板抛光用组合物和抛光浆料制造技术

本发明专利技术提供一种能在玻璃基板的加工中改善精加工表面粗糙度和表面凹凸缺陷的抛光浆料以及用于制备该抛光浆料的抛光用组合物。本发明专利技术的玻璃基板抛光用组合物以及含有该抛光用组合物和抛光磨粒的抛光浆料含有（A）、（B）、以及根据需要的（C）和/或（D）成分。（A）具有选自巯基、烷硫基和烷基中的至少一种基团的四唑衍生物；（B）水；（C）高分子多糖类；（D）胺。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及硬盘用玻璃基板、光盘用玻璃基板、等离子体显示器(PDP)用玻璃基板、液晶显示器(LCD)用玻璃基板和光掩模用玻璃基板等各种玻璃基板抛光用组合物(以下，称为抛光用组合物)及使用其的抛光浆料。更详细地说，涉及精加工表面粗糙度和表面凹凸缺陷的改善优异的抛光用组合物及抛光浆料。
技术介绍
近年来，日益要求硬盘的高记录密度化。为了提高硬盘驱动器的记录密度，并且为了提高磁信号的检测灵敏度，有必要进一步缩小磁头和磁盘之间的飞行高度。为此，在玻璃基板中改善精加工表面粗糙度和表面凹凸缺陷成为重要课题。该高记录密度化的趋势逐年加速，对玻璃基板抛光浆料的要求日益增高。所要求的项目以精加工表面粗糙度低为代表，为了使微坑、微小突起和微痕等表面缺陷消失和提高玻璃基板的生产能力，正在要求提高抛光速度。作为上述抛光用组合物，提出了各种用于得到高品质玻璃基板的抛光用组合物。例如在专利文献I中，提出了含有氨或具有伯氨基的脂族胺的抛光浆料。另外，在专利文献2中，提出了含有碳酸盐或硫酸盐的抛光浆料。但是，在使用现有技术的抛光用组合物中，在不能获得适于高记录密度化的精加工表面粗糙度的方面存在课题。现有技术文献专利文献专利文献1:W02004/100242`专利文献2:特开 2006-315160
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的课题在于提供:在玻璃基板的加工中，可改善精加工表面粗糙度和表面凹凸缺陷的抛光浆料以及用于制备该抛光浆料的抛光用组合物。本专利技术人发现，特定的抛光用组合物以及含有抛光磨粒的抛光浆料可以解决上述课题，至此完成了本专利技术。解决课题的手段本专利技术涉及下述专利技术。1.玻璃基板抛光用组合物，含有(A)和(B)成分，(A)具有选自疏基、烧硫基和烧基中的至少一种基团的四卩坐衍生物(B)水。2.玻璃基板抛光用组合物，含有(A)、(B)和(C)成分，(A)具有选自疏基、烧硫基和烧基中的至少一种基团的四卩坐衍生物(B)水(C)高分子多糖类。3.玻璃基板抛光用组合物，含有(A)、(B)、(C)和(D)成分，(A)具有选自疏基、烧硫基和烧基中的至少一种基团的四卩坐衍生物，(B)水(C)高分子多糖类(D)胺。4.上述I 3任一项所述的组合物，含有(A)0.01 20重量％、(C)0.01 20重量％、(D) 0.01 20重量％、(B)余量。5.上述I 4任一项所述的组合物，其中，玻璃基板为硬盘玻璃基板。6.抛光浆料，含有上述任一项所述的抛光用组合物和抛光磨粒。专利技术效果根据本专利技术，在各种玻璃基板的加工中，可改善精加工表面粗糙度和表面凹凸缺陷。进而可以提高抛 光速度。具体实施例方式以下详细说明本专利技术的玻璃基板抛光用组合物的各成分。(A)在具有选自疏基、烧硫基和烧基的至少一种基团的四卩坐衍生物中，作为烧硫基，例如可举出碳数I 4的低级烷硫基，作为烷基，例如可举出碳数I 4的低级烷基。具体可举出5-巯基-1-甲基四唑、1--5-巯基-1H-四唑、5-(甲硫基)-1H-四唑、5-(乙硫基)-1H-四唑、5-甲基四唑、5-乙基四唑等。(B)作为水，优选离子交换水或纯水等精制水。(C)作为高分子多糖类，例如可举出普鲁兰多糖、直链淀粉、支链淀粉、糖原、糊精、透明质酸等。(D)胺没有特殊限定，例如可举出异丙胺、环己胺、二乙胺、三乙胺等碳数I 10的链状或环状的烷基胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、N-甲基单乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、N, N- 二甲基乙醇胺、N，N- 二乙基乙醇胺、二甘醇胺、2-氨基-2-甲基-1-丙醇、正丁醇胺、异丁醇胺、叔丁醇胺等碳数I 10的烷醇胺、吗啉、N-(2-氨基乙基)哌嗪等碳数4 10，优选为碳数4 6的环状胺等。在这些胺中，优选通式(R2)mN (-R1-OH) η(R1表不碳数2 5的直链或支链的亚烧基，R2表不氢原子或碳数I 3的烧基。m为O、I或2，η为I 3的整数，m+n=3。)表示的胺、吗啉、N-(2-氨基乙基)哌嗪。进而，除了这些组合物以外，还可以适宜使用多元醇类。作为多元醇类，可举出多元醇和多元醇的烷基醚，例如可举出乙二醇、二甘醇、三甘醇、四甘醇、丙二醇、双丙二醇、三丙二醇、丁基卡必醇、己二醇、丁二醇、丁基二甘醇、甘油、乙二醇单甲基醚、二甘醇二甲基醚、乙二醇单异丙基醚、乙二醇单丁基醚、乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲基醚、双丙二醇单甲基醚、丙二醇单丁基醚、二甘醇二甲基醚、二甘醇二乙基醚、山梨糖醇、蔗糖等。抛光用组合物中的成分(A) (D)的含量没有特别限定，作为成分(A)的含量，优选为0.01 20重量％，更优选为0.05 10重量％，进一步优选为0.1 5重量％，最优选为I 5重量％。只要成分(A)的含量在上述范围内，就可以得到精加工表面粗糙度和表面凹凸缺陷的改善效果。进而还可以提高抛光速度。作为高分子多糖类(C)的含量，优选为0.01 20重量％，更优选为0.05 10重量％，进一步优选为0.1 5重量％,最优选为I 5重量％。只要成分(C)的含量在上述范围内，特别是可以获得表面凹凸缺陷的改善效。作为胺(D)的含量，优选为0.01 20重量％，更优选为0.05 10重量％，进一步优选为0.1 5重量％,最优选为I 5重量％。只要成分(D)的含量在上述范围内，可以将PH调节为碱性，得到精加工表面粗糙度和表面凹凸缺陷的改善效果。优选的pH范围是8 13。水(B)的含量是余量。通过在本专利技术的抛光用组合物中分散抛光磨粒，可以得到本专利技术的抛光浆料。作为抛光磨粒，例如可采用胶体二氧化硅、蒸汽沉积二氧化硅、金刚石、氧化铝、二氧化铈、氧化锆、氧化钛等各种公知的抛光磨粒。其中，作为抛光磨粒，优选胶体二氧化硅和氧化锆。作为胶体二氧化娃的大小，一般，平均粒径可以为0.001 I μ m,优选为0.001 0.5 μ m、更优选为0.001 0.2 μ m左右。抛光浆料中的胶体二氧化硅的含量没有特别限定，通常为40重量％以下，优选为0.1 20重量％。作为氧化锆的大小，一般，平均粒径可以为0.1 15 μ m，优选为0.1 10 μ m、更优选为0.1 5 μ m左右。抛光浆料中的氧化锆的含量没有特别限定，通常20重量％以下，优选为0.1 10重量％。通过本专利技术的玻璃基板抛光用组合物和抛光浆料被抛光的玻璃基板没有特别限定，例如以硅酸为主成分，在玻璃中还可以含有氧化铝、氧化钠、氧化钾等金属化合物。本专利技术的抛光浆料是用于加工玻璃基板的抛光浆料，与用于加工硬盘NiP合金基板的抛光浆料、或通常的用于加工铁或铝材料的水溶性切削加工、水溶性磨削加工或水溶性抛光加工液不同。在上述通常的加工中，液体一般是循环使用的，与本专利技术抛光浆料在防腐、消泡、防锈等二次性能等所要求的性能上差异 大。实施例在以下所示的实施例和比较例中，进行以下所示的抛光评价。但本专利技术并不限定于实施例。实施例1 8和比较例I 6混合下述表I 3所示的成分(数值为重量％)，制备玻璃基板抛光用组合物。水使用纯水。比较例I的N-(2-氨基乙基)哌嗪(AEP)是在W02004/100242 (专利文献I)中使用的具有伯氨基的脂族胺。比较例2的碳酸钾是特开2006-315160 (专利文献2)中使用的碳酸盐。比较例4 6的IH本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：浜岛研太郎，稻垣秀和，
申请(专利权)人：株式会社MORESCO，
类型：
国别省市：