用于校准水蒸气透过率测定装置的标准样品制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种标准样品，其可以小的误差、或者与理论值一致地测定1

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于校准水蒸气透过率测定装置的标准样品


[0001]本专利技术涉及用于校准水蒸气透过率测定装置的标准样品。

技术介绍

[0002]水蒸气透过率测定装置是用于迅速且高精度地对例如有机器件、太阳能电池等中所使用的膜等的水蒸气透过率(Water Vapor Transmission Rate，以下称为“WVTR”)进行测定的装置。所述有机器件、太阳能电池等中所使用的膜尤其要求WVTR小。另外，为了通过水蒸气透过率测定装置来高灵敏度地测定如此小等级的WVTR，要求更小等级的WVTR中的测定值与理论值的误差小的校准用标准样品。
[0003]例如，专利文献1中公开了一种水蒸气透过率测定装置的校准用标准膜，其在树脂制膜上包括阻挡层，且该阻挡层具有至少1个小孔，测定10
‑3g/m2/天以下的水蒸气透过率。该膜的特征在于，当将所述小孔的当量圆半径设为 R[μm]，且将所述树脂制膜的厚度设为L[μm]时，R/L≦5。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：国际公开第2015/182706号

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的问题
[0008]在如上所述的现有技术中，为了制作可测定1
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‑4g/m2/天以下等级的 WVTR的校准用标准样品，必须减小标准样品的孔径。但是，在如上所述的现有技术中，若减小孔径，则WVTR的理论值与测定值背离，存在误差增大的问题。详情如后所述。
[0009]本专利技术的一形态的目的在于实现一种可以小的误差、或者与理论值一致地测定1
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‑4g/m2/天以下等级的WVTR的标准样品。
[0010]解决问题的技术手段
[0011]本专利技术人们为了解决上述课题而反复进行积极研究，结果发现一种用于校准水蒸气透过率测定装置的标准样品，其若为包括形成有孔的基材、以及填充于所述孔中的填充剂的标准样品，则可以小的误差、或者与理论值一致地测定 1
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‑4g/m2/天以下等级的WVTR，从而完成本专利技术。即，本专利技术包括以下形态。
[0012]＜1＞一种标准样品，其用于校准水蒸气透过率测定装置，包括：基材，形成孔且用于阻隔水蒸气；以及填充剂，填充于所述孔中且包含树脂及陶瓷中的至少任一者。
[0013]＜2＞如＜1＞所述的标准样品，其中所述基材的厚度为0.1～1.0mm。
[0014]＜3＞如＜1＞或＜2＞所述的标准样品，其中所述基材的厚度为0.2～0.5 mm。
[0015]＜4＞如＜1＞至＜3＞中任一项所述的标准样品，其中所述基材的孔径为 0.01～5.0mm。
[0016]＜5＞如＜1＞至＜4＞中任一项所述的标准样品，其中所述基材的孔径为 0.1～
0.15mm。
[0017]＜6＞如＜1＞至＜5＞中任一项所述的水蒸气透过率测定装置用标准样品，其中所述填充剂为固化性树脂。
[0018]专利技术的效果
[0019]根据本专利技术的一形态，能够提供一种可以小的误差、或者与理论值一致地测定1
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‑4g/m2/天以下等级的WVTR的标准样品。
附图说明
[0020]图1是示意性表示本专利技术的一实施方式所涉及的标准样品的剖面的图。
[0021]图2是示意性表示现有技术中的标准样品的剖面的图。
[0022]图3是表示实施例所涉及的开口面积与WVTR的关系性的图。
具体实施方式
[0023]以下，对本专利技术的实施方式进行详细说明。但本专利技术并不限定于此，可在所记述的范围内进行各种变更，将不同实施方式中分别公开的技术手段适当组合而获得的实施方式也包含于本专利技术的技术范围内。此外，本说明书中只要未特别说明，则表示数值范围的“A～B”是指“A以上且B以下”。
[0024][1.专利技术的概要][0025]水蒸气透过率测定装置，是向配置有成为测定对象的膜等样品的样品腔室中导入水蒸气，对透过该样品的水蒸气的量进行测定的装置。可使用显示出已知WVTR的标准样品来校准该装置的灵敏度。
[0026]现有技术中的水蒸气透过率测定装置用的标准样品200包括图2所示的构成。具体而言，所述标准样品200具有由金属层12、粘接层13以及树脂制膜14 形成的3层结构。所述金属层12中形成有孔11。在水蒸气透过率测定装置的样品腔室内，从标准样品200的树脂制膜14侧导入水蒸气，对透过树脂制膜14而自孔11向金属层12侧排出的水蒸气的量进行检测。所述标准样品的WVTR是通过调整金属层的孔11的个数以及开口面积来控制。
[0027]然而，所述标准样品200中，既有以大致最短距离来透过树脂制膜14而自孔11排出的水蒸气15，也会产生从远离孔11的区域流入，在树脂制膜14内扩散回绕而自孔11排出的水蒸气16。因此，存在标准样品的WVTR的理论值与测定值之间容易产生误差的问题。另外，在将金属层的孔11的开口面积减小的情况下，由于相对于上述水蒸气15，水蒸气16的量增大，故而上述误差特别显著。因此，无法制作可以小的误差、或者与理论值一致地测定1
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‑4g/m2/天以下等级的WVTR的标准样品。
[0028]因此，本专利技术人对也可以小的误差、或者与理论值一致地测定1
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‑4g/m2/ 天以下等级的WVTR的标准样品进行研究。其结果为，本专利技术人发现，包括形成孔且用于阻隔水蒸气的基材、以及填充于所述孔中的包含树脂及陶瓷中至少任一者的填充剂的标准样品使WVTR的测定值与理论值的误差减小，从而完成本专利技术。
[0029][2.标准样品][0030]本专利技术的一实施方式的标准样品是用于对水蒸气透过率测定装置进行校准的标准样品，包括：形成孔且用于阻隔水蒸气的基材、以及填充于所述孔中的包含树脂及陶瓷中
至少任一者的填充剂。
[0031]此外，使用所述装置来测定WVTR的方法可列举：使装置内产生差压来测定WVTR的差压法、将装置内设为常压状态来测定WVTR的等压法、API
‑
MS、 DELTAPERM、Ca腐蚀法等。本专利技术的一实施方式的标准样品在上述任一种方法中均可测定WVTR。
[0032]本说明书中，所谓“水蒸气透过率(WVTR)”，是指根据JIS K 7129： 2008“塑料
‑
膜及片材
‑
水蒸气透过率的求法(机器测定法)”或者ISO 15106
‑
5、
ꢀ‑
6、
‑
7：2015“塑料
‑
膜及片材
‑
水蒸气透过率测定方法”来求出的值。
[0033]使用图1，对本专利技术的一实施方式所涉及的标准样品进行更详细的说明。图1表示与平板状的基材的厚度方向平行的剖面。如上所述，本专利技术的一实施方式所涉及的标准样品100中，在基材2中形成本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种标准样品，其用于对水蒸气透过率测定装置进行校准，其特征在于，包括：基材，形成孔且用于阻隔水蒸气；以及填充剂，填充于所述孔中且包含树脂及陶瓷中的至少任一者。2.根据权利要求1所述的标准样品，其特征在于，所述基材的厚度为0.1～1.0mm。3.根据权利要求1或2所述的标准样品，其特征在于，所述基材的厚度...

【专利技术属性】
技术研发人员：楯和也，
申请(专利权)人：株式会社MORESCO，
类型：发明
国别省市：