近红外线吸收性合成树脂组合物制造技术

技术编号:8982908 阅读:172 留言:0更新日期:2013-08-01 01:26
本发明专利技术提供含有下述通式(1)表示的联吡咯并异喹啉化合物及合成树脂的近红外线吸收性合成树脂组合物。式中,R1及R2可以相互相同也可以不同,分别表示氢原子、卤素原子、可以具有取代基的碳原子数为1~20的烷基、碳原子数为1~20的烷氧基、碳原子数为6~20的芳基、碳原子数为7~20的芳基烷基或碳原子数为5~12的环烷基。相对于上述合成树脂100质量份,上述联吡咯并异喹啉化合物的含量优选为0.001~20质量份,

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及近红外线吸收性合成树脂组合物及使用了该近红外线吸收性合成树脂组合物的近红外线吸收材料。详细而言,涉及在近红外区域具有吸收、对于利用激光的信息记录材料、或要求近红外线吸收能力(或热射线吸收能力)的各种用途(例如近红外线吸收用的各种滤光器、农业用薄膜、汽车内外装饰材料)等有用的近红外线吸收性合成树脂组合物及近红外线吸收材料。
技术介绍
近年来,提出了吸收近红外线的近红外线吸收材料(热射线屏蔽材料)的各种用途,强烈期望性能更好的材料。例如甲基丙烯酸树脂、聚碳酸酯树脂等材料被用于建筑物或汽车等交通工具的窗户、顶窗、门或圆天棚等所谓的玻璃装配(glazing)用途,期望能够充分吸收可见光,同时抑制室内温度的上升。 此外,在植物的栽培中,温室或塑料大棚出于改善农作物的收获内容或改变收获时期的目的等而被积极采用,期望在实质上不阻止植物的生育所需的可见光线的透射的情况下有效地屏蔽热射线的薄膜。此外,在磁带等进行信息记录介质的记录、再生的电气产品的驱动或停止中经常使用近红外线,但在这样的电气产品中,需要屏蔽来自外部的近红外线。此外,从等离子体显示器发出的近红外线光对无绳电话、使用近红外线遥控器的录像机等周边的电子设备产生作用,产生了引起误动作的问题。因此,期望发挥近红外线吸收效果的等离子体显示器用过滤器。在这些用途中使用的近红外线吸收材料中,以往采用吸收近红外线的近红外线吸收色素,例如使用花青系色素、酞菁系、聚甲炔系色素、方酸内鐵盐系色素、叶啉系色素、金属二硫醇络合物系色素、酞菁系色素、二亚铵鎗系色素、无机氧化物粒子等。然而,在使用这些近红外线吸收色素作为近红外线吸收材料的情况下,大多与热塑性树脂等合成树脂组合使用,这种情况下,以下情况较多:与树脂的相容性存在问题,在可见光线的区域具有吸收波长而损害树脂的透明性,此外还损害树脂的物性。此外,其近红外线吸收能力也不令人满意。另一方面,非专利文献I中虽然记载了联吡咯并异喹啉化合物,但其中关于与树脂并用的近红外线吸收性合成树脂组合物及近红外线吸收材料未作任何记载,也无法得到其见解。现有技术文献非专利文献非专利文献I:HETER0CYCLES, Vol.65,N0.6,2005, pp.1385-1392
技术实现思路
专利技术所要解决的问题因此,本专利技术的目的在于提供近红外线吸收能力优异、且不会损害树脂本身的物性的近红外线吸收性合成树脂组合物,此外,提供近红外线吸收能力优异、具有树脂本身的优异物性的近红外线吸收材料。用于解决问题的方法本专利技术者们为了解决上述课题进行了深入研究,结果发现,若使用联吡咯并异喹啉化合物,则可达成上述目的,从而完成了本专利技术。S卩,本专利技术提供含有下述通式(I)表示的联吡咯并异喹啉化合物及合成树脂的近红外线吸收性合成树脂组合物、及将该近红外线吸收性合成树脂组合物成形而得到的近红外线吸收材料。权利要求1.一种近红外线吸收性合成树脂组合物,其含有下述通式(I)表示的联吡咯并异喹啉化合物及合成树脂, 2.根据权利要求1所述的近红外线吸收性合成树脂组合物,其中,相对于所述合成树脂100质量份,所述通式(I)表示的联吡咯并异喹啉化合物的含量为0.001 20质量份。3.根据权利要求1或2所述的近红外线吸收性合成树脂组合物,其中,所述合成树脂为热塑性树脂。4.一种近红外线吸收材料,其是将权利要求1 3中任一项所述的近红外线吸收性合成树脂组合物进行成形而得到的。全文摘要本专利技术提供含有下述通式(1)表示的联吡咯并异喹啉化合物及合成树脂的近红外线吸收性合成树脂组合物。式中,R1及R2可以相互相同也可以不同,分别表示氢原子、卤素原子、可以具有取代基的碳原子数为1~20的烷基、碳原子数为1~20的烷氧基、碳原子数为6~20的芳基、碳原子数为7~20的芳基烷基或碳原子数为5~12的环烷基。相对于上述合成树脂100质量份,上述联吡咯并异喹啉化合物的含量优选为0.001~20质量份,文档编号C08K5/3465GK103228735SQ20118005698公开日2013年7月31日 申请日期2011年11月10日 优先权日2010年12月20日专利技术者上田直人, 野村和清, 川本尚史 申请人:株式会社艾迪科本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:上田直人野村和清川本尚史
申请(专利权)人:株式会社艾迪科
类型:
国别省市:

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