磁控溅射阴极靶材的密封结构制造技术

本实用新型专利技术涉及磁控溅射阴极靶材的密封结构。包括靶材和阴极座，所述的靶材固定在靶背板上，所述的靶背板与阴极座之间设有导磁不锈钢密封板，所述的导磁不锈钢密封板与阴极座之间设有密封两者的第一密封圈，所述的导磁不锈钢密封板及靶背板分别与阴极座固定连接。由上述技术方案可知，本实用新型专利技术通过在阴极座与靶背板之间增设一个导磁不锈钢密封板，且该导磁不锈钢密封板与阴极座相密封固定，这样在日常对靶背板进行检查、维修等操作时，直接将靶背板与阴极座相拆卸即可，整个拆卸过程不会影响到阴极座与导磁不锈钢密封板之间的密封圈，避免了对密封圈的损害，提高了密封圈的使用寿命，减少了日常的使用成本。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Sealing structure of magnetron sputtering cathode target

The utility model relates to a sealing structure of a magnetron sputtering cathode target. Including the target and the cathode, wherein the target is fixed on the target board, between the target plate and the cathode seat is provided with a magnetic stainless steel sealing plate, a first sealing ring of magnetic stainless steel and the seal between the plate and the cathode sealing seat is provided with the magnetic stainless steel sealing plate and the target plate respectively seat is fixedly connected with the cathode. In the technical scheme, the utility model between the cathode base and target back an additional magnetic stainless steel sealing plate, and the magnetic conductive stainless steel sealing plate and cathode seat is sealed and fixed, so in the daily inspection and maintenance operations on the target board, directly to the target plate and cathode seat disassembly the whole process of removing, will not affect the sealing ring between the cathode base and magnetic stainless steel sealing plate, to avoid sealing ring damage, improve the service life of the sealing ring, reduces the cost of daily use.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种密封装置，具体说涉及一种用于真空磁控溅射靶阴极的密封>J-U ρ α装直。
技术介绍
目前，在连续式真空磁控溅射镀膜设备上，靶材在安装过程中的密封结构非常简单，整个靶材只依靠一根长约2.73m,直径6mm的O型胶圈来密封，具体说即靶材是固定在靶背板上，靶背板与阴极座之间设有密封两者的O型胶圈，同时靶背板与阴极座之间通过60颗内六角螺钉进行固定。这种结构在实际使用过程中，容易出现以下弊端:(1)0型胶圈在频繁的拆卸过程中容易损坏，使用成本高；(2)密封区域跨度大，对靶背板上的密封面平整度要求高，而实际使用过程中，靶背板极易变形；(3)更换靶背板时，对操作人员的技能要求较高，如内六角长螺钉受力不均、O型胶圈压合不平等原因，均会造成更换过程失败，产生密封不良而漏气。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种磁控溅射阴极靶材的密封结构，该密封装置可以避免日常操作时对密封胶圈的频繁更换，减少日常使用成本。为实现上述目的，本技术采用了以下技术方案:包括靶材和阴极座，所述的靶材固定在靶背板上，所述的靶背板与阴极座之间设有导磁不锈钢密封板，所述的导磁不锈钢密封板与阴极座之间设有密封两者的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁控溅射阴极靶材的密封结构，包括靶材（1）和阴极座（2），所述的靶材（1）固定在靶背板（3）上，其特征在于：所述的靶背板（3）与阴极座（2）之间设有导磁不锈钢密封板（4），所述的导磁不锈钢密封板（4）与阴极座（2）之间设有密封两者的第一密封圈（5），所述的导磁不锈钢密封板（4）及靶背板（3）分别与阴极座（2）固定连接。

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射阴极靶材的密封结构，包括靶材(I)和阴极座(2)，所述的靶材(I)固定在靶背板(3)上，其特征在于:所述的靶背板(3)与阴极座(2)之间设有导磁不锈钢密封板(4)，所述的导磁不锈钢密封板(4)与阴极座(2)之间设有密封两者的第一密封圈(5)，所述的导磁不锈钢密封板(4)及靶背板(3)分别与阴极座(2)固定连接。2.根据权利要求1所述的磁控溅射阴极靶材的密封结构，其特征在于:所述的阴极座(2)与靶背板(3)之间设有两个水嘴(6)，所述的靶背板(3)及导磁不锈钢密封板(4)上分别设有与水嘴(6)相配合的第一、第二安装孔。3.根据权利要求2所述的磁 控溅射阴极靶材的密封结构，其特征在于:所述的靶背板(3)上的第一安装孔处焊接有固定块(7)，固定块(7)上设有与水嘴相配合的第三安装孔，且固定块(7)与导磁不锈钢密封板(4)之间固定连接。4.根据权利要求3所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈诚，邵帅，刘西宁，
申请(专利权)人：安徽省蚌埠华益导电膜玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：