The utility model relates to a vertical multi target magnetron sputtering coating device, which relates to the technical field of sputtering coating. The length width ratio is greater than 3 rectangular sputtering target, the box type vacuum chamber, the rectangular sputtering target more than 3 parallel coaxial line, the width of all target is parallel to the long side of the vacuum chamber, 2 times less than the distance between the target and the width of the rectangle target. A linear motion structure of rectangular sputtering target above the substrate holder and the substrate heater is fixed on a linear motion mechanism, and the long side of the stepping motor driving along the vacuum chamber of the reciprocating motion of the starting point and the end point of the straight reciprocating motion and velocity are programmed by a controller, thereby the single-layer and multi-layer, periodic structure of thin film preparation. The multi target magnetron sputtering table has the advantages of small size of the vacuum chamber and small target size, and the uniform area of the prepared film is large, and the utility model has the advantages of high pumping speed and high coating efficiency.
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及溅射镀膜
,具体涉及一种多靶磁控溅射镀膜装置。
技术介绍
磁控溅射技术广泛用于制备各种光学、电子、机械等薄膜,在实际应用中,所需制备的薄膜往往是多层的、甚至是周期性排列的(如:超晶格薄膜)、需要在不破坏真空的条件下一次完成。因此,多靶溅射系统应运而生,它通过在真空室内以一定的方式放置多个靶,配以工件盘的适当运动,能够实现多个靶位的依次溅射甚至是共溅射。但是,在同一个真空室内安装多个靶,也不可避免地增大了真空室的容积,需要采用更大口径的真空泵,设备的成本大大增加。现有的多靶溅射台绝大多数采用圆形真空室和旋转基片架的几何配置,靶通常为2 4个,且多为平面圆形靶,按结构可分为以下几类:I)行星运动式:多个圆形靶均匀分布在真空室底板上方的同一个圆周上,I 6个圆形基片在该圆周的上方(也可有一定的偏心距)进行行星运动(即公-自转同步运动),参见文献 Multilayer optical coating fabrication by dc magnetron reactivesputtering, SPIEj678:134,1986。2)公-自转分步运动式:靶和基片的几何布局与行星运动式相同,只是基片架的公转运动和自转运动是分开的,即开始仅仅进行公转,以使得基片转位而对准某个溅射靶,其后的溅射过程基片仅仅进行自转。3)基片固定自转式:基片安装于底板中心的正上方,基片仅进行自转而不公转。多个圆形溅射靶安装于真空室的底板或侧壁上,呈一定的倾斜角而使得靶对准基片。此种结构的最大特点是方便进行多靶共溅射。参见文献:多靶直流磁控共溅射系统的研制,真空电子技术, ...
【技术保护点】
一种直列多靶磁控溅射镀膜装置,包括1个真空室,真空室内设置有n个矩形溅射靶(3)、1个基片架、1个基片加热器、1个直线运动机构,真空室外具有1个步进电机;其特征在于,所述真空室为箱式真空室,n个矩形溅射靶相互平行并共轴排成一列,靶间距小于矩形靶宽度的2倍,所有矩形溅射靶的宽度方向都平行于真空室的长边;矩形溅射靶上方设置有一个直线运动结构,基片架和基片加热器固定于直线运动机构之上,并在步进电机的驱动下能够沿真空室的长边作直线往复运动,直线往复运动的起始点、终止点和运动速度由一个控制器进行编程设置,其最大行程覆盖了所有矩形溅射靶。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:杜晓松,林庆浩,邱栋,蒋亚东,
申请(专利权)人:电子科技大学,
类型:实用新型
国别省市:
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