The utility model discloses a wafer grinding machine, which solves the existing grinding on the wafer surface, slow speed, structure of equipment required relatively complicated problems, the technical scheme of a wafer grinding machine, which comprises a base and a grinding mechanism, on grinding mechanism comprises a grinding disc. It is characterized in that the base is provided with a grinding mechanism, grinding mechanism comprises a lower grinding disc; the limiting plate is arranged between the grinding mechanism and grinding mechanism, a limiting plate arranged above the lower grinding disc is arranged on the base for fixing the position limiting plate in the horizontal direction of the limiting device for a limit the transparent plate is provided with a plurality of wafers, placed the limit, the limit at the mouth of the grinding surface grinding disk within the range.
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶片表面加工处理机构,尤其涉及一种用于对晶片表面进行研磨抛光的研磨机。
技术介绍
晶片作为成像设备的一种透光器材,在加工过程中需要对晶片的表面进行研磨抛光处理,在对晶片进行研磨抛光处理时,通常需要用到研磨机。现有的研磨机一般均是采用单面研磨的方式来对晶片表面进行研磨抛光处理的,而晶片的正反两面通常均需要进行研磨抛光处理。因此,现有对晶片表面进行研磨抛光时,均需要两道工序,即需要分别对晶片的正反两面进行研磨。这种处理方式相对较复杂,效率不高。在现有技术条件下,晶片在被研磨前,均需要对晶片的位置进行固定,以便研磨盘的研磨面在晶片表面上游走研磨。现有的在对晶片进行固定时一般采用吸气盘的方式进行的,即在吸气盘的表面上加工气槽,气槽与吸气管相通,晶片放置在吸气盘的表面上后,吸气管抽吸气槽内的空气,利用气体吸力而实现晶片在吸气盘上位置的固定。这就需要一套抽气设备,且在操作上也显得麻烦。中国专利技术专利申请(申请号:201110371305.X)中公开了一种研磨机,包括研磨机构、与所述研磨机构相连的传动机构,所述传动机构下面连有驱动机构,所述研磨机构包括上抛光片和下抛光片,所述上抛光片下面套有上研磨盘,所述下抛光片上面套有下研磨盘,所述上研磨盘和下研磨盘上均刻有印痕,所述上研磨盘和下研磨盘上的印痕均组成方格,所述传动机构包括支撑所述下抛光片的支撑杆和安装在所述支撑杆周围且与所述 ...
【技术保护点】
一种晶片研磨机,包括基座和上研磨机构,上研磨机构包括上研磨盘,其特征在于,基座上设有下研磨机构,下研磨机构包括下研磨盘;在上研磨机构和下研磨机构之间设有限位板,限位板设置在下研磨盘上方,基座上设有用于固定限位板在水平方向上位置的限位装置,限位板上设有若干通透的、用于放置晶片的限位口,这些限位口位于下研磨盘的研磨面范围内。
【技术特征摘要】
1.一种晶片研磨机,包括基座和上研磨机构,上研磨机构包括上研磨盘
,其特征在于,基座上设有下研磨机构,下研磨机构包括下研磨盘;
在上研磨机构和下研磨机构之间设有限位板,限位板设置在下研磨盘
上方,基座上设有用于固定限位板在水平方向上位置的限位装置,限
位板上设有若干通透的、用于放置晶片的限位口,这些限位口位于下
研磨盘的研磨面范围内。
2.根据权利要求1所述的晶片研磨机,其特征在于,下研磨机构还包括研
磨台,下研磨盘设置在研磨台上,研磨台联接在两位式的升降机构上
,所述限位装置在基座上的高度与研磨台的高位相对应。
3.根据权利要求2所述的晶片研磨机,其特征在于,所述限位装置包括立
柱、拨杆、连接杆和限位块,立柱竖直地设置在基座上,连接杆伸向
限位板,限位块固定在连接杆的伸出端部,限位块用于和限位板相抵
靠。
4.根据权利要求3所述的晶片研磨机,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:周宾,
申请(专利权)人:浙江水晶光电科技股份有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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