滤光叠层结构及带通滤光片制造技术

技术编号:40685390 阅读:4 留言:0更新日期:2024-03-18 20:10
一种滤光叠层结构及带通滤光片,涉及滤光片技术领域。该滤光叠层结构包括N个介质膜堆和M个金属膜层;N和M均为大于1的整数,介质膜堆和金属膜层呈交替排布;介质膜堆至少包括高折射率层,高折射率层的折射率大于3。该滤光叠层结构能够抑制近红外波段产生的次峰,且能够有效减少膜层总厚度和层数。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及滤光片,具体而言,涉及一种滤光叠层结构及带通滤光片


技术介绍

1、高光谱成像技术是基于非常多窄波段的影像数据技术,它将成像技术与光谱技术相结合,探测目标的二维几何空间及一维光谱信息,获取高光谱分辨率的连续、窄波段的图像数据。其可以通过分析光谱组成来获取具有较高还原度的照片、获取墙面漆的颜色,或者鉴别苹果的成熟度等。该高光谱成像技术中一般会使用对角度不敏感、截止带具有较低透过率的带通滤光片,要求在一定角度范围内所有的光线的透过率具备某种带通特性(即允许特定波段的光线通过,而其它波段截止)。

2、现有技术中,也出现了一种能够用于可见光波段的、具有低角度偏移性能和宽波段截止的、由金属和介质膜堆构成的多通道滤光片,然而,该带通滤光片对于近红外波段的多通道滤光片具有如下明显缺陷:第一、该带通滤光片会产生短波段的次峰,导致短波段截止深度不够,会产生大量的干扰信号;第二、一般用于长波波段的滤光片厚度会比可见光波段的厚,而消除次峰要使用更多的膜堆,增加设计和生产难度,降低生产效率和稳定性。因此,如何提供一种新的带通滤光片,以抑制近红外波段产生的次峰,且能够有效减少膜层总厚度和层数是目前亟待解决的技术难题。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种滤光叠层结构及带通滤光片,该滤光叠层结构及带通滤光片能够抑制近红外波段产生的次峰,且能够有效减少膜层总厚度和层数。

2、本技术的实施例是这样实现的:

3、本技术的一方面,提供一种滤光叠层结构,该滤光叠层结构包括n个介质膜堆和m个金属膜层;n和m均为大于1的整数,介质膜堆和金属膜层呈交替排布;介质膜堆至少包括高折射率层,高折射率层的折射率大于3。该滤光叠层结构能够抑制近红外波段产生的次峰,且能够有效减少膜层总厚度和层数。

4、可选地,高折射率层内掺杂有非金属元素。

5、可选地,非金属元素为氧元素或者氮元素。

6、可选地,在非金属元素为氧元素时,高折射率层中氧元素占比小于或等于10%;在非金属元素为氮元素时,高折射率层中氮元素占比小于或等于10%。

7、可选地,高折射率层为氢化硅层或者锗层。

8、可选地,介质膜堆还包括与高折射率层呈层叠设置的第一介质层,第一介质层的折射率小于高折射率层的折射率。

9、可选地,介质膜堆还包括多个第二介质层,多个第二介质层和高折射率层呈层叠设置,且介质膜堆中任意相邻两层膜层的折射率不同。

10、可选地,高折射率层也包括多层,多层高折射率层和多层第二介质层呈交替设置。

11、可选地,在光束的入射角小于或等于60°时,滤光叠层结构的通道透过率大于30%,且在其余波段截止;

12、和/或,在光束的入射角小于或等于60°时,滤光叠层结构的光密度大于或等于2;

13、或者,在780nm~1800nm波长范围内,高折射率层的折射率大于3。

14、本技术的另一方面,提供一种带通滤光片,该带通滤光片包括上述的滤光叠层结构。

15、本技术的有益效果包括:

16、本申请提供的滤光叠层结构,该滤光叠层结构包括n个介质膜堆和m个金属膜层;n和m均为大于1的整数,介质膜堆和金属膜层呈交替排布;介质膜堆至少包括高折射率层,高折射率层的折射率大于3。本申请通过在介质膜堆内设置折射率大于3的高折射率层,且通过将介质膜堆和金属膜层进行交替堆叠设置,这样,能够显著抑制短波次峰,且能够降低截止带的透过率;同时,采用本申请的滤光叠层结构还可以降低膜层总厚度和层数,能够使得滤光叠层结构做到更轻薄;另外,本申请的滤光叠层结构的膜系结构简单,且膜层数量较少,因此,在制备上更加方便,能够提高生产效率。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种滤光叠层结构,其特征在于,包括N个介质膜堆和M个金属膜层;所述N和所述M均为大于1的整数,所述介质膜堆和所述金属膜层呈交替排布;所述介质膜堆至少包括高折射率层,所述高折射率层的折射率大于3。

2.根据权利要求1所述的滤光叠层结构,其特征在于,所述高折射率层内掺杂有非金属元素。

3.根据权利要求2所述的滤光叠层结构,其特征在于,所述非金属元素为氧元素或者氮元素。

4.根据权利要求3所述的滤光叠层结构,其特征在于,在所述非金属元素为氧元素时,所述高折射率层中所述氧元素占比小于或等于10%;

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的滤光叠层结构,其特征在于,所述高折射率层为氢化硅层或者锗层。

6.根据权利要求1至4中任意一项所述的滤光叠层结构,其特征在于,所述介质膜堆还包括与所述高折射率层呈层叠设置的第一介质层,所述第一介质层的折射率小于所述高折射率层的折射率。

7.根据权利要求1至4中任意一项所述的滤光叠层结构,其特征在于,所述介质膜堆还包括多个第二介质层,多个所述第二介质层和所述高折射率层呈层叠设置,且所述介质膜堆中任意相邻两层膜层的折射率不同。

8.根据权利要求7所述的滤光叠层结构,其特征在于,所述高折射率层也包括多层,多层所述高折射率层和多层所述第二介质层呈交替设置。

9.根据权利要求1所述的滤光叠层结构,其特征在于,在光束的入射角小于或等于60°时,所述滤光叠层结构的通道透过率大于30%,且在其余波段截止;

10.一种带通滤光片,其特征在于,包括权利要求1至9中任意一项所述的滤光叠层结构。

...

【技术特征摘要】

1.一种滤光叠层结构,其特征在于,包括n个介质膜堆和m个金属膜层;所述n和所述m均为大于1的整数,所述介质膜堆和所述金属膜层呈交替排布;所述介质膜堆至少包括高折射率层,所述高折射率层的折射率大于3。

2.根据权利要求1所述的滤光叠层结构,其特征在于,所述高折射率层内掺杂有非金属元素。

3.根据权利要求2所述的滤光叠层结构,其特征在于,所述非金属元素为氧元素或者氮元素。

4.根据权利要求3所述的滤光叠层结构,其特征在于,在所述非金属元素为氧元素时,所述高折射率层中所述氧元素占比小于或等于10%;

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的滤光叠层结构,其特征在于,所述高折射率层为氢化硅层或者锗层。

6.根据权利要求1至4中任意一项所述的滤光叠层结构,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:张睿智吴信昌金利剑
申请(专利权)人:浙江水晶光电科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1