阵列基板、液晶盒及显示装置制造方法及图纸

技术编号:8906513 阅读:176 留言:0更新日期:2013-07-11 04:05
本发明专利技术涉及显示技术领域,公开了一种阵列基板,所述阵列基板上还形成有反射层,所述反射层之上形成有广域λ/4补偿层。还公开了一种液晶盒,由下至上包括:阵列基板、液晶层及与阵列基板相对的对向基板,所述阵列基板上还形成有反射层,所述反射层之上形成有广域λ/4补偿层。还公开了一种显示装置。本发明专利技术通过在阵列基板上对应的反射区域直接设置反射层,并在反射层上设置广域λ/4补偿层,不但达到了较好的显示效果,而且避免了在阵列基板上形成树脂层垫高及上下偏光片上制作广域λ/4补偿层的步骤,从而节省了制作工序及成本。而且能够实现单盒厚度的液晶盒。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
,特别涉及一种阵列基板、液晶盒及显示装置
技术介绍
现有技术中,为了实现扭曲向列显不(Twisted Nematic, TN)的半透过模式,通常应用双盒厚(dual gap)的液晶盒。如图1所不,该双盒厚的液晶盒通常包括:阵列基板101、彩膜基板102、下偏光片103及上偏光片104,阵列基板101和彩膜基板102之间为液晶层。该液晶盒中每个像素单元分成反射区域A和透射区域B,反射区域A设有反射片106以反射光线。在双盒厚(dual gap)的液晶盒中,通常采用树脂(Resin)层105垫高反射片106的方式形成反射区域A,使反射区域A的液晶盒厚度(厚度为d/2)为透射区域B的液晶盒厚度(厚度为d)的一半,以达到两个区域有相同的光程,从而实现TN半反半透显示模式。上述应用树脂层105来形成反射区域A和透过区域B的盒厚(Cell Gap)差。该情况下,需要追加Resin mask的工序,其制作工序相对复杂,并且为了使反射区域A和透过区域B的光程保持一致,需在下偏光片103和上偏光片104中或是在树脂层105表面设置λ /4补偿层(图中未示出),按RGB各波本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板上还形成有反射层,所述反射层之上形成有广域λ/4补偿层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:崔贤植李会徐智强严允晟
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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