表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品制造技术

本发明专利技术提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品。所述表面保护膜为即使被粘物密合层的粘合力降低，在制造表面保护膜的工序中，被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜之间也不发生浮起，具有表面平滑的被粘物密合层，从被粘物剥离时能够轻松地剥离，在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜，且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。表面保护膜10具有在透明基材1的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5，为了保护被粘物密合层2的表面，将在基材4的一面上形成粘合剂层3的覆盖膜6经由粘合剂层3贴合至被粘物密合层2的表面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及保护透镜等的光学部件、偏光板、漫射板、导光板等的光学膜、半导体相关仪器等的精密机械等等的各种工业制品的表面的表面保护膜。更详细地，本专利技术涉及能够密合于被粘物、剥离时轻松地剥离的表面保护膜。本专利技术提供紧密密合于被粘物保护被粘物，并且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少的表面保护膜，以及贴合有所述表面保护膜的光学部件、工业制品。此外，作为本专利技术的表面保护膜的用途，可详细举出:相机镜头、眼镜镜片、车辆用前大灯透镜、光纤等的光学部件、各种显示器(PDP、IXD、有机EL等)的图像显示体、透镜阵列片、触控面板、偏光板、漫射板、相位差板、导光板等的各种光学膜、不锈钢板、铝板等的金属板、亚克力板々 ')力板)等的塑料板、玻璃板等的建筑材料以及工业材料、医疗仪器、半导体制造相关仪器等的精密仪器等等的表面保护中使用的表面保护膜。
技术介绍
在多种工业制品的制造工序中，为保护工业制品的表面免遭污染、破损而使用表面保护膜。例如，在制造、搬运显示器的图像显示体、光学玻璃、各种光学膜等的光学部件时，在该光学部件的表面贴合表面保护膜，防止在后续工序中表面的污染和划伤。并且，可在贴合有表面保护膜的状态下进行各种光学膜等的光学部件的外观检查等的制品检查。此夕卜，可在显示器的表面贴合有表面保护膜的状态下进行组装工序等，作为工序用使用。在现有技术中，一般的表面保护膜的构成为，在具有挠性的树脂膜形成的基材的一面上设有微粘合力的粘合剂层。用于该表面保护膜的粘合剂层为，例如，为贴合于显示器的表面、玻璃、各种光学膜等的具有粘附性(接着性)的层。并且，使得粘合剂层为微粘合性是为了使得贴合于显示器的表面、玻璃、各种光学膜等的表面的保护膜在使用完之后从贴合表面上剥离除去时，能够顺利地剥离，且不发生粘合剂残留。作为用于表面保护膜的粘合齐U，可举出丙烯酸类粘合剂、氨基甲酸乙酯类粘合剂、橡胶类粘合剂等的各种粘合剂，以及聚乙烯醋酸乙烯酯树脂等的粘附性树脂等。此外，近年随着显示器的大型化，在将表面保护膜贴合于大面积的显示器画面而使用时，也需要能轻松地剥离、操作容易的表面保护膜。对于该剥离时能轻松地剥离的表面保护膜的要求，在专利文献I中提出了具有在丙烯酸类粘合剂中含有硅酮类化合物的粘合层的表面保护膜。但是，由于硅酮类化合物为油状的性状，在剥离表面保护膜的时候会污染被粘物的表面。 此外，制造工序用的表面保护膜从被粘物剥离后，在该被粘物表面上贴合光学膜时，或者贴合装运用表面保护膜时，如果由于污染而使被粘物表面具有残留物，则产生被粘物表面与光学膜或装运用表面保护膜之间的密合力低下、剥离的缺点。在专利文献2中提出了在具有指定功能的膜的至少一个面上设有密合于平滑面的硅酮层的平滑面密合膜。如果将硅酮树脂作为与被粘物的密合层使用，则在表面保护膜剥离后会污染被粘物的表面。此外，制造工序用的表面保护膜从被粘物剥离后，在该被粘物表面上贴合光学膜时，或者贴合装运用表面保护膜时，如果由于污染而使被粘物表面具有的残留物，则产生被粘物表面与光学膜或装运用表面保护膜之间的密合力低下、剥离的缺点。因此，在专利文献3中，为了减少被粘物密合层引起的被粘物的表面污染，提出至少重新贴合一次以上密合于作为被粘物密合层的硅酮层的表面上的隔离膜。然而，在需要繁杂的隔离膜的重新贴合工序的同时，产生由于增减隔离膜的重新贴合的次数，被粘物密合层污染性降低的程度变化的问题。此外，在被粘物密合层中使用硅酮树脂的现有技术的表面保护膜中，具有密合层的粘合力降低与至隔离膜的密合性也降低，在制造该表面保护膜的工序中，被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜(在专利文献3中为隔离膜)之间发生浮起，形成浮起的部分的被粘物密合层的树脂变形之类的问题。并且，在被粘物密合层变形的情况下，将表面保护膜贴合于被粘物时，产生气泡进入等现象，成为不能完美粘合的原因，存在贴合表面保护膜时外观的恶化、显示器的图像失真的问题。特开2001-108982号公报特开平10-95073号公报特开2008-55858号公报
技术实现思路
本专利技术鉴于上述情况，提供一种即使被粘物密合层的粘合力降低，在制造表面保护膜的工序中，被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜之间也不发生浮起的表面保护膜。本专利技术提供表面保护膜以及贴贴合有所述表面保护膜的光学部件、工业制品，所述表面保护膜为具有表面平滑的被粘物密合层，从被粘物剥离时能够轻松地剥离，在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜，且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。为解决上述课题，本专利技术以下述作为技术思想:为了即使在对被粘物的粘合力 密合力弱的情况下，在制造表面保护膜的工序中，被粘物密合层与覆盖膜之间也不发生浮起，并且从被粘物密合层除去硅酮迁移成分，将在由合成树脂膜形成的基材的一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜经由上述粘合剂层贴合于表面保护膜的被粘物密合层的表面。为了解决上述课题，本专利技术提供一种表面保护膜，其具有在透明基材的至少一面上层积由硅酮树脂形成的被粘物密合层得到的被粘物密合膜，为了保护上述被粘物密合层的表面，将在基材的一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜经由上述粘合剂层贴合于该被粘物密合层的表面。此外，上述被粘物密合层的厚度优选为2 250 ii m。此外，上述覆盖膜的粘合剂层优选由丙烯酸类粘合剂形成。此外， 本专利技术提供一种光学部件，其通过上述被粘物密合层贴合有从上述表面保护膜剥离上述覆盖膜得到的上述被粘物密合膜。此外，本专利技术提供选自显示器、光学膜、建筑材料、工业材料、医疗仪器、精密仪器等的工业制品组的任一工业制品，其通过上述被粘物密合层贴合有从上述表面保护膜剥离上述覆盖膜得到的上述被粘物密合膜。根据本专利技术的表面保护膜，为在被粘物密合层的表面上，贴合用于保护该被粘物密合层的、在合成树脂膜形成的基材的一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜。由此，即使是具有粘合力 被粘物密合力非常低的被粘物密合层的表面保护膜，在制造该表面保护膜的工序中，被粘物密合层与覆盖膜之间也不发生浮起，能够稳定地制造具有表面平滑的被粘物密合层的表面保护膜。此外，成为在被粘物密合层上使用硅酮树脂时的问题的由于低分子量的硅酮的迁移而产生被粘物的污染的问题，也在剥离除去上述覆盖膜时，通过在一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜的粘合剂层，除去硅酮树脂的表面上露出的低分子量的硅酮，能够降低被粘物的污染。其结果是，通过本专利技术，能够提供一种表面保护膜，其为具有表面平滑的被粘物密合层，在剥离时能轻松地剥离，在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜，且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。附图说明显示本专利技术的表面保护膜的大致结构的例子的剖面图。显示本专利技术的表面保护膜的使用形态的例子的剖面图。符号说明1…透明基材、2…被粘物密合层、3…粘合剂层、4…基材、5…被粘物密合膜、6…覆盖膜、7…光学部件(被粘物)、10…表面保护膜。具体实施方式以下基于附图，说明根据本专利技术的表面保护膜的实施方案。图1显示根据本专利技术的表面保护膜的一个例子的剖面图。该表面保护膜10由在透明基材I的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5和在基材4的一面上形成粘合剂层3得到的覆盖膜6构成。被本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面保护膜，其具有在透明基材的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层得到的被粘物密合膜，为了保护上述被粘物密合层的表面，将在基材的一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜经由上述粘合剂层贴合于该被粘物密合层的表面。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：林益史，千嶋宪治，宫坂洋之，
申请(专利权)人：藤森工业株式会社，
类型：发明
国别省市：