【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带
[0001]本专利技术涉及一种带
。
[0002]本申请基于
2021
年4月
28
日在日本申请的日本特愿
2021
‑
076510
号主张优先权,并将其内容援用至此
。
技术介绍
[0003]在半导体部件的制造工序中,如专利文献1~4所记载的那样,为了粘贴要加工的半导体,而使用具有粘着剂层的带
。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开
2003
‑
105292
号公报
[0007]专利文献2:日本特开
2010
‑
225753
号公报
[0008]专利文献3:日本特开
2010
‑
251722
号公报
[0009]专利文献4:国际公开第
2017/154619
号
技术实现思路
[0010]技术问题
[0011]在固定于带的半导体为芯片的情况下,要求带对芯片的追随性
。
追随性是指带相对于具有立体形状的芯片适当延伸而几乎没有间隙地进行粘贴
。
另外,在将固定于带的半导体芯片安装到转接板
(interposer)
等基板时,要求带在回流工序中具有耐受焊料的熔融温度的耐热性
。
[0012]本专利技术是鉴于上述情况而完成的, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种带,其特征在于,其是在基材层的一面具有粘接层的带,所述带的断裂伸长率为
100
%以上
、
弹性模量为
2GPa
以下,且在
230℃
×
80
秒的加热后,保持断裂伸长率为
100
%以上
、
弹性模量为
2GPa
以下
。2.
根据权利要求1所述的带,其特征在于,能够通过所述粘接层固化而使粘接力降低
。3...
【专利技术属性】
技术研发人员:铃木佑奈,佃壮一,千嶋宪治,
申请(专利权)人:藤森工业株式会社,
类型:发明
国别省市:
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