一种抛光磨头制造技术

本实用新型专利技术属于磨削、抛光设备，具体公开了一种抛光磨头，包括磨头主体、磨料及穿设于磨头主体内的主轴，磨头主体上设有安设磨料的凹槽，主轴为单向贯穿的空心圆柱，空心圆柱内设有滚珠，主轴表面及凹槽内侧设有细孔。本实用新型专利技术可自由更换掉已磨损的磨料，且采用滴渗方式输送润滑冷却油，节能降耗，降低成本。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于磨削、抛光设备，具体涉及一种抛光磨头。
技术介绍
抛光磨头， 一般包括磨头主体部分、磨料及主轴，抛光磨头接在抛光 机械上，可以对石材、木材、及陶瓷进行磨削以及抛光，根据磨头的形状 及结构，可以进行平面加工，外圓及内圓加工，广泛应用于木业、石材业 及陶瓷业上。抛光磨头所使用的磨料可以为砂纸、油石、金刚石等。传统 的磨料与磨头主体固结为一体，或者粘贴、镶嵌在磨头主体外层，磨料磨 损快，而当需要加工不同的材料时，就需要整体更换不同的磨头，或者只 需更换磨料但费时费力，且磨料得不到充分使用，生产效率亦得不到提高。 另外，传统抛光磨头的润滑冷却油的添加， 一般采取的是浇注方式，无法 精确把握用量，不能充分利用所添之润滑冷却油，造成成本居高不下。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可自由更换已磨损磨料的抛光磨头， 并且采用滴渗式给抛光磨头输送润滑冷却油，能提高生产效率，节省成本。为实现上述目的，本技术采用下列技术方案 一种抛光磨头，包 括磨头主体、磨料及穿设于磨头主体内的主轴，磨头主体上设有安设磨料 的凹槽，主轴为单向贯穿的空心圓柱，空心圆柱内设有滚珠，主轴表面及 凹槽内侧设有细孔。更优的，磨头主体呈圆柱状，安" 殳磨料的凹槽设于磨头主体的圓柱表面。更优的，磨头主体呈圆盘状，安设磨料的凹槽设于磨头主体的底面。 更优的，凹槽呈辐射状分布于磨头主体上，凹槽的截面形状可为圆形、 梯形或三角形。更优的，磨头主体的底面一側设有能防止安设于凹槽内的磨料沿磨料 轴向发生位移的挡盘。更优的，主轴上设有定位键，磨头主体内设有与所述定位键适配的4建 槽，主轴通过定位键与键槽固定于磨头主体内。更优的，主轴一端延伸出一轴帽，轴帽外径等于磨头主体的底面直径。更优的，主轴上与轴帽相对的一端设有磁吸密封块，密封块吸附于主 轴端面。本技术在磨头主体上设有凹槽，磨料可以安放在凹槽内，当磨料 磨损，只需要更换与凹槽的形状、大小相匹配的磨料即可，或者翻转磨料，使用未磨损部位，从而充分利用磨料；磨头主体上的挡盘以及主轴上的轴 帽可以限制磨料在工作时沿着其轴向发生位移，加工效果稳、定；主轴呈空 心圓柱状，可往里面注入润滑冷却油，并加盖磁吸密封块，抛光磨头工作 过程中，旋转主轴内部的滚彭M目互碰撞挤压，4吏润滑冷却油通过主轴表面 及磨头主体凹槽内侧的细孔，以滴渗的方式渗透流出，润滑冷却油利用效 率高，节能降耗，降低成本。附图说明图1为本技术整体结构爆炸示意图； 图2为本技术装配图3为本技术磨盘主体实施例一的结构示意图； 图4为本技术主轴结构示意图5为本技术磨盘主体实施例二的结构示意图。图中1(1')、磨头主体；11、凹槽；12、挡盘； 13、 4泉槽；2、磨料；3、主轴；31、滚珠；32、细孔； 33、定位键；34、轴帽；35、密封块具体实施方式以下结合附图和实施例对本技术作进一步说明如图1至图4所示，本技术公开了一种抛光磨头，它既可以通过 电机与抛光机械连接在一起使用，也可以安装在手动工具上。本技术 抛光磨头包括磨头主体l、磨术+2及^:置在磨头主体1内的主轴3。主轴3 表面上有定位4建33,磨头主体1内有与定位键33适配的键槽13，主轴3 通过定位键33与键槽13固定于磨头主体l内。主轴3为单向贯穿的空心圆柱，空心圆柱内方文置有多并立滚珠31,主轴 3表面及凹槽11内侧均设有细孔32。使用中，可往主轴注入润滑冷却油， 并加盖磁吸密封块35，抛光磨头旋转工作时，主轴3内部的滚珠31相互 碰撞才齐压，润滑冷却油通过主轴3表面及磨头主体凹槽11内侧的细孔32, 以滴渗的方式渗透，这样润滑冷却油利用效率高，能降低成本。主轴3 —端有一轴帽34，轴帽34外径等于磨头主体1的底面直径， 主轴3上与轴帽34相对的一端有^f兹吸密封块35，密封块35吸附于主轴3 端面。磨头主体1的圓周表面或开设有六道凹槽11，凹槽ll呈辐射状排 列于磨头主体1的圆周表面，凹槽11的截面形状可为圆形、梯形及三角 形，用于放置各种不同形状的磨料2;而为了防止凹槽ll内的磨料2沿磨 料2的轴向发生位移，磨头主体l的底面一側设计有挡盘12。磨头主体l 上的挡盘12以及主轴3上的轴帽34都可以限制磨料2在工作时沿着其轴向发生位移，工作稳定。图3、图5所示，分别表示了两种不同形状的磨头主体。图3中第一 实施例的磨头主体1呈圆柱状，主要是用于具有深度的器皿外圆或内圆抛 光处理；图5，第二实施例与第一实施原理相同，不同的是，其磨头主体 1'为圆盘状，圆盘状磨头主体l'用于平面抛光处理。以上所述的仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本领 域的普通技术人员来说，在不脱离本技术创造构思的前提下，还可 以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。权利要求1.一抛光磨头，包括磨头主体、磨料及穿设于磨头主体内的主轴，其特征在于，所述磨头主体上设有安设磨料的凹槽，所述主轴为单向贯穿的空心圆柱，空心圆柱内设有滚珠，主轴表面及所述凹槽内侧设有细孔。2. 如权利要求1所述的抛光磨头，其特征在于，所述磨头主体呈圆柱 状，安设磨料的凹槽设于磨头主体的圆柱表面。3. 如权利要求1所述的抛光磨头，其特征在于，所述磨头主体呈圓盘 状，安设磨料的凹槽设于磨头主体的底面。4. 如权利要求2或3所述的抛光磨头，其特征在于，所述凹槽呈辐射 状分布于磨头主体上，凹槽的截面形状可为圆形、梯形或三角形。5. 如权利要求4所述的抛光磨头，其特征在于，所述磨头主体的底面 一侧设有能防止安设于凹槽内的磨料沿所述磨料轴向发生位移的挡盘。6. 如权利要求5所述的抛光磨头，其特征在于，所述主轴上设有定位 键，磨头主体内设有与所述定位键适配的键槽，主轴通过定位键与键槽固 定于磨头主体内。7. 如权利要求6所述的抛光磨头，其特征在于，所述主轴一端延伸出 一轴帽，轴帽外径等于磨头主体的底面直径。8. 如权利要求7所述的抛光磨头，其特征在于，所述主轴上与轴帽相 对的一端设有磁吸密封块，密封块吸附于主轴端面。专利摘要本技术属于磨削、抛光设备，具体公开了一种抛光磨头，包括磨头主体、磨料及穿设于磨头主体内的主轴，磨头主体上设有安设磨料的凹槽，主轴为单向贯穿的空心圆柱，空心圆柱内设有滚珠，主轴表面及凹槽内侧设有细孔。本技术可自由更换掉已磨损的磨料，且采用滴渗方式输送润滑冷却油，节能降耗，降低成本。文档编号B24B29/00GK201189631SQ20082010516公开日2009年2月4日 申请日期2008年5月5日 优先权日2008年5月5日专利技术者陈润添 申请人:陈润添本文档来自技高网...

【技术保护点】
一抛光磨头，包括磨头主体、磨料及穿设于磨头主体内的主轴，其特征在于，所述磨头主体上设有安设磨料的凹槽，所述主轴为单向贯穿的空心圆柱，空心圆柱内设有滚珠，主轴表面及所述凹槽内侧设有细孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈润添，
申请(专利权)人：陈润添，
类型：实用新型
国别省市：44[中国|广东]