电子构件用正型感光性树脂组成物、硬化膜及其形成方法、以及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种电子构件用正型感光性树脂组成物、硬化膜及其形成方法、以及显示装置。本发明专利技术提供一种感度、涂布性及液晶污染性(电气特性)优异的感光性树脂组成物。本发明专利技术的电子构件用正型感光性树脂组成物的特征在于含有：(A)至少将(a1)具有酸基经酸分解性基保护所得的残基的结构单元、及(a2)具有交联性基的结构单元共聚合而成的聚合物；(B)光酸产生剂；以及(C)链状脂肪族环氧化合物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电子构件用正型感光性树脂组成物、使用该电子构件用正型感光性树脂组成物的硬化膜、具有该硬化膜的液晶显示装置或有机电致发光(Electroluminescence, EL)装置。另外，本专利技术涉及一种使用电子构件用正型感光性树脂组成物的硬化膜的制造方法。
技术介绍
在有机EL显示装置或液晶显示装置等中，设有已形成了图案的层间绝缘膜。该层间绝缘膜的形成时，广泛使用感光性树脂组成物，其原因在于:用来获得必要的图案形状的工序数少，而且可以获得充分的平坦性。对于使用像上文所述那样的感光性树脂组成物形成了图案的层间绝缘膜或平坦化膜来说，要求其为除了透明性优异以外、对用于形成电极的图案的蚀刻液或阻剂剥离液的耐性(耐溶剂性)或液晶污染性(电气特性)也优异的可靠性高的硬化膜。另外，近年来为了使有机EL显示装置或液晶显示装置具有高精细的显示特性，也要求可以将感光性树脂组成物无不均地涂布在基板上，另外要求感光性树脂组成物具有高解析性。作为能确保所形成的硬化膜的高可靠性(透明性、耐溶剂性)的感光性树脂组成物，例如已知以下的感放射线性树脂组成物，该感放射线性树脂组成物含有作为具有缩醛结构或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子构件用正型感光性树脂组成物，其特征在于，含有：(A)满足下述(1)或(2)的聚合物，(1)至少将具有酸基经酸分解性基保护所得的残基的结构单元(a1)、及具有交联性基的结构单元(a2)共聚合而成的聚合物，(2)含有具有酸基经酸分解性基保护所得的残基的结构单元(a1)的聚合物及含有具有交联性基的结构单元(a2)的聚合物；(B)光酸产生剂；以及(C)链状脂肪族环氧化合物。

【技术特征摘要】
2011.12.12 JP 2011-271239;2012.03.12 JP 2012-05401.一种电子构件用正型感光性树脂组成物，其特征在于，含有: (A)满足下述⑴或(2)的聚合物， (1)至少将具有酸基经酸分解性基保护所得的残基的结构单元(al)、及具有交联性基的结构单元(a2)共聚合而成的聚合物， (2)含有具有酸基经酸分解性基保护所得的残基的结构单元(al)的聚合物及含有具有交联性基的结构单元(a2)的聚合物； (B)光酸产生剂；以及 (C)链状脂肪族环氧化合物。2.根据权利要求1所述的电子构件用正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述(C)链状脂肪族环氧化合物的分子量为2000以下。3.根据权利要求1或2所述的电子构件用正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述(C)链状脂肪族环氧化合物在25°C下的粘度为3000mPa.s以下。4.根据权利要求1或2所述的电子构件用正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述(C)链状脂肪族环氧化合物为下述通式(X-1)所表示的树脂， 通式(X-1)5.根据权利要求1或2所述的电子构件用正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述结构单元(al)为具有羧基经缩醛保护所得的残基、或羧基经缩酮保护所得的残基的结构单元。6.根据权利要求1或2所述的电子构件用正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述结构单元(al)为下述式(A2')所表示的结构单元， 式(A2,)7.根据权利要求1或2所述的电子构件用正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述(C)链状脂肪族环氧化合物为下述通式(Χ-2)所表示的树脂，...

【专利技术属性】
技术研发人员：疋田政宪，杉原幸一，柏木大助，山田悟，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：