透明导电氧化物薄膜的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种透明导电氧化物薄膜的制备方法，包括：采用第一功率，在衬底上制备第一层薄膜；采用第二功率，在第一层薄膜上制备第二层薄膜；其中，第二功率大于第一功率。本发明专利技术提供的透明导电氧化物薄膜的制备方法，由于采用低功率制备出的TCO薄膜平整致密均匀，对衬底薄膜起到了很好的保护作用，因此，避免了采用高功率制备TCO薄膜时，溅射粒子对衬底薄膜造成轰击损伤的问题，从而制备出了高质量的TCO薄膜，提高了太阳能电池的转换效率。

【技术实现步骤摘要】
透明导电氧化物薄膜的制备方法
本专利技术涉及太阳能电池
，更具体地说，涉及一种透明导电氧化物薄膜的制备方法。
技术介绍
在太阳能电池的发展过程中，透明导电氧化物(transparentconductiveoxide，简称TCO)薄膜发挥了至关重要的作用，其由于具有禁带宽、可见光谱区光透射率高和电阻率低等光电特性，可作为前电极、背反射电极、叠层电池中的顶电池和底电池的中间层以及封装用的盖板玻璃薄膜等，广泛应用在单晶硅太阳能电池、多晶硅太阳能电池、薄膜太阳能电池和量子点太阳能电池等中。由于TCO薄膜是太阳能电池中非常重要的一部分，因此，如何用低成本的设备制备出高质量的TCO薄膜，必将成为光伏行业的技术追求。而磁控溅射法由于具有：沉积温度要求较低、沉积速率稳定可控、成膜均匀性稳定性良好、成本相对低廉和易于实现大规模生产等优点，而被广泛应用于制备TCO薄膜的工业生产中。但现有的制备TCO薄膜的方法中，只采用高功率制备TCO薄膜时，会出现晶界密度高、薄膜致密性差等问题，严重影响太阳能电池的转换效率。而只采用低功率制备TCO薄膜时，会由于沉积速率过低，而导致薄膜的产量降低，薄膜的制备成本增本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电氧化物薄膜的制备方法，应用于磁控溅射设备，其特征在于，包括以下步骤：采用第一功率，在衬底上制备第一层薄膜；采用第二功率，在第一层薄膜上制备第二层薄膜；其中，第二功率大于第一功率。

【技术特征摘要】
1.一种透明导电氧化物薄膜的制备方法，应用于磁控溅射设备，其特征在于，包括以下步骤：采用第一功率，在衬底上制备第一层薄膜，所述衬底为透明导电氧化物薄膜制备前的太阳能电池片；采用第二功率，在第一层薄膜上制备第二层薄膜；其中，第二功率大于第一功率；所述第一功率为1W～500W，包括端点值，所述第二功率为2000W～5000W，包括端点值。2.根据权利要求1所述的透明导电氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，还包括步骤：采用大于第二功率的第三功率，在第二层薄膜上制备第三层薄膜。3.根据权利要求2所述的透明导电氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，还包括步骤：采用大于第三功率的第四功率，在第三层薄膜上制备第四层薄膜。4.根据权利要求3所述的透...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈剑辉，李锋，沈燕龙，赵文超，李高非，胡志岩，熊景峰，宋登元，
申请(专利权)人：英利集团有限公司，
类型：发明
国别省市：