纳米级定位精度一维位移工作台制造技术

本发明专利技术提供一种纳米级定位精度一维位移工作台，包括工作台部分、位置检测部分、信号处理与控制电路部分、驱动部分；工作台包括粗调、精调两级定位工作台，粗定位工作台置于垂直方向的滚动导轨中间，粗定位工作台的下方是粗位移调整机构；精调定位工作台的底座置于粗定位工作台的内腔中，通过折叠式柔性铰支机构与粗定位工作台的内腔连接，精调定位工作台的底座下方与粗定位工作台之间有压电微位移器作为精位移调整机构；粗、精位移调整机构的驱动部分与信号处理与控制电路连接。采用固定于工作台上的衍射光栅作为工作台位移的测量传感器，形成与位移有关的检测信号。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及到一种纳米级定位精度一维位移工作台，具体地说，是一种一维位移工作台，该工作台可实现垂直方向的宽范围、超精密位移定位，用于微电子工程、计量科学与技术、光学与光电子工程、精密工程、生物工程、纳米科学与技术等科技领域的精密定位。
技术介绍
微电子工程、计量科学与技术、光学与光电子工程、精密工程、生物工程、纳米科学与技术等科技领域的发展，对精密定位提出了越来越高的要求。现有精密位移工作台一般存在工作范围大则精度低、定位速度慢(见L.Juhas，A.Vuianic，N.Adamovic，L.Nagy，B.Borovac，Aplatform for micro-positioning based on piezo legs，Mechatronics2001，11869-897)，而定位精度高、速度快则工作范围小的问题(见Awabdy BA，Shih WC，Auslander DM，Nanometer positioning of a linearmotion stage under static loads，IEEE Trans Mechatronics，19983(2)113本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米级定位精度一维位移工作台，包括工作台部分、位置检测部分、信号处理与控制电路部分、驱动部分，其特征在于：工作台包括粗调、精调两级定位工作台，粗定位工作台置于垂直方向的滚动导轨中间，粗定位工作台的下方是粗位移调整机构；精调定位工作台的底座置于粗定位工作台的内腔中，通过折叠式柔性铰支机构与粗定位工作台的内腔连接，精调定位工作台的底座下方与粗定位工作台之间有压电微位移器作为精位移调整机构；粗、精位移调整机构的驱动部分与信号处理与控制电路连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：戴蓉，谢铁帮，常淑萍，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：83[中国|武汉]