【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种用于在薄膜的生产过程中或在薄膜的再加工过程中的真空歴平鞋晉/Pc I 目.ο
技术介绍
本技术中所指的薄膜泛指厚度在30μ以下的薄膜,它包括塑料薄膜或金属薄膜(以金属钼膜为常见)。`在薄膜的生产过程中,存在拉膜和收卷过程,由于薄膜被拉伸到一定厚度以后,薄膜的两侧边很容易起皱,如果不对薄膜不进行展平,收卷时收卷后薄膜就会产生褶皱,这是不合符产品要求的,因此,在薄膜的生产过程中,会在薄膜的移动过程中,加装一些展平辊,常用的展平辊是螺纹展平辊,在螺纹展平辊的表面自中央向两侧对称分布有分别向两侧倾斜的螺纹,当薄膜接触其螺纹面时,与螺纹展平辊面上的螺纹产生摩擦,倾斜的螺纹将基材向螺纹展平辊两端扩展,使薄膜得以展平。这种螺纹展平辊是依靠薄膜与与螺纹展平辊面上的螺纹产生摩擦,而使薄膜展平的,但是,在薄膜的生产过程中,往往薄膜与螺纹展平辊面上的螺纹不能压的太紧,否则,就会造成薄膜纵向拉伸过渡。因此,使用螺纹展平辊来对低于30μ以下的薄膜进行展平,其展平效果不是很理想。在薄膜的再加工过程中,一般都需要经过放卷、薄膜表面处理(如涂布、印花或吸塑等)、后加工(如干燥)后 ...
【技术保护点】
一种真空展平装置,其特征在于:包括与负压源连接的负压源器件和设有许多吸附孔的吸附件,所述吸附件相对于所述负压源器件运动,并被负压源器件有选择性控制吸附件上的部分吸附孔与外界相通。
【技术特征摘要】
1.种真空展平装置,其特征在于:包括与负压源连接的负压源器件和设有许多吸附孔的吸附件,所述吸附件相对于所述负压源器件运动,并被负压源器件有选择性控制吸附件上的部分吸附孔与外界相通。2.据权利要求1所述的真空展平装置,其特征在于:所述负压源器件是具有第一端面和第二端面的圆筒,在所述圆筒的第一端面上设有吸附窗,所述带有吸附孔的吸附件为一圆盘,所述圆盘设置在圆筒的第一端面的内侧或外侧,所述圆盘相对于圆筒的第一端面旋转,露出于吸附窗的圆盘上的吸附孔为工作孔。3.据权利要求1所述的真空展平装置,其特征在于:所述负压源器件是具有第一端面和第二端面的圆筒,在所述园筒的筒身上设有许多与负压源内空相通的吸附孔,将所述设在所述隔膜的下底面,并紧贴隔膜的下...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨志明,
申请(专利权)人:深圳市信宇人科技有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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