一种四分之一波长相移光栅的制作方法技术

本发明专利技术公开了一种四分之一波长相移光栅的制作方法，该方法步骤为：（1）一次匀胶：在外延片表面进行匀胶，涂敷紫外正性反转光刻胶，烘干，在光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影；（2）二次匀胶：步骤（1）所得产品进行二次匀胶，涂敷紫外正性光刻胶，烘干，在全息光栅系统中进行曝光，在110~130℃条件下烘烤1~5分钟，光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影；（3）用HBr、Br2和H2O组成的腐蚀液进行腐蚀，去除光刻胶后得到四分之一波长相移光栅。本发明专利技术的方法不需要购买昂贵的电子束光刻设备，用全息光栅系统和现有的普通光刻机就可以完成工艺。工艺过程简单、耗时短，普通工人即可操作，适合批量生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光电子
，具体涉及。
技术介绍
DFB (分布反馈布拉格)激光器是在目前光通信中应用非常普遍的一种芯片，随着通信技术的发展，目前对工业级别(_40°C到85°C)的DFB激光器需求越来越大。采用均匀光栅的DFB激光器，由于其FP模式的增益谱与布拉格波长的增益谱之间的温漂系数相差较大，所以设计光栅时必须进行精确的波长控制，因而这种激光器在全温度(_40°C到85°C )工作时成品率偏低。而采用四分之一波长相移光栅的DFB激光器，其采用了激光器两个端面进行抗反射镀膜，所以在全温度范围内能够稳定地单模工作，因而芯片成品率较高。日益发展的FTTH (光纤到户)对低成本的光通信芯片需求越来越大。高的芯片成品率意味着低的成本，但是传统的四分之一波长相移光栅制作方法是采用电子束光刻，其中电子束光刻设备非常昂贵，而且光栅刻写过程非常耗时，故采用此种方式制作的DFB激光器成本并不占优势。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种低成本的用于DFB激光器的四分之一波长相移光栅的制作方法。本专利技术提供的四分之一波长相移光栅的制作方法，步骤为: (1)一次匀胶:在外延片本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种四分之一波长相移光栅的制作方法，其特征在于，步骤为：（1）一次匀胶：在外延片表面进行匀胶，涂敷紫外正性反转光刻胶，烘干，在光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影；?（2）二次匀胶：步骤（1）所得产品进行二次匀胶，涂敷紫外正性光刻胶，烘干，在全息光栅系统中进行曝光，然后在110~130℃条件下烘烤1~5分钟，在光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影；（3）用HBr?、Br2和H2O组成的腐蚀液进行腐蚀，去除光刻胶后得到四分之一波长相移光栅。

【技术特征摘要】
1.一种四分之一波长相移光栅的制作方法，其特征在于，步骤为: (1)一次匀胶:在外延片表面进行匀胶，涂敷紫外正性反转光刻胶，烘干，在光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影； (2)二次匀胶:步骤(I)所得产品进行二次匀胶，涂敷紫外正性光刻胶，烘干，在全息光栅系统中进行曝光，然后在11(T130°C条件下烘烤f 5分钟，在光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影； (3)用HBr、Br2和H2O组成的腐蚀液进行腐蚀，去除光刻胶后得到四分之一波长相移光栅。2.根据权利要求1所述的四分之一波长相移光栅的制作方法，其特征在于，步骤(I)所述紫外正性反转光刻胶厚度为500 1000埃。3.根据权利要求1所述的四分之一波长相移光栅的制作方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：阳红涛，刘应军，胡忞远，熊永华，
申请(专利权)人：武汉电信器件有限公司，
类型：发明
国别省市：