贴片式云纹光栅的制作方法技术

本发明专利技术公开了一种贴片式云纹光栅的制作方法，包括：步骤1：清洁基底的表面并将所述基底可分离地固定在载板上；步骤2：将紫外固化胶均匀涂覆在所述基底上；步骤3：将模板置于所述紫外固化胶上并利用紫外纳米压印机进行压印；步骤4：压印完成且所述紫外固化胶固化后，将所述模板从所述紫外固化胶上脱除且所述基体与固化后的所述紫外固化胶可分离；步骤5：在固化后的所述紫外固化胶上镀功能膜；步骤6：在所述功能膜上可分离地覆盖保护膜。根据本发明专利技术实施例的贴片式云纹光栅的制作方法，可制作不同频率、不同截面形状、适用不同服役环境的高精度正交或单向光栅。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及测量传感器件制造
，特别涉及一种。
技术介绍
科技的发展需要对材料的力学行为有更加清晰的认识，而日益纷杂的材料形态需要测量传感器件更加多元化。转移或直接在被测物体表面制作高频率的光栅对材料进行测量，自1948年几何云纹法的提出至今，已作为材料力学性能测试的主要方法之一，得到了快速的发展，而基于这一理论又发展了云纹干涉法和扫描云纹法，这些方法都需要在试件表面制作高质量的光栅作为物体变形信息的载体。传统的制栅方法有机械刻划法，该方法利用机械的方法在被测材料表面刻划光栅，对加工设备的精度要求很高，也很难加工高频率的光栅；全息光刻法是在机械刻划法之后发展的光栅制作方法，该方法可以制作高频率的光栅，将光栅制作技术向前推进了一大步，但该方法光学元件较多，光路复杂，光栅的质量很难控制。随着微加工技术的快速发展，产生了多种制栅的方法，其中有电子束刻蚀制栅技术、聚焦离子束刻蚀制栅技术、反应离子刻蚀制栅技术、湿法刻蚀等，如谢惠民等提出了利用聚焦离子束显微镜制作双频率高温光栅的方法。这些方法加工精度高，可以制作较高频率的光栅，但这些方法加工设备昂贵，力口工效率低，很难在工程应用中得到推广。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一或至少提供一种有用的商业选择。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种操作简单、使用方便且可制作不同频率、不同截面形状的正交或单向的。根据本专利技术实施例的，包括步骤1:清洁基底的表面并将所述基底可分离地固定在载板上；步骤2 :将紫外固化胶均匀涂覆在所述基底上；步骤3 :将模板置于所述紫外固化胶上并利用紫外纳米压印机进行压印；步骤4 :压印完成且所述紫外固化胶固化后，将所述模板从所述紫外固化胶上脱除且所述基体与固化后的所述紫外固化胶可分离；步骤5 :在固化后的所述紫外固化胶上镀功能膜；步骤6 :在所述功能膜上可分离地覆盖保护膜；步骤7 :在被测试工件的表面上涂覆胶水、从固化后的所述紫外固化胶上去除所述基底和所述保护膜中的一个、将所述紫外固化胶或功能膜贴到所述胶水上、然后去除所述基底和所述保护膜中的另一个。根据本专利技术实施例的，可制作不同频率、不同截面形状、适用不同服役环境的高精度正交或单向光栅；使用方便，应用范围广，可应用于其他制栅工艺难于制栅的复杂试件表面；工艺简单，制作成本低，效率高，可大批量加工生产。另外，根据本专利技术上述实施例的，还可以具有如下附加的技术特征根据本专利技术的一些实施例，所述保护膜与所述功能膜之间的粘结强度与所述基底与所述紫外固化胶之间的粘结强度不同。根据本专利技术的一些实施例，所述功能膜为铝膜或铬膜，所述保护膜为静电吸附贴纸或硅油纸，所述基底为柔性基底，所述载板为载玻片。根据本专利技术的一些实施例，所述模板为聚二甲基硅氧烷模板。根据本专利技术的一些实施例，当所述被测试件的环境温度大于等于200°C时，从所述紫外固化胶上去除所述基底，将所述紫外固化胶贴到所述胶水上，然后去除所述保护膜。根据本专利技术的一些实施例，当所述被测试件的环境温度小于200°C时，从所述紫外固化胶上去除所述保护膜，将功能膜贴到所述胶水上，然后去除所述基底。根据本专利技术的一些实施例，所述胶水通过甩涂涂覆到所述被测试工件的表面上。 根据本专利技术的一些实施例，所述紫外固化胶通过甩涂涂覆到所述基底的表面上。根据本专利技术的一些实施例，所述甩涂采用可调节转速的甩涂机进行。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中图1是本专利技术的一个实施例的的流程示意图；图2a至图2e是本专利技术的一个实施例的的制作过程示意图；图3是采用本专利技术的一个实施例的贴片式云纹光栅的测试被测试件的流程示意图；图4a至图4c是采用本专利技术的一个实施例的贴片式云纹光栅测量的示意图。具体实施例方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底” “内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。传统的制栅方法有机械刻划法，该方法利用机械的方法在被测材料表面刻划光栅，对加工设备的精度要求很高，也很难加工高频率的光栅；全息光刻法是在机械刻划法之后发展的光栅制作方法，该方法可以制作高频率的光栅，将光栅制作技术向前推进了一大步，但该方法光学元件较多，光路复杂，光栅的质量很难控制。随着微加工技术的快速发展，产生了多种制栅的方法，其中有电子束刻蚀制栅技术、聚焦离子束刻蚀制栅技术、反应离子刻蚀制栅技术、湿法刻蚀等，如谢惠民等提出了利用聚焦离子束显微镜制作双频率高温光栅的方法。这些方法加工精度高，可以制作较高频率的光栅，但这些方法加工设备昂贵，加工效率低，很难在工程应用中得到推广。1995年美籍华人Stephen Y. Chou提出纳米压印技术，随着纳米压印技术的快速发展，目前已成为最具前景的纳米制造技术之一。纳米压印技术主要包括紫外纳米压印技术和热压印技术。紫外纳米压印技术是一种在室温、低压环境下利用紫外光固化高分子聚合物的压印技术，相比于热压印技术的高温高压环境要求，紫外纳米压印技术加工温度低、压力小、模板和基片变形小、图形分辨率高。目前，紫外纳米压印设备发展很快，如德国著名纳米加工设备供应商SUSS MicroTec研制的MA6型紫外纳米压印设备，自动化程度高，操本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种贴片式云纹光栅的制作方法，其特征在于，包括：?步骤1：清洁基底的表面并将所述基底可分离地固定在载板上；?步骤2：将紫外固化胶均匀涂覆在所述基底上；?步骤3：将模板置于所述紫外固化胶上并利用紫外纳米压印机进行压印；?步骤4：压印完成且所述紫外固化胶固化后，将所述模板从所述紫外固化胶上脱除且所述基体与固化后的所述紫外固化胶可分离；?步骤5：在固化后的所述紫外固化胶上镀功能膜；?步骤6：在所述功能膜上可分离地覆盖保护膜；?步骤7：在被测试工件的表面上涂覆胶水，从固化后的所述紫外固化胶上去除所述基底和所述保护膜中的一个，将所述紫外固化胶或功能膜贴到所述胶水上，然后去除所述基底和所述保护膜中的另一个。

【技术特征摘要】
1.一种贴片式云纹光栅的制作方法,其特征在于,包括: 步骤1:清洁基底的表面并将所述基底可分离地固定在载板上； 步骤2:将紫外固化胶均匀涂覆在所述基底上； 步骤3:将模板置于所述紫外固化胶上并利用紫外纳米压印机进行压印； 步骤4:压印完成且所述紫外固化胶固化后，将所述模板从所述紫外固化胶上脱除且所述基体与固化后的所述紫外固化胶可分离； 步骤5:在固化后的所述紫外固化胶上镀功能膜； 步骤6:在所述功能膜上可分离地覆盖保护膜； 步骤7:在被测试工件的表面上涂覆胶水，从固化后的所述紫外固化胶上去除所述基底和所述保护膜中的一个，将所述紫外固化胶或功能膜贴到所述胶水上，然后去除所述基底和所述保护膜中的另一个。2.根据权利要求1所述的贴片式云纹光栅的制作方法，其特征在于，所述保护膜与所述功能膜之间的粘结强度与所述基底与所述紫外固化胶之间的粘结强度不同。3.根据权利要求1所述的贴片式云纹光栅的制作方法，其特征在于，所述功能膜为铝膜或铬膜，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢惠民，戴相录，朱荣华，吴立夫，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：