阀金属等离子体电解氧化表面处理方法技术

一种阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特点在于所用的一电解液至少包含碳酸氢根，且电解液的pH值为7-14。本发明专利技术可提供符合业界标准的氧化膜，且本发明专利技术电解液的主盐为碳酸氢盐，其相较于硅酸盐、铝酸盐及磷酸盐，具有成本及取得容易度的优势，因此相较于现有的电解液具有优势。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术系关于一种阀金属(valve metal)等离子体电解氧化(plasmaelectrolytic oxidation)表面处理方法,特别是关于一种使用碳酸氢根的。
技术介绍
等离子体电解氧化技术又称为微弧氧化技术，电浆氧化、阳极火花沉积、火花放电阳极沉积和表面陶瓷化等，其性质为一种直接在金属表面原位生长氧化膜的技术。等离子体电解氧化技术是一种在阳极氧化的基础上发展的表面处理技术，其可用于铝、镁、钛、锆及钽等阀金属或合金。等离子体电解氧化是将样品金属置于电解液中，在表面上施加电压，最初表面会氧化成膜。当电压超过某一临界值时，这层氧化绝缘膜上较薄的地方将会被击穿，发生类似等离子体放电现象。反 应时表面的瞬间可达到(约8000K)的高温，使金属表面在热化学、等离子体效应和电化学的共同作用下生成氧化陶瓷膜层。因为氧化陶瓷膜层与基材氧化且烧结，故氧化陶瓷膜层的厚度可达100 μ m以上。氧化陶瓷膜层因从基材上生长，故与基材有着良好的结合力。而且等离子体电解氧化技术在制程、设备需求及废水处理方面皆比传统阳极处理法简单，故可降低成本，具有很高的应用推展价值。因此，相于传统的阳极氧化技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特征在于，包含下列步骤：提供一电解液至一等离子体电解氧化装置，其中该电解液至少包括碳酸氢根，且该电解液的pH值为7?14；浸润一基材于该电解液，其中该基材包含一阀金属材料；将该基材与该等离子体电解氧化装置电性连接；以及自该等离子体电解氧化装置的一电极提供一阳极电流于该基材，使一阀金属氧化物膜形成于该基材的表面。

【技术特征摘要】
2011.11.04 TW 1001402711.一种阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特征在于，包含下列步骤: 提供一电解液至一等离子体电解氧化装置，其中该电解液至少包括碳酸氢根，且该电解液的PH值为7-14 ； 浸润一基材于该电解液，其中该基材包含一阀金属材料； 将该基材与该等离子体电解氧化装置电性连接；以及 自该等离子体电解氧化装置的一电极提供一阳极电流于该基材，使一阀金属氧化物膜形成于该基材的表面。2.按权利要求1所述的阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特征在于，该电解液还包含硅酸根、磷酸根、硼酸根、钒酸根、钨酸根、钥酸根、铝酸根或其组合。3.按权利要求2所述的阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特征在于，该碳酸氢根的浓度大于硅酸根、磷酸根、硼酸根、钒酸根、钨酸根、钥酸根或铝酸根任一的浓度。4.按权利要求1所述的阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特征在于，该电解液还包含硅酸根、磷酸根或其组合。5.按权利要求1所述的阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特征在于，该碳酸氢根的浓度大于4g/L。6.按权利要求1所述的阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特征在于，该碳酸氢根由碳酸根水解所提供。7.按权利要求1所述的阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特征在于，该电解液还包含氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钴、氢氧化镁、氢氧化铵、氢氧化铝、氢氧化钙或具氢氧根的镧系元素。8.按权利要求1所述的阀金...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓焕平，吕福兴，
申请(专利权)人：和淞科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：