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利用代谢轮廓分析提高雷帕霉素产量的优化发酵培养基的方法技术

技术编号:8677984 阅读:306 留言:0更新日期:2013-05-08 22:28
本发明专利技术提供了利用代谢轮廓分析提高雷帕霉素产量的优化发酵培养基的方法,利用动态检测和代谢轮廓分析的方法研究在初始发酵培养基和优化发酵培养基培养条件下菌体胞内代谢物动态变化及其差异。偏最小二乘法分析结果表明菌体初级代谢物轮廓和雷帕霉素产量具有相关性,结合相关途径对这些关键化合物动态变化进行分析,对培养基提出了进一步的动态添加措施。经过对S.hygroscopicus?U1-6E7发酵培养基的研究,雷帕霉素产量从196mg/L提高至307mg/L,提高了56.6%。这些结果表明动态检测结合代谢物轮廓分析方法理性指导发酵培养基优化能够成功地用于提高抗生素发酵水平,为发酵培养基的优化提供了新的思路。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于代谢轮廓分析指导发酵优化
,特别涉及代谢轮廓方法动态分析胞内影响雷帕霉素合成的关键代谢物,理性指导高产雷帕霉素发酵培养基的添加优化。
技术介绍
雷帕霉素是Streptomyces hygroscopicus合成的、ー种重要的天然内酯类化合物,它具有多种生物活性,如抗真菌、免疫抑制活性、抗肿瘤活性、神经保护(Steiner etal.1997)和抗衰老。特别是雷帕霉素具有的强效免疫抑制活性,临床上已被批准用于治疗器官移植抗排斥反应和自身免疫疾病的治疗。此外雷帕霉素的半合成衍生物temsiroI imus和everolimus也被批准临床上用于治疗晚期肾癌。由于雷帕霉素具有的重要药用价值和生物活性,其生物合成途径和调控机制也逐渐的被深入研究。野生型吸水链霉菌中雷帕霉素的产量比较低,因此,对于雷帕霉素的エ业化生产和临床应用,吸水链霉菌中雷帕霉素效价的进ー步提高和雷帕霉素各种衍生物的合成势在必行。发酵培养基优化是提高抗生素发酵水平的一种有效方法,其中Lee et al.通过单因素试验对Streptomyces hygroscopicus C9发酵培养氮源进行优化后雷帕霉本文档来自技高网...

【技术保护点】
利用代谢轮廓分析提高雷帕霉素产量的优化发酵培养基的方法,设定发酵培养基M1为初始培养基,简称M1;发酵培养基M2为M1经过响应面优化得到,简称M2:其特征是步骤如下:1)M1、M2培养条件下吸水链霉菌发酵特性变化:对发酵培养基M1、M2两种培养条件下雷帕霉素产量、菌体生物量、发酵液pH值和发酵液总糖含量进行动态检测;根据吸水链霉菌在M1和M2培养基培养条件下的雷帕霉素生物合成曲线确定代谢组学研究的取样点,在两种条件下雷帕霉素产量具有显著差异的时间段进行取样。2)对M1和M2培养条件下菌体胞内辅酶A类化合物进行提取,采用高效液相色谱?电喷射离子源?质谱/质谱联用仪检测,与标准辅酶A类化合物离子片...

【技术特征摘要】
1.用代谢轮廓分析提高雷帕霉素产量的优化发酵培养基的方法,设定发酵培养基Ml为初始培养基,简称Ml ;发酵培养基M2为Ml经过响应面优化得到,简称M2:其特征是步骤如下: 1)Ml、M2培养条件下吸水链霉菌发酵特性变化:对发酵培养基Ml、M2两种培养条件下雷帕霉素产量、菌体生物量、发酵液PH值和发酵液总糖含量进行动态检测;根据吸水链霉菌在Ml和M2培养基培养条件下的雷帕霉素生物合成曲线确定代谢组学研究的取样点,在两种条件下雷帕霉素产量具有显著差异的时间段进行取样。2)对Ml和M2培养条件下菌体胞内辅酶A类化合物进行提取,采用高效液相色谱-电喷射离子源-质谱/质谱联用仪检测,与标准辅酶A类化合物离子片段进行比对分析,对Ml和M2培养条件下菌体胞内辅酶A类化合物进行定量。3)利用气相色谱-质谱联...

【专利技术属性】
技术研发人员:闻建平赵素敏齐海山
申请(专利权)人:天津大学
类型:发明
国别省市:

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