用于使用频域干涉测量法进行光学成像的方法和设备技术

提供了一种设备和方法。具体而言，至少一个第一电磁辐射可以提供给样品并且至少一个第二电磁辐射可以提供给非反射的参考。所述第一和/或第二辐射的频率随时间变化。在关联于所述第一辐射的至少一个第三辐射与关联于所述第二辐射的至少一个第四辐射之间检测干涉。可替换地，所述第一电磁辐射和/或第二电磁辐射具有随时间变化的谱。所述谱在特定时间可以包含多个频率。另外，有可能以第一偏振态检测所述第三辐射与所述第四辐射之间的干涉信号。此外，可以优选地以不同于所述第一偏振态的第二偏振态检测所述第三和第四辐射之间的又一干涉信号。所述第一和/或第二电磁辐射可以具有中值频率以大于每毫秒100万亿赫兹的调谐速度随时间基本上连续变化的谱。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术总地涉及光学成像，且更具体地，涉及用于使用频域干涉测量法进行光学成像的方法和设备。
技术介绍
如本领域中所公知的，光学干涉测量反射测量法是一种有力的工具，其用于进行非入侵的、高分辨率ΓΙΟ μ m)的生物学或其它样品的横截面成像，以使诸如反射、吸收、散射、衰减、双折射和光谱分析的微结构的光学特性可视化。存在许多本领域中公知的干涉测量成像技术。这些技术总体而言可划分为两个主要类别:(i)时域技术，和(ii)频域技术。低相干干涉测量法(“LCI”)是时域技术之一。此技术使用扫描系统来改变参考臂长度并且在检测器处采集干涉信号。然后，对条纹图案解调以获得源互相关函数的相干包络。光学相干层析成像法(“0CT”)是一种用于使用LCI获得二或三维图像的技术。OCT在授予Swanson等人的美国专利N0.5，321，501中描述。已描述了 OCT技术的多个变形,但很多遭遇小于最佳的信噪比(“SNR”)，导致非最佳的分辨率、低成像帧速率和不良的穿透深度。功率使用是这种成像技术中的一个因素。例如在眼科应用中，在热损坏可发生前，只有特定毫瓦数的功率是可容忍的。因此，在这样的环境中增加SNR，提本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设备，包括：至少一个第一装置，其将至少一个第一电磁辐射提供给样品并且将至少一个第二电磁辐射提供给参考，其中由所述至少一个第一装置提供的辐射的频率随时间变化；至少一个第二装置，其适于移位所述至少一个第一电磁辐射和所述至少一个第二电磁辐射的频率；干涉计，其将所述第一和第二电磁辐射干涉以产生干涉信号；以及至少一个第二装置，其检测所述第一和第二电磁辐射之间的干涉。

【技术特征摘要】
2003.10.27 US 60/514,7691.种设备，包括: 至少一个第一装置，其将至少一个第一电磁辐射提供给样品并且将至少一个第二电磁辐射提供给参考，其中由所述至少一个第一装置提供...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹锡贤，布雷特·尤金·鲍马，吉列尔莫·J·蒂尔尼，约翰内斯·菲茨杰拉德·德·布尔，
申请(专利权)人：通用医疗公司，
类型：发明
国别省市：