光学层叠体、偏振片和图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光学层叠体，其为在透光性基材上形成有硬涂层的光学层叠体，该光学层叠体的特征在于：上述硬涂层含有反应性异形二氧化硅微粒与粘合剂树脂；上述反应性异形二氧化硅微粒偏在于上述硬涂层的靠近上述透光性基材侧；自上述透光性基材侧界面起将上述硬涂层厚度方向的截面3等分，分别记为区域(1)、区域(2)和区域(3)，此时，上述区域(1)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率为30%～90%、上述区域(2)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率为25%～80%、上述区域(3)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率为10%～35%，且区域(1)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率≥区域(2)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率＞区域(3)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学层叠体、偏振片和图像显示装置
本专利技术涉及光学层叠体、偏振片和图像显示装置。
技术介绍
在阴极 线管显示装置(CRT)、液晶显示屏(IXD)、等离子体显示屏(rop)、电致发光显示屏(ELD)、场发射显示屏(FED)、触摸屏、电子纸、平板电脑等图像显示装置中设置了光学层叠体，光学层叠体包括具有防反射性能、抗静电性能、硬涂性、防污性等各种性能的功能层。为避免在处理时受到损伤，要求赋予图像显示装置的耐擦伤性。针对这样的要求，一般是通过利用在透光性基材上设有硬涂(HC)层的光学层叠体、或进一步利用赋予了防反射功能、防眩性等光学功能的光学层叠体来使图像显示装置的图像显示面的耐擦伤性得到提高。作为具备这样的硬涂层的光学层叠体，例如在专利文献I中公开了在作为透光性基材的三乙酰纤维素基材上具有下述硬涂层的光学层叠体，该硬涂层含有特定树脂成分与特定量胶态二氧化硅(- π 4夕丨」力)。另外，作为具备这样的硬涂层的光学层叠体，出于例如赋予防污性等功能的目的，在硬涂层中添加防污剂等、在硬涂层的上面层积低折射率层等其它光学功能层。但是，现有的光学层叠体即使在硬涂层中添加防污剂等，也难以充分发挥出防污本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.09.30 JP 2010-2213891.一种光学层叠体，其为在透光性基材上形成有硬涂层的光学层叠体，该光学层叠体的特征在于: 上述硬涂层含有反应性异形二氧化硅微粒与粘合剂树脂； 上述反应性异形二氧化硅微粒偏在于上述硬涂层的上述透光性基材侧； 自上述透光性基材侧界面起将上述硬涂层厚度方向的截面3等分，分别记为区域(I)、区域⑵和区域(3)时， 上述区域(I)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率为30% 90%、 上述区域(2)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率为25% 80%、 上述区域(3)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率为10% 35%，且区域(I)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率3区域(2)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率〉区域(3)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率。2.如权利要求1所述的光学层叠体，其中，反应性异形二氧化硅微...

【专利技术属性】
技术研发人员：堀尾智之，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：
国别省市：