流体供给装置以及使用该装置清洁薄膜的系统和方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种流体供给装置，其包括：内管，其具有多个孔，用于分配从供给单元提供的流体；以及外管，其包围内管设置，并且具有多个狭缝，用于将从孔分配到其中的流体喷射到外部。该外管与内管的长度基本相同。该流体供给装置可以用于薄膜清洁系统或方法中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。更具体的是，本专利技术涉及一种流体供给装置，其具有均匀并稳定地供给清洁流体以清洁位于存储流体的槽中的薄膜(例如胶卷)型板的改进结构，还涉及使用该装置清洁薄膜的系统和方法。
技术介绍
例如，用于生产具有几毫米或几十毫米的膜型片的膜或辊型板(下文中称作“薄膜”)的系统实施清洁处理，以去除粘附到该辊型薄膜表面的杂质，该膜或辊型板例如地板膜或者各种功能性膜。在该膜清洁处理中，将清洁流体(例如液体)喷射到薄膜表面以去除粘附到该薄膜表面的杂质。图1是表示常规薄膜清洁系统的示意图。图2是表示对应于图1系统中的喷嘴管每个孔的流体流速的曲线图。参照图1和图2，常规的薄膜清洁系统I包括设置在清洁槽2中的流体供给装置5，其浸没在浸没液体3中并且能够喷射清洁流体，从而去除浸没在该清洁槽2中储存的浸没液体3中并连续运动的薄膜4表面(上表面和/或下表面)上出现的杂质。常规的流体供给装置5包括安装在清洁槽2中的供给管6，以从外部接收清洁流体，以及从供给管6垂直分叉的喷嘴管7，以预定压力向薄膜4喷射清洁流体。该喷嘴管7是两端封闭的中空结构，并且在长度方向上具有多个孔8。薄膜4在多个辊9上滚动并本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.19 KR 10-2010-00804461.一种流体供给装置，包括: 内管，具有多个孔，用于分配从供给单元提供的流体；以及 外管，设置为包围该内管，并且具有多个狭缝，用于将从所述孔分配到其中的流体喷射到外部。2.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该内管和外管的两端是封闭的。3.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该内管和外管同轴设置。4.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该内管与外管的长度基本相等。5.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该狭缝包括: 沿长度方向设置在外管任意一侧上的第一侧狭缝；以及 设置在外管另一侧与该第一侧狭缝相对的第二侧狭缝。6.根据权利要求5所 述的流体供给装置，其中该孔的排列与所述狭缝的排列基本上垂直。7.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中内管和外管的横截面基本上是从圆形、椭圆形、矩形和六边形、或其组合中选出的任意一种形状。8.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该孔包括: 沿长度方向设置在内管任意一侧的第一侧孔；以及 设置在内管另一侧与该第一侧孔相对的第二侧孔。9.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中当内管和外管分...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐英株，郑在皓，张道基，廉基校，林艺勳，金哉旼，闵庚勳，朴元灿，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：
国别省市：