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本发明公开了一种流体供给装置，其包括：内管，其具有多个孔，用于分配从供给单元提供的流体；以及外管，其包围内管设置，并且具有多个狭缝，用于将从孔分配到其中的流体喷射到外部。该外管与内管的长度基本相同。该流体供给装置可以用于薄膜清洁系统或方法中...
该专利属于LG化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LG化学株式会社授权不得商用。

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