【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种新型亚波长光栅周期的测试方法,具体原理是基于金属-介质多层膜滤波特性,通过观测携带待测亚波长光栅信息的干涉条纹确定光栅周期。
技术介绍
随着电子元器件的小型化和集成化程度越来越高,纳米科学技术引起了人们的广泛关注,在医疗检测、国防军事等领域存在巨大的应用前景。其中衍射极限成为了限制直接利用光学手段观测微细结构的主要因素之一,部分携带物体信息的波矢以倏逝波的形式存在,被局域在物体的表面上,无法参与远场成像。在一系列的解决方案中,基于探针结构的原子力显微镜通过对微细结构的逐行扫描,实现对表面结构形貌的成像;另外基于光纤探头的SNOM显微镜也是通过结构表面的扫描以观测表面的光学特性。但以上成像方法都需要对物体的逐行扫描,实时性较差,而且工艺手段复杂,成本昂贵等,不利于系统集成。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有技术存在的不足,提供了一种基于金属-介质多层膜结构的亚波长光栅周期的测试方法。该方法不仅简化了工艺手段,更增加了设计灵活性、实时性,具有很强的实用价值。为实现所述目的,本专利技术一种亚波长光栅周期的测量器件,其特征在于由标准光栅和金属介质多层膜组成,金属-介质多层膜由多层介质层和多层金属层为相间隔放置;介质层的上层位于标准光栅的下方,金属层的底层位于待测光栅上方,将电场方向与标准光栅方向垂直的线偏振入射光照射到标准光栅上,标准光栅产生多级携带高空间频率的衍射波,并通过金属介质多层膜滤波;滤过透射波与待测光栅差频形成能观测的长周期干涉条纹;最后观察测量干涉条纹并确定待测光栅周期。本专利技术的技术解决方案是本专利技术与现有技术相比所具有 ...
【技术保护点】
一种亚波长光栅周期的测量器件,其特征在于:由标准光栅和金属介质多层膜组成,金属?介质多层膜由多层介质层和多层金属层为相间隔放置;介质层的上层位于标准光栅的下方,金属层的底层位于待测光栅上方,将电场方向与标准光栅方向垂直的线偏振入射光照射到标准光栅上,标准光栅产生多级携带高空间频率的衍射波,并通过金属介质多层膜滤波;滤过透射波与待测光栅差频形成能观测的长周期干涉条纹;最后观察测量干涉条纹并确定待测光栅周期。
【技术特征摘要】
1.一种亚波长光栅周期的测量器件,其特征在于:由标准光栅和金属介质多层膜组成,金属-介质多层膜由多层介质层和多层金属层为相间隔放置;介质层的上层位于标准光栅的下方,金属层的底层位于待测光栅上方,将电场方向与标准光栅方向垂直的线偏振入射光照射到标准光栅上,标准光栅产生多级携带高空间频率的衍射波,并通过金属介质多层膜滤波;滤过透射波与待测光栅差频形成能观测的长周期干涉条纹;最后观察测量干涉条纹并确定待测光栅周期。2.根据权利要求1所述的亚波长光栅周期的测量器件,其特征在于,标准光栅和待测光栅排布方向一致。3....
【专利技术属性】
技术研发人员:罗先刚,赵泽宇,王长涛,王彦钦,陶兴,姚纳,蒲明薄,杨欢,刘利芹,罗云飞,
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所,
类型:发明
国别省市:
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