基于参照源的分段线性非均匀矫正方法技术

本发明专利技术涉及一种基于参照源的分段线性非均匀矫正方法。它是将成像系统的工作范围分为N段，在每一段内使用两点校正法。这样就大大减少了由于探测器响应的非线性给两点校正法造成的误差，而且相对来说更容易在硬件上进行实现。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种应用在对非制冷红外热像仪探测器的非均匀校正方法。
技术介绍
非制冷红外焦平面阵列目前受材料和制作工艺的限制，各像元的响应并不均匀，这样就会造成不同阵列单元(像元)在同一均匀入射辐射下，其响应信号的幅度不同，严重影响红外视频成像，使其难以满足成像系统的使用要求。因此，视频成像之前需要对红外焦平面阵列的输出信号进行非均匀校正。传统的非均匀校正方法主要有两种两点校正法和多点分段线性校正法。然而，两点线性非均匀性校正算法是假设探测元的响应为线性的基础是得到的。但是当焦平面阵列工作在输入输出响应曲线的非线性区时，两点校正法的校正精度很差；另外，受温度、偏置电压等因素随机变化的影响，两点校正系数存在一定的偏移，必须对校正系数进行定期更新。而多点分段线性校正算法定标点愈多数据量愈大，校正算法愈复杂，甚至要重新考虑处理器的结构问题。而且多点分段线性校正法计算量大，并且由于存储多组校正系数，需要大容量存储器，在校正过程中还需要根据背景温度的变化选择合适的校正系数，这增加了编程和硬件实现的难度。现有技术存在以下问题缺点a)、焦平面阵列的响应特性可能会随时发生变化，还应考虑非平稳的Ι/本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于参照源的分段线性非均匀矫正方法，其特征在于：它是将成像系统的工作范围分为N段，在每一段内使用两点校正法。

【技术特征摘要】
1.一种基于参照源的分段线性非均匀矫正方法，其特征在于:它是将成像系统的工作范围分为N段，在每一段内使用两点校正法。2.根据权利要求1所述的基于参照源的分段线性非均匀矫正方法，其特征在于:所述的两点校正法，假设两个相邻像元A和B对应于两个场景温度点I和2的响应，并分别用Iai> IA2> Ibi和Ib2来表示，则A和B响应增量的比率Rab可表示为1-13.根据权利要求1所述的基于参照源的分段线性非均匀矫正方法，其特征在于:所述的两点校正法，其中增益校正矩阵为: 用矩形模式抖动阵列得到四帧连续的数据1:、12、13和I4，沿水平和垂直方向的抖动距离为一个像元的宽度和高度，以矩阵[I1]、[I2]、[I3]和[I4]分别表示通过抖动矩阵所获得的四帧连续的图像数据，则4.根据权利要求1所述的基于参照源的分段线性非均匀矫正方法，其特征在于:所...

【专利技术属性】
技术研发人员：方勇，王书庆，刘炳臣，
申请(专利权)人：河北汉光重工有限责任公司，
类型：发明
国别省市：