四氯化锗全密闭水解装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出了一种四氯化锗全密闭水解装置。根据本实用新型专利技术的实施例，该水解装置包括：釜体，所述釜体内限定有水解反应空间；上盖，所述上盖设置在所述釜体的顶部；第一进料口，所述第一进料口设置在所述上盖上，用于向所述水解反应空间中供给四氯化锗精馏液；第二进料口，所述第二进料口设置在所述上盖上，用于向所述水解反应空间中供给超纯水；排气口，所述排气口设置在所述上盖上，用于将水解反应生成的氯化氢气体从所述水解反应空间中排出；以及排料口，所述排料口设置在所述釜体的底部，用于排出水解产物。利用该四氯化锗全密闭水解装置，能够在密闭条件下进行四氯化锗水解反应。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及冶金领域，更具体的，本技术涉及四氯化锗全密闭水解装置。
技术介绍
在锗提取技术中，以锗精矿为原料，经过氯化蒸馏、复蒸、精馏、水解、过滤、烘干、煅烧得到高纯GeO2产品。其中以四氯化锗精馏液与超纯水进行水解反应，得到二氧化锗和氯化氢的混合物，为获取纯度、粒径合格的GeO2产品，必须严格控制水解反应温度，不致温度过高或过低使得GeO2颗粒粒径不均匀，且必须经过过滤手段实现对二氧化锗和氯化氢的混合物的分离。然而，目前四氯化锗水解制备二氧化锗的手段仍有待改进。
技术实现思路
本技术旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一或至少提供一种有用的商业选择。为此，本技术的一个目的在于提出一种能够有效用于进行四氯化锗水解的装置。在本技术的一个方面，本技术提出了一种四氯化锗全密闭水解装置。根据本技术的实施例，该水解装置包括釜体，所述釜体内限定有水解反应空间；上盖，所述上盖设置在所述釜体的顶部；第一进料口，所述第一进料口设置在所述上盖上，用于向所述水解反应空间中供给四氯化锗精馏液；第二进料口，所述第二进料口设置在所述上盖上，用于向所述水解反应空间中供给超纯水；排气口，所述排气口设置在所述上盖上，用于将水解反应过程挥发的氯化氢气体从所述水解反应空间中排出；以及排料口，所述排料口设置在所述釜体的底部，用于排出水解产物。利用该四氯化锗全密闭水解装置，能够在密闭条件下进行四氯化锗水解反应。根据本技术的实施例，上述四氯化锗全密闭水解装置还可以具有下列附加技术特征本技术的四氯化锗全密闭水解装置可以进一步包括搅拌装置，所述搅拌装置设置在所述水解反应空间中，用于搅拌所述水解反应空间中的反应物。由此，进一步提高利用四氯化锗全密闭水解装置进行四氯化锗水解反应的效率。本技术的四氯化锗全密闭水解装置可以进一步包括电机，所述电机设置在所述上盖上，并且与所述搅拌装置相连，用于控制所述搅拌装置。由此，进一步提高利用四氯化锗全密闭水解装置进行四氯化锗水解反应的效率。本技术的四氯化锗全密闭水解装置可以进一步包括反应观察口，所述反应观察口设置在所述上盖上。由此，进一步提高利用四氯化锗全密闭水解装置进行四氯化锗水解反应的效率。本技术的四氯化锗全密闭水解装置可以进一步包括温控装置，所述温控装置设置在所述釜体的外部。由此，进一步提高利用四氯化锗全密闭水解装置进行四氯化锗水解反应的效率。本技术的四氯化锗全密闭水解装置中，所述温控装置为循环冷冻盐水冷却装置。由此，进一步提高利用四氯化锗全密闭水解装置进行四氯化锗水解反应的效率。本技术的四氯化锗全密闭水解装置可以进一步包括四个支架，所述支架与所述釜体相连，用于支撑釜体。本技术的四氯化锗全密闭水解装置中，所述排气口与碱液吸收装置相连。由此，回收水解反应过程挥发的氯化氢气体。本技术的四氯化锗全密闭水解装置可以进一步包括测温装置，所述测温装置设置在所述上盖上。由此，进一步提高利用四氯化锗全密闭水解装置进行四氯化锗水解反应的效率。根据本技术实施例的全密闭水解装置克服了传统开放水解装置产出氯化氢气体对环境造成腐蚀的环保压力，并采用冷冻盐水对釜内水解温度进行控制，大幅提高了GeO2A解产出率。本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中图1是根据本技术一个实施例的四氯化锗全密闭水解装置的结构示意图。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。本技术是基于专利技术人的下列发现而完成的目前，水解反应常常在半开放的釜内进行，不但氯化氢气体未得到合理的处理，对环境带来一定腐蚀，且没有有效的控温措施，GeO2产出率不高，有时还会对质量造成较大影响；此水解一过滤过程均在开放的操作环境下，水解反应产生大量的氯化氢气体，对环境带来很大压力，一方面影响了 GeO2产品质量容易受到污染，水解反应过程挥发的氯化氢气体具有腐蚀性，影响环境的同时对职工职业健康造成危害，已经不适应现代化生产的需要。为此，在本技术的第一方面，本技术提出了一种可以有效对四氯化锗进行水解反应，获得含有二氧化锗的水解产物的四氯化锗全密闭水解装置。根据本技术的实施例，参考图5，该四氯化锗全密闭水解装置包括釜体52、第一进料口 55、第二进料口510、排气口 59以及排料口 155。根据本技术的实施例，该四氯化锗全密闭水解装置的釜体52内限定有水解反应空间，上盖54设置在所述釜体52的顶部用于封闭该釜体52所限定的水解反应空间，第一进料口 55设置在上盖54上，用于向水解反应空间中供给四氯化锗精馏液，第二进料口 510设置在上盖54上，用于向水解反应空间中供给超纯水，排气口 59设置在上盖54上，用于将水解反应过程挥发的氯化氢气体从水解反应空间中排出，排料口155设置在釜体52的底部，用于排出水解产物。利用该四氯化锗全密闭水解装置，能够在密闭条件下进行四氯化锗水解反应。根据本技术的实施例，本技术的四氯化锗全密闭水解装置可以进一步包括搅拌装置511，搅拌装置511可以设置在水解反应空间中，用于搅拌水解反应空间中的反应物。由此，可以通过有效提高反应物的接触面积，从而进一步提高利用四氯化锗全密闭水解装置进行四氯化锗水解反应的效率。本技术的四氯化锗全密闭水解装置还可以进一步包括电机57，电机57设置在所述上盖54上，并且与搅拌本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种四氯化锗全密闭水解装置，其特征在于，包括：釜体，所述釜体内限定有水解反应空间；上盖，所述上盖设置在所述釜体的顶部；第一进料口，所述第一进料口设置在所述上盖上，用于向所述水解反应空间供给四氯化锗精馏液；第二进料口，所述第二进料口设置在所述上盖上，用于向所述水解反应空间中供给超纯水；排气口，所述排气口设置在所述上盖上，用于将水解反应生成的氯化氢气体从所述水解反应空间中排出；以及排料口，所述排料口设置在所述釜体的底部，用于排出水解产物。

【技术特征摘要】
1.一种四氯化锗全密闭水解装置，其特征在于，包括 釜体，所述釜体内限定有水解反应空间； 上盖，所述上盖设置在所述釜体的顶部； 第一进料口，所述第一进料口设置在所述上盖上，用于向所述水解反应空间供给四氯化锗精馏液； 第二进料口，所述第二进料口设置在所述上盖上，用于向所述水解反应空间中供给超纯水； 排气口，所述排气口设置在所述上盖上，用于将水解反应生成的氯化氢气体从所述水解反应空间中排出；以及 排料口，所述排料口设置在所述釜体的底部，用于排出水解产物。2.根据权利要求1所述的四氯化锗全密闭水解装置，其特征在于，进一步包括搅拌装置，所述搅拌装置设置在所述水解反应空间中，用于搅拌所述水解反应空间中的反应物。3.根据权利要求1所述的四氯化锗全密闭水解装置，其特征在于，进一步包括电机，所述电机设...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙成余，王少龙，李贤辉，彭明清，何斌，杨金彩，蔡文红，
申请(专利权)人：云南驰宏锌锗股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：