阵列基板修复装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种阵列基板修复装置及方法，其中该装置包括：激光源，用于修补阵列基板上的多余光阻；检测装置，用于检测阵列基板上是否存在多余光阻；过滤镜片，用于使激光源出射的光照射在阵列基板的多余光阻上；过滤镜片设置在阵列基板上方，激光源设置在过滤镜片上方，检测装置设置在阵列基板的上方。实施本发明专利技术的阵列基板修复装置及方法能够快速、准确地对阵列基板进行修复。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶制造技术，更具体地说，涉及一种。
技术介绍
在液晶的阵列基板制造过程中，利用光罩对基底上的刻蚀层进行光照后，会在刻蚀层上留下曝光后的图形。在这类操作中，若是曝光不够充分，则有可能出现曝光后的图形中存在多余光阻的情况，此时需要对多余的光阻进行修补。在现有的技术中，工程人员需要在找到该多余的光阻后，进行手动定位，然后对多余的光阻进行移除或修补的动作。由于阵列基板上形成的图形结构精密，采用人工定位的操作复杂繁琐，时常可能出现定位失误而导致修补失败。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，针对现有的阵列基板修复技术中，容易出现定义失误而导致修补失败的缺陷，提供一种以克服该缺陷。本专利技术的一个方面，提供一种阵列基板修复装置，包括激光源，用于修复阵列基板上的多余光阻；检测装置，用于检测阵列基板上是否存在多余光阻；过滤镜片，用于使激光源出射的光照射在阵列基板的多余光阻上以修复该多余光阻；其中，过滤镜片设置在阵列基板上方，激光源设置在过滤镜片上方，检测装置设置在阵列基板的上方。本专利技术的阵列基板修复装置，检测装置包括图像采集器，用于获取阵列基板上的图案；以及图像对比器，用于对比阵本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板修复装置，其特征在于，包括：激光源，用于修复阵列基板上的多余光阻；检测装置，用于检测阵列基板上是否存在多余光阻；过滤镜片，用于使激光源出射的光照射在阵列基板的多余光阻上以修复该多余光阻；其中，所述过滤镜片设置在所述阵列基板上方，所述激光源设置在所述过滤镜片上方，所述检测装置设置在所述阵列基板的上方。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板修复装置，其特征在于，包括激光源，用于修复阵列基板上的多余光阻；检测装置，用于检测阵列基板上是否存在多余光阻；过滤镜片，用于使激光源出射的光照射在阵列基板的多余光阻上以修复该多余光阻；其中，所述过滤镜片设置在所述阵列基板上方，所述激光源设置在所述过滤镜片上方， 所述检测装置设置在所述阵列基板的上方。2.根据权利要求1所述的阵列基板修复装置，其特征在于，所述检测装置包括图像采集器，用于获取阵列基板上的图案；以及图像对比器，用于对比阵列基板上的图案和预先设置的目标图案，以确定是否存在多余光阻。3.根据权利要求2所述的阵列基板修复装置，其特征在于，阵列基板修复装置包括显示装置，所述显示装置与所述检测装置连接，用于显示所述阵列基板上的图案。4.根据权利要求1-3任一所述的阵列基板修复装置，其特征在于，所述过...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑文达，吴础任，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：