阵列基板修复装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种阵列基板修复装置及方法，其中该装置包括：激光源，用于修补阵列基板上的多余光阻；检测装置，用于检测阵列基板上是否存在多余光阻；过滤镜片，用于使激光源出射的光照射在阵列基板的多余光阻上；过滤镜片设置在阵列基板上方，激光源设置在过滤镜片上方，检测装置设置在阵列基板的上方。实施本发明专利技术的阵列基板修复装置及方法能够快速、准确地对阵列基板进行修复。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶制造技术，更具体地说，涉及一种。
技术介绍
在液晶的阵列基板制造过程中，利用光罩对基底上的刻蚀层进行光照后，会在刻蚀层上留下曝光后的图形。在这类操作中，若是曝光不够充分，则有可能出现曝光后的图形中存在多余光阻的情况，此时需要对多余的光阻进行修补。在现有的技术中，工程人员需要在找到该多余的光阻后，进行手动定位，然后对多余的光阻进行移除或修补的动作。由于阵列基板上形成的图形结构精密，采用人工定位的操作复杂繁琐，时常可能出现定位失误而导致修补失败。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，针对现有的阵列基板修复技术中，容易出现定义失误而导致修补失败的缺陷，提供一种以克服该缺陷。本专利技术的一个方面，提供一种阵列基板修复装置，包括激光源，用于修复阵列基板上的多余光阻；检测装置，用于检测阵列基板上是否存在多余光阻；过滤镜片，用于使激光源出射的光照射在阵列基板的多余光阻上以修复该多余光阻；其中，过滤镜片设置在阵列基板上方，激光源设置在过滤镜片上方，检测装置设置在阵列基板的上方。本专利技术的阵列基板修复装置，检测装置包括图像采集器，用于获取阵列基板上的图案；以及图像对比器，用于对比阵列基板上的图案和预先设置的目标图案，确定是否存在多余光阻。本专利技术的阵列基板修复装置，还包括显示装置，显示装置与检测装置连接，用于显示阵列基板上的图案。本专利技术的阵列基板修复装置，过滤镜片上包括遮光区与透光区，遮光区的图案与阵列基板上的正确图案相匹配。本专利技术的另一个方面，提供一种阵列基板修复方法，包括以下步骤检测阵列基板上是否存在多余光阻；若存在多余光阻，将过滤镜片设置在阵列基板上，激光源设置在过滤镜片上，使得激光源出射的激光在经过过滤镜片后，照射在多余光阻上；使用激光源出射的激光对多余光阻进行曝光修复。本专利技术的阵列基板修复方法，检测阵列基板上是否存在多余光阻的步骤包括获取阵列基板上的图案；将阵列基板上的图案与预先设置的目标图案比较。本专利技术的阵列基板修复方法，还包括显示阵列基板上的图案。本专利技术的阵列基板修复方法，还包括在过滤镜片上形成遮光区与透光区，遮光区的图案与阵列基板上的正确图案相匹配。实施本专利技术的，在进行阵列基板上多余光阻的修复时，无需进行人工定位，通过过滤镜片快速、准确地对阵列基板进行修复，从而提高了修复过程的工作效率以及修复质量。以下结合附图对本专利技术进行说明，其中附图说明图1为本专利技术阵列基板修复装置优选实施例的示意图；图2. a为正常状态下的阵列基板示意图；图2. b为使用图1所示的阵列基板修复装置进行修复的带有多余光阻的阵列基板示意图；图2. c为图1所示的阵列基板修复装置中过滤镜片的示意图；图3为本专利技术阵列基板修复方法优选实施例的流程图；图4为使用图3所示的方法进行暗点修复的阵列基板示意图；图5为使用图3所示的方法进行暗点修复时的过滤镜片示意图。具体实施例方式以下结合附图与具体实施方式对本专利技术进行说明。如图1所示为本专利技术阵列基板修复装置一则优选实施例的示意图，在本实施例中阵列基板300为已经经过曝光，在其表面留有图案的基板。阵列基板修复装置要对其表面留下的图案进行检查修复。在阵列基板300上方设置有过滤镜片200，过滤镜片200上设置有遮光区201和透光区202，遮光区201与原定在该阵列基板300上形成的理想刻蚀图形相对应。在过滤镜片200的上方设置有激光源100，激光源100发出的光能够透过过滤镜片200上的透光区202，同时会被遮光区201完全阻挡。由于有遮光区201将激光源100的光挡住，仅在阵列基板300的多余光阻上会受到激光的照射，正常区域不会受到曝光。本实施例还设置有检测装置400，检测装置400用于检测阵列基板300上是否存在多余光阻。检测装置400内设置有图像采集器和图像比较器，图像采集器对阵列基板300上的图案进行采集，并交由图像比较器进行与预先存储的目标图形的比较，其中该目标图形可以为原定在该阵列基板300上形成的理想刻蚀图形。根据比较结果中该阵列基板300上的图案与该目标图形不一致的部分，可以确定阵列基板上是否有多余的光阻。为了不影响激光源100的曝光，检测装置400设置在阵列基板300的上方，且相对于阵列基板300具有一定的倾斜角度。需要说明的是，检测装置400的位置还可以依据实际需要进行调整，只要不影响激光源100的曝光即可，例如，可以将检测装置400设置在阵列基板300的正上方，在检测完成之后再移开检测装置400。优选的，本专利技术的阵列基板修复装置还包括一个与检测装置400相连接的显示装置500，显示装置500将检测装置400获取的图像显示给操作者，使得操作者可以观看到修复的效果。为了说明本专利技术的效果，现结合图2. a 图2. c进行说明。如图2. a为正常状态时的阵列基板300，阵列基板300经过刻蚀，其上面留有所需要的光刻图案301。当刻蚀的效果不佳，产生多余的光阻的时候，其效果如图2. b所示，在阵列基板300上，除了光刻图案301，还有多余光阻302，而多余光阻302需要去除，同时不影响光刻图案301。为了达到这一目的，在过滤镜片200上设置遮光区201和透光区202，如图2. c所示，其中遮光区201的图样与光刻图案301相匹配，使得激光源100在照射在该过滤镜片200之后，阵列基板300的光刻图案301不会受到激光源100的影响。多余光阻302受到激光的曝光后消除，使得产生如图2. a的阵列基板。具体的，采用该阵列基板修复装置的过程如图3的流程所示。首先由检测装置400检测待修复的阵列基板300上是否存在多余光阻，其检测判断的方法是通过检测装置400内的图像采集器对阵列基板300进行图样采集，再由图像比较器将采集到的图样与预设的目标图样(即预期获得的理想图样)进行比较，以确定是否存在多余光阻。若无多余光阻，则本次的检测修复过程结束；否则进行修复过程设置过滤镜片200，使得过滤镜片200上的遮光区能够恰好将正常的光刻图案301完全遮挡住，使得正常的光刻图案301不会被激光照射，而激光源100的出射光从透光区穿过，照射在阵列基板300的其他位置上，使得多余光阻302被修复。在修复后，检测装置400重新检测是否还存在多余光阻，若依然存在，则重复修复过程，直到多余光阻被修复。采用本专利技术的，还可以用于阵列基板的暗点修复时进行焊接(welding)。如图4为一块需要进行暗点修复的阵列基板，在修复的时候需要在固定点位进行焊接，在第一点位601、第二点位602、第三点位603处进行焊接，焊接的过程要求不影响基本上其他位置的布线。由于焊接的位置在图形中是固定的，我们可以采用一块过滤镜片(例如上述的过滤镜片200)进行辅助焊接，如图5所示。图5中的过滤镜片，在第一点位601、第二点位602、第三点位603设置为可供激光透过，在其他位置对激光遮蔽(即图5中的黑色部分)。由于在基板上除了上述的三个点位外，都被过滤镜片遮蔽，使得焊接的质量得到提高。另外，前述阵列基板的修复和进行固定点位的焊接能够使用相同的装置，区别仅在于使用的过滤镜片不同，因此提高液晶制造设备的通用性，降低液晶制造过程的成本。以上仅为本专利技术具体实施方式，不能以此来限定本专利技术的范围，本
内的一般技术人员根据本创作所作的均等变化，以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板修复装置，其特征在于，包括：激光源，用于修复阵列基板上的多余光阻；检测装置，用于检测阵列基板上是否存在多余光阻；过滤镜片，用于使激光源出射的光照射在阵列基板的多余光阻上以修复该多余光阻；其中，所述过滤镜片设置在所述阵列基板上方，所述激光源设置在所述过滤镜片上方，所述检测装置设置在所述阵列基板的上方。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板修复装置，其特征在于，包括激光源，用于修复阵列基板上的多余光阻；检测装置，用于检测阵列基板上是否存在多余光阻；过滤镜片，用于使激光源出射的光照射在阵列基板的多余光阻上以修复该多余光阻；其中，所述过滤镜片设置在所述阵列基板上方，所述激光源设置在所述过滤镜片上方， 所述检测装置设置在所述阵列基板的上方。2.根据权利要求1所述的阵列基板修复装置，其特征在于，所述检测装置包括图像采集器，用于获取阵列基板上的图案；以及图像对比器，用于对比阵列基板上的图案和预先设置的目标图案，以确定是否存在多余光阻。3.根据权利要求2所述的阵列基板修复装置，其特征在于，阵列基板修复装置包括显示装置，所述显示装置与所述检测装置连接，用于显示所述阵列基板上的图案。4.根据权利要求1-3任一所述的阵列基板修复装置，其特征在于，所述过...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑文达，吴础任，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：