粒状化碳介孔结构体的制备方法技术

技术编号:8588148 阅读:246 留言:0更新日期:2013-04-18 01:46
本发明专利技术涉及粒状化碳介孔结构体的制备方法,其包括:使包含二氧化硅前体、碳前体、气孔形成剂的混合物进行反应来制备粉末状的二氧化硅-碳前体-气孔形成剂的复合体的步骤;将复合体和有机结合剂混合在一起来制备成型前体的步骤;挤压或注塑成型前体来制备粒状化成型体的步骤;煅烧成型体的步骤;蚀刻包含在所煅烧的成型体内的二氧化硅的步骤。上述方法具有以下优点:只用一次煅烧工序,也能制备出具有与现有的粉末碳介孔结构体同等程度的孔隙率的结构体,因而既能简化合成工序,又能降低合成单价;通过上述方法制备而成的结构体以粒状的形态存在,因而不仅不会在以气相利用时发生粉尘,而且能够适用于液相。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种具有中间大小的气孔的碳结构体的制备方法,更详细地涉及一种以及表面改性的(Methodfor preparing granulated carbon structure with meso-porous)。
技术介绍
活性炭(activated carbon)是具有微孔的以往的碳的统称,由木料、土炭、木炭、煤炭、褐炭、椰子树果壳、石油焦等原料物质经过物理活化过程或化学活化过程制备而成。活性炭具有超群的吸附特性,因而广泛应用于在液相或气相下去除杂质以及污染物质的用途。这种活性炭分为粉末状和粒状,粉末状的活性炭具有在进行吸附操作的过程中产生粉尘或致使用于去除杂质的溶液被炭粉污染致黑的问题。为了解决这种问题开发出了粒状化的活性炭并利用至今,但粒状的活性炭也存在诸多问题,如因狭窄的气孔大小而无法吸附具有各种分子量,尤其是具有高分子量的杂质以及污染物质的问题,因孔隙体积小而导致能够吸附的污染物质的量受限的问题,再生时因所吸附的污染物质难以从狭窄的气孔排出而导致再利用受限的问题等。为了弥补这种粒状活性炭的问题,碳介孔结构体正在受到瞩目。介孔(meso porous)是指孔径大小本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种粒状化碳介孔结构体的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:使包含二氧化硅前体、碳前体以及气孔形成剂的混合物进行反应,来制备粉末状的二氧化硅?碳前体?气孔形成剂的复合体的步骤;将上述复合体和有机结合剂混合在一起,来制备成型前体的步骤;挤压或注塑上述成型前体,来制备粒状化成型体的步骤;煅烧上述成型体的步骤;以及蚀刻包含在所煅烧的上述成型体的二氧化硅的步骤。

【技术特征摘要】
2011.10.12 KR 10-2011-01041441.一种粒状化碳介孔结构体的制备方法,其特征在于,包括如下步骤 使包含二氧化硅前体、碳前体以及气孔形成剂的混合物进行反应,来制备粉末状的二氧化硅-碳前体-气孔形成剂的复合体的步骤; 将上述复合体和有机结合剂混合在一起,来制备成型前体的步骤; 挤压或注塑上述成型前体,来制备粒状化成型体的步骤; 煅烧上述成型体的步骤;以及 蚀刻包含在所煅烧的上述成型体的二氧化硅的步骤。2.一种粒状化碳介孔结构体的制备方法,其特征在于,包括如下步骤 使包含二氧化硅前体、碳前体以及气孔形成剂的混合物进行反应,来制备粉末状的二氧化硅-碳前体-气孔形成剂的复合体的步骤; 将上述复合体和有机结合剂混合在一起,来制备成型前体的步骤; 挤压或注塑上述成型前体,来制备粒状化成型体的步骤; 第一次煅烧上述成型体的步骤; 蚀刻包含在所煅烧的上述成型体的二氧化硅的步骤;以及 对蚀刻了二氧化硅的上述成型体进行第二次煅烧的步骤。3.根据权利要求1或2所述的粒状化碳介孔结构体的制备方法,其特征在于,上述二氧化娃如体是选自由四乙氧基娃烧、四甲氧基娃烧、四丙氧基娃烧、四丁氧基娃烧、娃酸纳、气相二氧化硅以及胶体二氧化硅构成的组中的至少一种。4.根据权利要求1或2所述的粒状化碳介孔结构体的制备方法,其特征在于,上述碳前体是选自由葡萄糖、蔗糖、木糖、苯酚、糠醇、乙醇、雷琐辛、间苯三酚、糠醛、苯酚树脂、中间相浙青、乙炔、丙炔、乙烯、苊、芘、聚丙烯腈、蒽、苯、乙腈、聚氯乙烯、甲阶酚醛树脂、甲醛、松二糖、棉子糖以及有机界面活性剂构成的组中的至少一种。5.根据权利要求1或2所述的粒状化碳介孔结构体的制...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔喜喆金要韩朴志海裵址烈朴浩植
申请(专利权)人:光州科学技术院
类型:发明
国别省市:

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