用于关键尺寸扫描电子显微镜的真空套管制造技术

本发明专利技术公开一种用于关键尺寸扫描电子显微镜的真空套管。所述真空套管为圆环形结构，所述真空套管的内径与关键尺寸扫描电子显微镜的载物台上设置的定位销相匹配，所述真空套管的硬度小于待测晶片的硬度。通过将根据本发明专利技术的真空套管安装在关键尺寸扫描电子显微镜的定位销上可以保护待测晶片边缘的定位槽免受损坏，从而提高了晶片的出货质量，降低了生产成本。此外，根据本发明专利技术的真空套管还具有结构简单、安装方便和便于加工等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体领域，尤其涉及一种用于关键尺寸扫描电子显微镜的真空套管以及使用该真空套管的关键尺寸扫描电子显微镜。
技术介绍
近年来，随着半导体器件关键尺寸的不断缩小，关键尺寸扫描电子显微镜 (Critical Dimension Scanning Electron Microscopy, CD-SEM)被广泛地应用于半导体器件的制造领域，以在线进行关键尺寸测量。使用关键尺寸扫描电子显微镜测量半导体器件的关键尺寸时，需要首先将待测晶片传输到载物台上的预定位置并将其固定在该预定位置。目前，关键尺寸扫描电子显微镜通常采用机械装置进行待测晶片的定位操作。以HITACHI (日立)的关键尺寸扫描电子显微镜为例，机械定位装置为设置在载物台上的由金属制成的定位销(notch pin)，待测晶片进入载物台后通过其边缘的定位槽(notch)与定位销相配合来完成待测晶片的定位。目前，晶片通常是由硅、锗或者包含硅和/或锗的半导体材料制成，其具有硬度小、脆性高等物理特性，因此，当待测晶片边缘的定位槽与载物台上的金属定位销接触来定位待测晶片时，通常会造成待测晶片的定位槽发生不同程度的破损，严重时会导致本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于关键尺寸扫描电子显微镜的真空套管，其特征在于，所述真空套管为圆环形结构，所述真空套管的内径与关键尺寸扫描电子显微镜的载物台上设置的定位销相匹配，所述真空套管的硬度小于待测晶片的硬度。

【技术特征摘要】
1.一种用于关键尺寸扫描电子显微镜的真空套管，其特征在于，所述真空套管为圆环形结构，所述真空套管的内径与关键尺寸扫描电子显微镜的载物台上设置的定位销相匹配，所述真空套管的硬度小于待测晶片的硬度。2.按照权利要求1所述的真空套管，其特征在于，所述真空套管的材料为橡胶。3.按照权利要求1所述的真空套管，其特征在于，所述真空套管的厚度为O.4-0. 9 mm。4.按照权利要求1所述的真空套管，其特征在于，所述真空套管的内径为4.95-5. 15m...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘伟，王迪，
申请(专利权)人：无锡华润上华科技有限公司，
类型：发明
国别省市：