【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体芯片制造行业的失效分析领域,主要涉及电子显微镜的材料物性表征技术,特别是一种用于SEM/FIB失效分析的样品座。
技术介绍
扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,以下简称SEM)是一种主要应用于材料表面形貌观察成像的材料表征技术设备。聚焦离子束(Focused Ion Beam,以下简称FIB)系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器。SEM的工作原理是用一束极细的电子束扫描样品,在样品表面激发出次级电子,次级电子的多少与电子束入射角有关,也就是说与样品的表面结构有关,次级电子由探测器收集,并在那里被闪烁器转变为光信号,再经光电倍增管和放大器转变为电信号来控制荧光屏上电子束的强度,显示出与电子束同步的扫描图像。样品座主要用于放置硅片截面的样品,便于SEM观测。目前·现有的样品座由金属平台和底座两部分组成。底座用来与设备样品台连接固定,底座上面的金属平台用于放置样品。FEI公司提供用于截面样品观测的原厂样品座的材质是金属,结构分为两部分,上面是一个凹槽用于放置芯片样品,由一个金属螺丝固定样品。底部是 ...
【技术保护点】
一种用于SEM/FIB失效分析的样品座,包括定位圆柱(1)、样品存放台(2)和固定螺丝(3),所示定位圆柱(1)设置在样品存放台底部,其特征在于,所述样品存放台(2)上表面开设有至少四个样品槽(4),每个样品槽(4)分别对应有固定螺丝(3),所述固定螺丝(3)从样品存放台(2)侧部分别伸入到各个样品槽(4)内。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:史燕萍,
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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