光传输波导制造技术

本公开涉及光传输波导。提供了一种波导，其包括：第一包覆层，该第一包覆层具有折射率n3；被放置为邻近于第一包覆层的梯度折射率层；被放置为邻近于梯度折射率层的辅助层，该辅助层具有折射率n2；被放置为邻近于辅助层的纤芯层，该纤芯层具有折射率n1；以及第二包覆层，该第二包覆层具有折射率n4，其中，n1大于n2、n3和n4；并且n2大于n3和n4。

【技术实现步骤摘要】
光传输波导
技术介绍
“热辅助磁记录”、光学辅助记录或热辅助记录(在下文中共同称为HAMR)，通常是指这样的概念局部加热记录介质以减少记录介质的矫顽力，以使得所施加的磁写入场在由局部加热引起的记录介质的临时磁软化期间可以更容易地影响记录介质的磁化。HAMR允许使用小颗粒介质，这是在以增加的面密度进行记录时所期望的，且在室温下具有较大的磁各向异性，确保了足够的热稳定性。HAMR可以应用于任何类型的存储介质，包括例如倾斜介质、纵向介质、垂直介质和/或图案化介质。在将热源或光源应用到磁介质时，期望将热或光约束在正在写入的磁道，并在紧贴磁介质被加热的位置处产生写入场，以便完成高面密度记录。另外，要克服的技术障碍之一是提供一种有效技术，用于将大量光功率传输到被约束在足够小的光点的记录介质。实现小的受约束热斑的一种方式是使用近场换能器，例如集成在波导中的等离子光学天线或孔径。波导中传播的光由诸如平面固态浸没镜等聚焦元件聚焦到近场换能器中。然而，挑战之一是以低成本、良好的对准容差和高的光传输效率，将光引导到与磁记录头相关联的滑块中的波导中。在此公开了用于实现激光器在滑块中(laser-1n-slider本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种波导，包括：第一包覆层，所述第一包覆层具有折射率n3；被放置为邻近于所述第一包覆层的梯度折射率层；被放置为邻近于所述梯度折射率层的辅助层，所述辅助层具有折射率n2；被放置为邻近于所述辅助层的纤芯层，所述纤芯层具有折射率n1；以及第二包覆层，所述第二包覆层具有折射率n4，其中，n1大于n2、n3和n4；并且n2大于n3和n4。

【技术特征摘要】
2011.09.29 US 13/248,5651.一种波导,包括 第一包覆层，所述第一包覆层具有折射率H3 ; 被放置为邻近于所述第一包覆层的梯度折射率层； 被放置为邻近于所述梯度折射率层的辅助层，所述辅助层具有折射率H2 ; 被放置为邻近于所述辅助层的纤芯层，所述纤芯层具有折射率Ii1 ;以及 第二包覆层，所述第二包覆层具有折射率n4， 其中，Ii1大于n2、n3和n4 ;并且n2大于n3和n4。2.如权利要求1所述的波导，其特征在于，所述第二包覆层被放置为邻近于所述纤芯层。3.如权利要求1所述的波导，其特征在于，所述梯度折射率层包括多个双层。4.如权利要求3所述的波导，其特征在于，所述梯度折射率层包括至少三个双层。5.如权利要求3所述的波导，其特征在于，所述单个层的厚度从所述梯度折射率层的一个表面到另一表面发生改变。6.如权利要求1所述的波导，其特征在于，所述梯度折射率层包括共沉积的至少两种材料。7.如权利要求1所述的波导，进一步包括 第二辅助层，所述第二辅助层被放置为邻近于所述纤芯层；以及 被放置为邻近于所述第二辅助层的第二梯度折射率层。8.如权利要求6所述的波导，其特征在于，所述第二辅助层具有折射率n2。9.如权利要求1所述的波导，其特征在于，所述纤芯层包括锥形的区域。10.如权利要求9所述的波导，其特征在于，所述锥形的区域的平均宽度是从大约O.05微米到大约50微米。11.一种头，包括 光源；以及 波导，所述波导包括 第一包覆层，所述第一包覆层具有折射率H3 ; 被放置为邻近于所述第一包覆层的梯度折射率层； 被放置为邻近于所述梯度折射率层的辅助层，所述辅助层具有折射率H2 ; 被放置为邻近于所述辅助层的纤芯层，所述纤芯层具有折射率Ii1 ;以及 第二包覆层，所述第二包覆层具有折射率n4， 其中，Ii1大于n2、...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭初兵，
申请(专利权)人：希捷科技有限公司，
类型：发明
国别省市：