【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于纳米材料的,特别涉及ー种采用激光烧蚀金属镍靶材合成的NiO纳米立方体颗粒中的镍杂质的去除方法。
技术介绍
NiO是近P型半导体,具有稳定带宽,不同形貌的NiO纳米颗粒的比表面积、量子尺寸效应存在差异,NiO纳米颗粒表现出优良的催化性能和电学性能等方面的优点。NiO纳米立方体颗粒是由具有面心立方结构的氧化镍形成的ー种具有规则立方体形貌的纳米材料。由于NiO纳米立方体颗粒裸露的外表面具有较高活性,大大拓展了 NiO纳米立方体颗粒材料的应用范围,使其在催化、新型锂电电极材料等诸多科学
显示出巨大的潜在应用价值。NiO纳米立方体颗粒材料作为ー种新型纳米材料,其制备、性能与应用的研究已成为材料科学领域的研究热点。目前,美国Yong Che小组2007年首次利用飞秒激光烧蚀密封腔体中的纯金属镍靶材在产物中观察到了 NiO纳米立方体颗粒,但是这种エ艺方法制备出的产物主要由多种尺寸的镍颗粒组成,NiO纳米立方体颗粒仅仅是伴随镍颗粒而产生的副产物,參见 Liu et al, appliedphysics letters, 2007,90:044103。另外,就是利用毫秒脉冲激光烧蚀空气中或水中的金属镍靶材,能高效率地制备出宏量的Ni 0纳米立方体,但这种エ艺方法制备出的产物也包含了多种尺寸的镍颗粒。如何将NiO纳米立方体颗粒从产物中分离出来是NiO纳米立方体颗粒制备和实际利用中的ー个突出问题。
技术实现思路
本专利技术的目的,是要解决将NiO纳米立方体颗粒从混合产物中分离出来,提供一种低成本、高效率地的提纯方法。本专利技术的技术解决方案如下ー种激光法合成 ...
【技术保护点】
一种激光法合成的NiO纳米立方体颗粒的提纯方法,采用三步法去除其中的杂质,步骤如下:(1)去除粒径较大镍颗粒将激光法合成的包含NiO纳米立方体产物的混合物加入到质量比为10?20倍的去离子水中,常温下搅拌5分钟,利用孔径尺寸介于0.250mm?0.125mm之间,即60?120目之间的过滤网过滤,去除产物中粒径较大镍颗粒,得到初次纯化产物;(2)去除粒径较小镍颗粒将步骤(1)得到的一次纯化产物加入质量比为2?4倍的去离子水中,在常温下,利用搅拌器低速搅拌,同时在容器中放置磁铁吸附溶液中的粒径较小镍颗粒,搅拌5分钟后,取出磁铁,人工刮去磁铁上吸附的物质;然后再次将磁铁放置在容器中,继续搅拌5分钟,取出磁铁,再刮去磁铁上吸附物质;如此往复三次;(3)低温干燥去除水分将步骤(2)容器中剩余液体取出,低温干燥24小时去除水分,获得高纯度NiO纳米立方体颗粒。
【技术特征摘要】
1.一种激光法合成的NiO纳米立方体颗粒的提纯方法,采用三步法去除其中的杂质,步骤如下 (1)去除粒径较大镍颗粒 将激光法合成的包含NiO纳米立方体产物的混合物加入到质量比为10-20倍的去离子水中,常温下搅拌5分钟,利用孔径尺寸介于O. 250mm-0. 125mm之间,即60-120目之间的过滤网过滤,去除产物中粒径较大镍颗粒,得到初次纯化产物; (2)去除粒径较小镍颗粒 将步骤(I)得到的一次纯化产物加入质量比为2-4倍的去离子水...
【专利技术属性】
技术研发人员:田飞,曹宏梅,林奎,郭世珍,赵静,孙景,
申请(专利权)人:田飞,曹宏梅,林奎,郭世珍,赵静,孙景,
类型:发明
国别省市:
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