用于润湿扁平基底的装置和具有这种装置的设备制造方法及图纸

一种用于当基底沿着输送轨移动时利用流体来润湿基底底面的装置，其具有多个流体输出件，所述流体输出件各有一个用于流体的输出开口，输出开口向上朝向，且一直伸到输送面之前很近处。所述输出开口具有周向边缘，以便基于表面张力形成凸形拱曲的流体储备，其中规定，流体从下面输送至流体输出件。在周向边缘的下方设置有引自流体储备的流体流出件，在流体输出件周围设置有收集下凹，收集下凹通过流出开口与流出槽连接。设置有用于流体的引导至流体输出件的流入道。该装置是可独立操作的基本上封闭的结构单元。

【技术实现步骤摘要】
用于润湿扁平基底的装置和具有这种装置的设备
本专利技术涉及用于润湿扁平基底或其基底底面的装置以及具有至少一个这种装置的设备。
技术介绍
例如由DE102005062528A1已知，例如为了刻蚀过程，用流体将电路板或太阳能电池晶片形式的扁平基底的底面润湿。为了用流体进行润湿，输送滚轮在滚动时其下部区域处于流体中，于是流体在输送滚轮旋转时保持附着在所述区域上，进而涂布到位于上面的基底底面上。但这一方面意味着可以根据基底底面支撑在滚轮上的支撑力略微地改变流体涂布的方式，另一方面也意味着可能会出现并非所愿的效应，比如基底底面上的稍厚的液体膜受到挤压。按照由WO2008/048259A2已知的方法，利用腔室中的凸形地向上拱曲的流体月牙弯，将流体涂布到基底的基底底面上，所述基底被输送经过该流体。由此可以实现用流体采用本来无接触的方式将基底底面润湿。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提出开头部分所述的装置以及带有至少一个这种装置的设备，借此能避免现有技术的问题，尤其是能实现有利地润湿基底或其基底底面。采用根据本专利技术的用于润湿扁平基底的装置以及根据本专利技术的用于在输送面中利用输送轨来处理扁平基底的设备，即可实现该目的。在这里，有些下述特征仅针对装置或者仅针对设备来介绍。但这些特征应与此无关地既可以适用于装置，又可以适用于相应的设备。规定，所述装置具有多个流体输出件，它们各有一个用于流体的输出开口，输出开口向上朝向，且一直伸到输送面之前很近处。这些输出开口具有周向边缘，以便基于表面张力形成凸形拱曲的流体储备。此外规定，流体从下面输送至流体输出件或输出开口。根据本专利技术，设置有引自流体储备的流体流出件，该流体流出件设置在周向边缘的下方，或者，流体经由周向边缘下方的流体流出件从流体储备流出。流体流出件可以有利地位于该周向边缘下方数毫米处。在流体输出件周围设置有收集下凹或收集装置，其通过流出开口与流出槽或流出通道连接。由此可以例如为了重新再次应用而排出或去除流体。此外设置有引入到用于流体的分布通道中的流入道，其中该分布通道引导液体地与设置于其上方的流体输出件连接，以便输送流体。该装置是可独立操作的基本上封闭的结构单元，它尤其可以作为整体装入到前述设备中。可以特别有利地将多个这种结构单元彼此平行地且间隔开地设置在设备中。这种装置的优点在于，一方面可以用流体基本上无接触地将基底底面润湿。另外由此可以把流入道或流体输入件整合到流体输出件或输出开口上，同时在一个结构单元中使流体流出或输出，在所述输出开口上也有一种由于表面张力而凸形拱曲的流体储备的月牙弯。由于该结构单元基本上封闭地构造，还可以减少或者甚至避免相应挥发性的可能是化学腐蚀性的组分流体气化排出。由此一方面使得装置或设备周围的气氛保持干净，这对工作条件有利。另外还可以在这种设备上设置有气体吸出件，但该吸出件可以构造得比较薄弱，且过滤出的化学腐蚀性组成必须比较少。最后，也可以在整体上明显减少化学药剂的耗用量，这在化学药剂昂贵的情况下大大地节省了成本。按照本专利技术的一种有利设计，沿着该装置特别是成一条直线地设置有多个流体输出件或输出喷嘴。在此可以给至少一对流体输出件分别彼此靠近地设置输出开口，尤其是直接并排地设置，更确切地说，还在前述纵向上并排地设置。特别有利的是，在该装置的外端上给各个流体输出件分别设置一个输出开口。因而前述多对流体输出件的间距可以为数毫米，最好小于2cm，而与此同时，两个流体输出件之间的间距可以处于数厘米的范围内，最好为10cm-20cm。如此地分布流体输出件或其输出开口，就可以用流体将基底底面的条状区域润湿。根据本专利技术的另一设计，流体输出件可以向上突出于其它装置或其基本上平面的顶面数厘米。突出距离例如可以为2cm-10cm，使得基底底面高出装置一段适宜的距离，而不会造成负面影响。同时，流体输出件无需太高，否则就会不必要地提高构造上的代价。流体输出件有利地为管式结构，且向上特别是垂直地突出于装置的顶面。在装置的该顶面上有利地围绕流体输出件设置一些前述收集装置或收集下凹。它们可以在顶面下方具有数毫米的深度，使得它们在一定程度上形成小型收集盆，这些收集盆围绕流体输出件布置，且能收集从流体输出件输出的特别是来自流体流出件的流体以便排出。也可以给盆状收集装置构造环绕的壁作为一种盆边缘，以便能收集从输出开口输出的流体。由于要收集的流体量通常不是很大，所以收集下凹具有小的深度或者盆状收集装置具有小的边缘高度就足够了。按照本专利技术的另一设计，在从下面引入到流体输出件中的流体输入件内设置有节流件。该节流件能限制输入的流体量，尤其是与流体输入件中的或较大流体储备上的压力波动无关地进行限制。根据本专利技术的另一设计，这种节流件要么可调节或移调，要么可轻易地更换，以便实现不同的或可改变的通流截面。节流件的通流截面有利地大致等于流体流出件的通流截面，或者它们不应差别太大。由此可以实现不会由于超过表面张力或者溢满向上形成的月牙弯而从流体储备经由周向边缘输出流体，这会并非所愿地有损于或者破坏月牙弯形状，因为这样一来就丧失了表面张力。由于经由流体流出件流出的流体应几乎恰好与从流体输入件特别是经由所述节流件引入到流体储备中的流体一样多，所以留在基底底面上的通常相对少量的流体可以扣除。在使用装置或者润湿基底底面期间，流体储备应保持相对恒定，流体储备的向上拱曲的月牙弯进而也应保持相对恒定。按照本专利技术的另一有利的设计，流体流出件斜向下朝向地从流体储备或流体输出件的上部区域伸出。由此使得流体非常流畅地流出，以及非常顺畅地对流体储备量进行调节。此外，由此可以使流体顺沿管状流体输出件的外壁流下，并汇集在位于该流体输出件下方的收集下凹内，再从收集下凹中排出。这可以通过流体输出件上的细长的槽口等得到进一步改善，从而使得流出的流体本身尽可能狭窄地流动，且其表面尽可能小，以便使得开头部分所述的气化排出保持较小。特别有利的是，还给每个流体输出件仅设置一个唯一的流体流出件。这被视为对于调节流体储备量来说足够了。根据本专利技术的另一有利的设计所规定，输出开口沿着周向边缘在内缘上具有倾斜的内壁，亦即具有向上增大的直径。由此可以非常稳定地实现并保持所形成的带有向上拱曲的月牙弯的流体储备。此外有利地规定，输出开口在周向边缘上朝向内侧具有相对尖锐的边。边的半径可以处于微米范围内，例如为50μm-200μm。此外，周向边缘或其边沿着平行于输送面的平面伸展。这意味着，月牙弯于是也是扁平的均匀的结构。按照本专利技术的一种设计，输出开口为圆形结构，使得利用它能以狭窄条的形式对基底底面进行条式润湿。倾斜构造的前述内壁由此是圆锥形的。输出开口替代地可以又长又窄，且有利地可以在装置的纵向延展方向上具有纵向长度。当无论装置还是长的输出开口都横向于基底的输送方向时，利用这种装置能够对基底底面进行相对大面积的涂层。试验已表明，沿着这种细长的狭缝也能在液体储备中形成稳定适宜的月牙弯。根据本专利技术的另一有利的设计，该装置具有装置壳体，在该装置壳体内一方面设置有把流体输送至输出开口的输入件连同分布通道在内，另一方面还设置有流体流出件。在此可以特别有利地设置一个中央的流入道和/或一个唯一的流出道。优选在装置壳体中在上面设置用于待输入的流体的分布通道，进而使该分布通道直本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于润湿扁平基底的装置，其中，当基底在输送面上沿着输送轨移动时，利用流体来润湿基底底面，其中，所述装置具有多个流体输出件，所述流体输出件各有一个用于流体的输出开口，输出开口向上朝向，且一直伸到输送面之前很近处，其中，所述输出开口具有周向边缘，以便基于表面张力形成凸形拱曲的流体储备，其中规定，流体从下面输送至流体输出件或输出开口，其特征在于，在周向边缘的下方优选在周向边缘下方数毫米处设置有引自流体储备的流体流出件，在流体输出件周围设置有收集下凹，收集下凹通过流出开口与流出槽连接，其中设置有引入到用于流体的分布通道中的流入道，该分布通道引导液体地与设置于其上方的流体输出件连接，以便输送流体，其中该装置是可独立操作的基本上封闭的结构单元。

【技术特征摘要】
2011.09.01 DE 102011081980.01.一种用于润湿扁平基底的装置，其中，当基底在输送面上沿着输送轨移动时，利用流体来润湿基底底面，其中，所述装置具有多个流体输出件，所述流体输出件各有一个用于流体的输出开口，输出开口向上朝向，且一直伸到输送面之前很近处，其中，所述输出开口具有周向边缘，以便基于表面张力形成凸形拱曲的流体储备，其中规定，流体从下面输送至流体输出件或输出开口，其特征在于，在周向边缘的下方设置有引自流体储备的流体流出件，在流体输出件周围设置有收集下凹，收集下凹通过流出开口与流出槽连接，其中设置有引入到用于流体的分布通道中的流入道，该分布通道引导液体地与设置于其上方的流体输出件连接，以便输送流体，其中该装置是可独立操作的基本上封闭的结构单元。2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，沿着该装置成一条直线地设置有多个流体输出件或输出喷嘴。3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，流体输出件向上突出于所述装置或其基本上平面的顶面数厘米。4.如权利要求3所述的装置，其特征在于，流体输出件为管式结构，且向上突出于装置的顶面。5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，在从下面引入到流体输出件中的流体输入件内设置有节流件，该节流件用于限制输入的流体量。6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，流体流出件斜向下朝向。7.如权利要求1所述的装置，其特征在于，输出开口在内缘上具有倾斜的内壁，且具有向上增大的直径。8.如权利要求7所述的装置，其特征在于，输出开口为圆形结构。9.如权利要求1所述的装置，其特征在于，输出开口又长又窄。10.如权利要求1所述的装置，其特征在于，输出开口在周向边缘上朝向内侧具有尖锐的边。11.如权利要求5所述的装置，其特征在于，在装置壳体内设置有把流体输送至输出开口的输入件、分布通道和流体流出件，设置有一个中央的流入道和/或一个唯一的流出道。12.如权利要求11所述的装置，其特征在于，在分布通道的下方设置有基本上连续的流出槽，流出开口伸入到该流出槽中，流出槽具有一个中央的流出道。13.如权利要求1所述的装置，其特征在于，用于来自收集下凹的流体的流出开口靠近装置的或装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·兰普雷希特，M·雷泽，K·魏泽，H·哈弗坎普，M·尼塔默，
申请(专利权)人：吉布尔·施密德有限责任公司，
类型：发明
国别省市：