【技术实现步骤摘要】
兼容气相反应设备的废气冷却与围护装置
本技术涉及一种兼容气相反应设备的废气冷却与围护装置,尤指一种供气相反应设备废气温度冷却并同步使整体设备与大气形成阻隔的防护装置。
技术介绍
一般有机金属化学气相沉积系统(MOCVD)是以III族、II族元素的有机化合物和 V、VI族元素的氢化物等作为晶体生成源材料,以热分解反应方式在基板上生成半导体薄膜的一种方法。而MOCVD生成使用的反应源(precusor)会通过载流气体(Carrier gas),例如氢气,将反应源的饱和蒸汽带至反应室中与其它反应气体混合,然后在被加热的基板上面发生化学反应促成薄膜的生成,而所有通过系统的有毒气体,则通过设置在系统最末端的废气处理系统(Scrubber)来负责吸附及处理。前述反应源分成两种,第一种是有机金属反应源,第二种是氢化物(Hydride)气体反应源,不论是有机金属反应源或是氢化物气体,都是属于具有毒性的物质。有机金属在接触空气之后会发生自然氧化,所以毒性较低,而氢化物气体则是毒性相当高的物质,所以在使用时务必要特别注意安全。此外,该载流气体(氢气)是一种极易燃的气体,氢气混 ...
【技术保护点】
一种兼容气相反应设备的废气冷却与围护装置,其包含用于对一反应室形成空气隔绝状态的一围体及一冷却装置,其特征在于,该围体为内部形成一密室的密闭结构体,使该反应室设置在该密室内;该冷却装置包含一冷凝器,一设置在该冷凝器并连通该密室的气排出口,一设置在该冷凝器内的内胆,一连通于该反应室与该内胆的高温排气管路,及用以输入液态氮至该冷凝器的液氮输入管。
【技术特征摘要】
1.一种兼容气相反应设备的废气冷却与围护装置,其包含用于对一反应室形成空气隔绝状态的一围体及一冷却装置,其特征在于,该围体为内部形成一密室的密闭结构体,使该反应室设置在该密室内;该冷却装置包含一冷凝器,一设置在该冷凝器并连通该密室的气排出口,一设置在该冷凝器内的内胆,一连通于该反应室与该内胆的高温排气管路,及用以输入液态氮至该冷凝器的液氮输入管。2.根据权利要求1所述的兼容气相反应设备的废气冷却与围护装置,其特征在于,该围体为金属板材组合而成的密闭结构体,其选定侧设有一活动门体。3.根据权利要求1所述的兼容气相反应设备的废气冷却与围护装置,其特征在于,该围体设有泄压口。4.根据权利要求1所述的兼容气相反应设备的废气冷却与围护装置,其特征在于,该围体包含...
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