【技术实现步骤摘要】
一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置
本技术涉及激光加工领域，特别涉及一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻 蚀装置。
技术介绍
ITO是铟锡氧化物的英文缩写，它是一种透明的导电体，通常厚度只有几千埃，在 所有在透明导电体中，其具有优良的物理性能高的可见光透过率，高的红外反射率，良好 的机械强度和化学稳定性，用酸溶液等湿法刻蚀工艺能很容易形成一定的电极图形，制备 相对比较容易等，这使它广泛应用于各种电子及光电子器件，如手机和电脑等平板显示领 域。传统的双面ITO玻璃采用湿刻方式制作电极图形，工序繁多，刻蚀后产生的废水需要进 一步处理。由于ITO膜的损伤阈值较低，且膜层厚度也很薄，而激光器输出的光束都是高斯 模式，光束中间能量高，边缘能量低，因此在刻蚀过程中容易出现刻透或损伤阈值较小的缺 点，从而造成对ITO玻璃表面薄膜加工边缘处理不净的问题。本专利提出一种采用方光斑刻蚀双面ITO膜的刻蚀装置，能够将能量分布为高斯 模式的激光束转变为能量分布均匀的等功率分布激光束，在加工ITO玻璃薄膜过程中，加 工部位处理效果整齐均匀，很好的解决了能量为高斯模式分布激光...
【技术保护点】
一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置，包括：等功率分布整形光路机构，所述等功率分布整形光路机构包括光束整形部件,所述光束整形部件用于将高斯模式激光束转变为等功率分布激光束；和支撑机构，所述支撑机构包括上支撑机构和下支撑机构，所述上下支撑机构各包含有所述等功率分布整形光路机构；和激光器。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：魏志凌，宁军，高永强，
申请(专利权)人：昆山思拓机器有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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