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本实用新型公开了一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置，可以将激光束能量分布的模式由高斯模式转换为等功率分布,整形后的光束所照可以将照射部位薄膜均匀去除,即去除薄膜厚度一致,本实用新型公开的刻蚀装置包括支撑机构和等功率分布整形光路机构，...
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