能够改变色彩饱和度的方法和结构技术

各种实施例包括一种干涉式调制器装置，其经配置以提供改进的饱和度。在一些实施例中，通过使用具有折射率梯度的多层使具有不同折射率的两种材料的阻抗光学匹配来改进饱和度。在各种实施例中，选择所述多层中的若干层中的一者或一者以上的厚度以提供增加的饱和度。因此，在各种实施例中，具有折射率梯度的所述多层有助于使像素的谐振变窄，使得从所述像素反射的波长的频带较小。包括红色、绿色与蓝色像素的组合的装置又可扩展由所述装置在操作中反射的色彩的光谱。另外，可存在白色与黑色之间的较好对比度，因为产生了具有较少色调的较暗黑色。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包括机电系统的显示器。
技术介绍
机电系统包括具有电元件和机械元件、激活器、换能器、传感器、光学组件(例如， 镜面)和电子设备的装置。可以多种尺度来制造机电系统，所述多种尺度包括(但不限于) 微尺度和纳米尺度。举例来说，微机电系统(MEMS)装置可包括如下结构具有在从约一微 米到数百微米或数百微米以上的范围内的大小。纳米机电系统(NEMS)装置可包括如下结 构具有小于一微米的大小(包括(例如)小于几百纳米的大小)。可使用沉积、蚀刻、光 刻，和/或蚀刻掉衬底和/或所沉积材料层的多个部分或添加层以形成电装置和机电装置 的其它微机械加工工艺来产生机电兀件。一种类型的机电系统装置称为干涉式调制器(IMOD)。如本文中所使用，术语“干 涉式调制器”或“干涉式光调制器”指代使用光学干涉的原理选择性地吸收和/或反射光的 装置。在一些实施方案中，干涉式调制器可包括一对导电板，所述对导电板中的一者或两者 可整体或部分为透明的和/或反射的，且能够在施加适当电信号后即刻进行相对运动。在 一实施方案中，一个板可包括沉积于衬底上的固定层，且另一板可包括通过气隙与所述固 定层分离的金属薄膜。一个本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.05.20 US 61/346,846;2010.10.22 US 12/910,6941.一种用于调制光的装置，所述装置包含 可移动反射器； 部分反射器，其定位于距所述可移动反射器第一距离处； 衬底，其定位于距所述部分反射器固定距离处，所述衬底具有与所述部分反射器不同的折射率；以及 多层，其经配置以提供所述部分反射器与所述衬底之间的折射率梯度，所述多层包括至少两个电介质层，其中所述至少两个电介质层的相应折射率经配置以提供从所述部分反射器到所述衬底的所述折射率的减小，借此增加由所述装置反射的光的色彩饱和度。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述部分反射器的所述折射率大于所述衬底的所述折射率。3.根据权利要求1所述的装置，其中包括于所述多层中的至少一个电介质层形成彩色滤光片。4.根据权利要求3所述的装置，其中所述彩色滤光片为红色滤光片，其实质上抑制与青色色调相关联的光波长。5.根据权利要求3所述的装置，其中所述彩色滤光片为蓝色滤光片，其实质上抑制与黄色色调相关联的光波长。6.根据权利要求3所述的装置，其中所述彩色滤光片为绿色滤光片，其实质上抑制与洋红色色调相关联的光波长。7.根据权利要求1所述的装置，其进一步包含在所述可移动反射器与所述部分反射器之间的电介质层。8.根据权利要求1所述的装置，其中所述衬底包括玻璃。9.根据权利要求1所述的装置，其中所述多层中的所述电介质层中的至少一者包括氧化招。10.根据权利要求1所述的装置，其中所述多层中的所述电介质层中的至少一者包括二氧化硅。11.根据权利要求1所述的装置，其中所述装置形成显示器的部分。12.根据权利要求11所述的装置，其进一步包含 处理器，其与所述显示器电通信，所述处理器经配置以处理图像数据；以及 存储器装置，其与所述处理器电通信。13.根据权利要求12所述的装置，其进一步包含驱动器电路，所述驱动器电路经配置以将至少一个信号发送到所述显示器。14.根据权利要求13所述的装置，其进一步包含控制器，所述控制器经配置以将所述图像数据的至少一部分发送到所述驱动器电路。15.根据权利要求14所述的装置，其进一步包含图像源模块，所述图像源模块经配置以将所述图像数据发送到所述处理器。16.根据权利要求15所述的装置，其中所述图像源模块包括接收器、发射器和收发器中的至少一者。17.根据权利要求12所述的装置，其进一步包含输入装置，所述输入装置经配置以接收输入数据并将所述输入数据传送到所述处理器。18.根据权利要求1所述的装置，其中所述至少两个电介质层的所述相应折射率经配置以提供从所述部分反射器到所述衬底的所述折射率的多个减小，借此增加由所述装置反射的光的所述色彩饱和度。19.根据权利要求1所述的装置，其中所述至少两个电介质层的所述相应折射率经配置以提供从所述部分反射器到所述衬底的所述折射率的至少三个减小，借此增加由所述装置反射的光的所述色彩饱和度。20.根据权利要求1所述的装置，其中所述多层中的至少三个电介质层的所述相应折射率经配置以提供从所述部分反射器到所述衬底的所述折射率的至少四个减小，借此增加由所述装置反射的光的所述色彩饱和度。21.根据权利要求1所述的装置，其中金属层被从所述多层以及从所述多层与所述衬底之间排除。22.一种用于调制光的装置，所述装置包含 可移动反射器； 部分反射器，其定位于距所述可移动反射器第一距离处； 衬底，其定位于距所述部分反射器固定距离处，所述衬底具有与所述部分反射器不同的折射率；以及 电介质层，其具有在所述部分反射器的折射率与所述衬底的折射率之间的折射率，和足以产生增加由所述装置反射的光的饱和度的干涉滤光效应的厚度， 其中金属层被从所述电介质层与所述衬底之间排除。23.根据权利要求22所述的装置，其中所述部分反射器的所述折射率大于所述衬底的所述折射率。24.根据权利要求22所述的装置，其中所述电介质层的存在抑制与青色色调相关联的光波长且选择性地透射与红色色调相关联的波长，借此提供红色滤光。25.根据权利要求22所述的装置，其中所述电介质层的所述存在抑制与黄色色调相关联的光波长且选择性地透射...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘坚，科斯塔丁·乔尔杰夫，马克·莫里斯·米尼亚尔，
申请(专利权)人：高通MEMS科技公司，
类型：
国别省市：