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各种实施例包括一种干涉式调制器装置，其经配置以提供改进的饱和度。在一些实施例中，通过使用具有折射率梯度的多层使具有不同折射率的两种材料的阻抗光学匹配来改进饱和度。在各种实施例中，选择所述多层中的若干层中的一者或一者以上的厚度以提供增加的饱和...
该专利属于高通MEMS科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过高通MEMS科技公司授权不得商用。

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