金属薄膜转印材料及其制造方法技术

本发明专利技术可获得具有绝缘性金属膜的金属薄膜转印材料，所述绝缘性金属膜具有充分的电波透射性以及绝缘性，且具有较高的耐氧化性、耐羟基化性等耐腐蚀性，同时可维持良好的金属外观。本发明专利技术涉及一种金属薄膜转印材料，其是在透明基材膜的至少单面上按照脱模树脂层、保护树脂层、绝缘性金属薄膜层以及粘接剂层的顺序层叠各层而得到的，绝缘性金属薄膜层的厚度X为5nm～100nm，全光线透光率为Tr(％)时，满足Tr≥87.522×Exp(-0.0422×X)的关系；或者是在透明基材膜的至少单面上按照脱模树脂层、保护树脂层、金属薄膜层、绝缘性金属薄膜层以及粘接剂层的顺序层叠各层而得到的，金属薄膜层的附着量为15ng/cm2～700ng/cm2，绝缘性金属薄膜层的厚度X为5nm～100nm，全光线透光率为Tr(％)时，满足Tr≥87.522×Exp(-0.0422×X)的关系。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及金属光泽的外观设计性优异的，所述金属薄膜转印材料可大幅提高容易腐蚀的岛状结构金属薄膜的耐腐蚀性，通过具有绝缘性而抑制静电放电并且赋予电波透射性。
技术介绍
为了赋予电视、音响、录像机等家电制品，手机、个人信息终端等信息通信设备，汽车内的信息通信设备等的壳体以优异的美感，将使用了岛状结构金属的金属薄膜转印材料用于表面以赋予金属光泽。为了这一目的，专利文献I和2中进行了使用真空蒸镀法在转印材料中形成金属薄膜并且转印至需要美感的基材的方法，作为此用途的金属薄膜，出于防止静电放电、将电波透射的目的而提倡使用锡、铟等的岛状结构金属薄膜。专利文献3中公开了规定蒸镀锡的附着量与透光率的关系，实现外观的均匀性优异的金属薄膜转印材料的技术，即，相对于锡的附着量提高被覆率，实现更低的透光率的技术。然而，岛状结构金属薄膜因轻基化(hydroxylation)、氧化等而导致表面的金属光泽容易受损害，根据这些公开技术可获得电波透射性及绝缘性，但是耐腐蚀性不充分。专利文献4中公开了包含基材膜、脱模树脂层、保护树脂层、绝缘性金属薄膜层、 由三聚氰胺树脂形成的耐腐蚀性树脂层、粘接层的耐腐蚀性优异的绝本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.01.25 JP 2010-0127581.一种金属薄膜转印材料，其是在透明基材膜的至少单面上按照脱模树脂层、保护树脂层、绝缘性金属薄膜层以及粘接剂层的顺序层叠各层而得到的，绝缘性金属薄膜层的厚度X为5nm lOOnm，全光线透光率为Tr(% )时，满足Tr彡87. 522 XExp (-0. 0422 XX)的关系。2.一种金属薄膜转印材料，其是在透明基材膜的至少单面上按照脱模树脂层、保护树脂层、金属薄膜层、绝缘性金属薄膜层以及粘接剂层的顺序层叠各层而得到的，金属薄膜层的附着量为15ng/cm2 700ng/cm2,绝缘性金属薄膜层的厚度X为5nm IOOnm,全光线透光率为Tr (% )时，满足Tr彡87. 522 XExp (-0.0422 XX)的关系。3.如权利要求1或2所述的金属薄膜转印材料，其特征在于，在基于KEC法的800MHz的电波透射试验中，电波的衰减率为IdB以下。4.如权利要求1 3中任一项所述的金属薄膜转印材料，其中，转印至透明...

【专利技术属性】
技术研发人员：饭岛俊和，田中范夫，堤田裕二，中野成，
申请(专利权)人：东丽薄膜先端加工股份有限公司，
类型：
国别省市：