电穿孔电极构造和方法技术

技术编号:8456069 阅读:193 留言:0更新日期:2013-03-22 05:04
本文中提供的概念是“基于奇点的构造”电极设计和方法能以电极之间的低电势差在离子物质中产生局部高电场。本文描述的基于奇点的构造包括:阳极电极;阴极电极;以及置于阳极电极和阴极电极之间的绝缘体。基于奇点的电极设计概念涉及其中阳极和阴极彼此相邻、基本共面地放置且由绝缘体分开的电极。基本共面的阳极/绝缘体/阴极构造限制感兴趣的体积的一个表面,并且局部地产生期望的电场,即,在阳极和阴极之间的界面附近。在理想的构造中,阳极和阴极之间的界面尺寸趋向于零,且变为奇点。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请参照本申请根据35U. S. C. § 119(e)要求2010年6月3日提交的美国临时专利申请No. 61/351,235和2011年4月I日提交的美国临时专利申请No. 61/470,975的优先权,其公开内容通过引用整体结合于此。
技术介绍
电穿孔是由于电场引起的细胞膜脂双层的透化。尽管未完全理解导致电穿孔的物理机制,但相信电穿孔引发电场显著增加细胞膜处的电势差,导致形成瞬间或永久的孔。孔形成的范围主要取决于脉冲电场的强度和持续时间,导致膜透化可逆或不可逆,作为电穿孔引发电场的强度和时间参数的函数。可逆电穿孔通常用于将诸如蛋白质、DNA和药品之 类大分子的传送到细胞,而不可逆电穿孔的破坏特性使其适用于巴氏杀菌或消毒。可逆电穿孔所需的典型电场强度的范围从约100V/cm至450V/cm。在不可逆电穿孔中,所需的电场范围可从200V/cm至高达60000V/cm。如图I所示,典型的电穿孔设备具有粗略地彼此相对的电极(E)。在典型的电穿孔方法中,目标细胞被置于电极之间,将脉冲电压或电流或交流电压或电流施加在电极上以便在电极之间的体积中弓I发所需的电穿孔电场。产生的相关电穿孔电场粗略本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:B·鲁宾斯基G·D·特罗斯扎克
申请(专利权)人:加利福尼亚大学董事会
类型:
国别省市:

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