微结构化器件及其制造方法技术

【技术实现步骤摘要】
微结构化器件及其制造方法
本专利技术通常涉及具有例如在其中形成有全息图，光栅，凹槽，文字数字符号或其它标记的微结构的器件，并且涉及具有这种微结构的薄膜薄片的制造。
技术介绍
几十年来，已经使用目前为标准的方法来制造例如色移薄片的薄膜薄片。用具有需要的光学效应的薄膜光学涂层对通常由苯二甲酸乙二醇酯（PET）制造的支撑网或基底进行涂覆。但是，在将该薄膜光学涂层施加到PET之前，由例如NaCl，蜡，硅或其它适合材料的可溶的有机材料或无机材料制成的非常薄的释放层被施加到该PET上，使得被涂覆在PET上的该薄膜光学涂层可以从该PET支撑层被去除。通常，通过将该薄膜涂层通过含有例如丙酮或在一些例子中可以是水的溶剂的剥离器，随后通过辊，并在含有溶剂的室中，从该PET释放该薄膜涂层。为了减少溶解该释放层所需要的溶剂的数量，并且为了减少用于这一方法中的材料，需要该释放层尽可能的薄。在实践中，该释放层的厚度比释放层被涂覆在其上的基底要薄许多的数量级。在制造薄膜干涉光学薄片的方法中，通常通过在真空室中在该薄的释放层的上面涂覆吸收层，并且随后在该吸收层上面涂覆电介质隔离层，并且随后在该电介质隔离层上涂覆反射本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防伪器件，所述防伪器件包括：支撑基底层，所述支撑基底层由具有第一软化温度t1的第一种材料制造；浮雕层，所述浮雕层由所述支撑基底支撑，并由具有第二软化温度t2的不同的第二种材料制造，其中t2

【技术特征摘要】
2011.08.04 US 13/198,5401.一种防伪器件，所述防伪器件包括：支撑基底层，所述支撑基底层由具有第一软化温度t1的第一种材料制造；浮雕层，所述浮雕层由所述支撑基底层支撑，并由具有第二软化温度t2的不同的第二种材料制造，其中t2<t1；和薄膜涂层，所述薄膜涂层被沉积在所述浮雕层上，其中所述浮雕层能被溶解于溶剂中，并且其中所述薄膜涂层不会被所述溶剂溶解；其中，所述浮雕层被浮雕，使得形成多个限定了边缘或框架的相同形状的结构，所述边缘或框架利于断裂，以形成实质上相同形状的薄片。2.根据权利要求1所述的防伪器件，其中所述薄膜涂层被直接沉积在所述浮雕层的表面。3.根据权利要求1所述的防伪器件，其中所述浮雕层与所述支撑基底层接触。4.根据权利要求1所述的防伪器件，其中所述浮雕层的至少一部分区域的厚度是至少500nm。5.根据权利要求1所述的防伪器件，其中所述第一种材料是聚合物箔。6.根据权利要求1所述的防伪器件，其中所述支撑基底层和所述浮雕层是DUN-TRANTM转移膜。7.根据权利要求6所述的防伪器件，其中所述DUN-TRANTM转移膜具有至少400nm的可浮雕厚度。8.根据权利要求1所述的防伪器件，其中所述薄膜涂层具有多个层。9.根据权利要求1所述的防伪器件，其中所述薄膜涂层是色移涂层。10.根据权利要求1所述的防伪器件，其中所述浮雕层具有至少一个压印在其中的全息图或光栅。11.一种防伪器件，所述防...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿尔博特·阿革帝亚，莉莉·奥博伊尔，科尼利斯·简·德尔斯特，劳伦斯·霍尔顿，
申请(专利权)人：JDS尤尼弗思公司，
类型：发明
国别省市：