一种用于立体光学显微镜的样品台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于立体光学显微镜的样品台，其由下至上依次包括底座、滑座和载样台；所述底座与滑座之间设置纵向滑动机构，其包括相互配合滑动的纵向导轨和纵向滑块；所述滑座与载样台之间设置横向滑动机构，其包括相互配合滑动的横向导轨和纵向滑块，纵向滑动机构和横向滑动机构相互垂直设置。本实用新型专利技术通过将样品台分成三个部分，在三个部分之间通过设置滑动机构，从而实现上部载样台的左右和前后移动，当观测样品时，只需调整样品台的载样台的位置即可达到简接调节所要观测的样品位置的目的，从而避免了手动移动样品而造成的样品表面受损或受污染的情况，同时也为观测样品带来了便捷，进而提高了失效分析的效率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于半导体制造业失效分析领域，特别是一种用于立体光学显微镜的样品台。
技术介绍
立体光学显微镜在半导体制造业中的应用越来越广泛，立体光学显微镜的样品台是嵌在底座上面，且无法移动的，当实验室操作人员使用其观测样品时，若需移动样品，必须手动接触样品来找到目标位置，这样既不便捷，又沾污了所观测样品的表面。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种结构简单、使用方便、可以手工移动 的用于立体光学显微镜的样品台，以克服现有技术存在的上述缺陷。本技术解决技术问题的技术方案如下一种用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于，其由下至上依次包括底座、滑座和载样台；所述底座与滑座之间设置纵向滑动机构，其包括相互配合滑动的纵向导轨和纵向滑块；所述滑座与载样台之间设置横向滑动机构，其包括相互配合滑动的横向导轨和横向滑块，纵向滑动机构和横向滑动机构相互垂直设置。由以上公开的技术方案可知，本技术通过将样品台分成三个部分，在三个部分之间通过设置滑动机构，从而实现上部载样台的左右和前后移动，当观测样品时，只需调整样品台的载样台的位置即可达到间接调节所要观测的样品位置的目的，从而避免了手动移动样品而造成的样品表面受损或受污染的情况，同时也为观测样品带来了便捷，进而提高了失效分析的效率。此样品台主要针对电学失效分析(即electric failure analysis,简称EFA)领域，可用于观测封装测试后的小集成块。由于此立体光学显微镜的优势在于工作距离较长、倍率较低，故只要控制好物镜到样品台的适宜的工作距离，然后将样品放在样品台上，并且边移动样品台，边在目镜中找到所要观测的位置。这样既减小了样品受污染的程度，又大大提高了失效分析的效率。附图说明图I为本技术一实施例样品台移动一个方向后的立体结构示意图；图2为本技术一实施例样品台未移动前的立体结构示意图；图3为实施例的正视图；图4为实施例局部移动后的俯视图。附图标记如下I、底座2、滑座3、载样台4、纵向导轨 5、纵向滑块 6、横向导轨7、横向滑块 8、滑槽9、手柄具体实施方式以下结合附图与具体实施例对本技术做进一步详细的说明。如图广4所示，本实施例整个样品台在合拢状态下呈圆柱状，底座I、滑座2和载样台3均为圆形面板。整个样品台由下至上依次包括底座I、滑座2和载样台3 ;所述底座I与滑座2之间设置纵向滑动机构，其包括相互配合滑动的纵向导轨4和纵向滑块5 ;所述滑座2与载样台3之间设置横向滑动机构，其包括相互配合滑动的横向导轨6和横向滑块7，纵向滑动机构和横向滑动机构相互垂直设置。所述滑座2的侧边和载样台3的侧边均设有手柄9,为方便推动，手柄9均设置在滑动机构的起始部位一端。其中，横向导轨6和纵向导轨4均成倒置的凹字形，其两侧板分别设有滑槽8，横 向滑块7和纵向滑块5分别嵌设在横向导轨6和纵向导轨4的滑槽8内，沿滑槽8相对移动。更进一步，所述纵向导轨4固定设置在底座I的上表面上，所述纵向滑块5固定设置在滑座2的下表面上，所述横向导轨6固定设置在滑座2的上表面上，所述横向滑块7设置在载样台3的下表面上。当然也可以将纵向滑块5固定设置在底座I的上表面上，所述纵向导轨4固定设置在滑座2的下表面上，所述横向滑块7固定设置在滑座2的上表面上，所述横向导轨6设置在载样台3的下表面上。只要能实现滑座与底座之间、滑座与载样台之间的相对移动均可。所述横向导轨5和纵向导轨4均有两对，分别对称设置在底座I和滑座2对称轴的两侧。所述底座、滑座和载样台的厚度为7mnTl0mm,优选的厚度为8_。所述底座、滑座和载样台的直径为150mnT200mm，优选的直径为180_。本技术样品台特别适用样品尺寸(长X宽)彡90mmX 90mm的小样品。本技术可以应用在半导体制造业中封装测试后的小的集成块。此立体光学显微镜的样品台对于电学失效分析(即electric failure analysis,简称EFA)有着重要的作用，当EFA工程师观测封装测试后的小集成块时，可以很便捷的移动样品台找到所要观测的位置，例如PIN角、晶线等。不仅如此，此方案对整个半导体制造业，尤其是对失效分析工作的开展有着重要的作用和意义，它既减小了样品表面的污损程度，也提高了失效分析的效率。所能移动的最大幅度为上下左右各45mm，故此样品台主要针对样品规格为长X宽< 90_X90mm的样品，一般用于电学失效分析(即electric failure analysis,简称EFA)领域；这对失效分析实验室的安全工作管理有着较为重要的作用，同时也为实验室的建设增添了有力的契机。以上所述仅为本技术的较佳实施方式，并非用来限制本技术的保护范围，凡是依照本技术权利要求所做的同等变换，均在本技术的保护范围之内。权利要求1.一种用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于，其由下至上依次包括底座、滑座和载样台；所述底座与滑座之间设置纵向滑动机构，其包括相互配合滑动的纵向导轨和纵向滑块；所述滑座 与载样台之间设置横向滑动机构，其包括相互配合滑动的横向导轨和横向滑块，纵向滑动机构和横向滑动机构相互垂直设置。2.根据权利要求I所述的用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于所述纵向导轨固定设置在底座的上表面上，所述纵向滑块固定设置在滑座的下表面上，所述横向导轨固定设置在滑座的上表面上，所述横向滑块设置在载样台的下表面上。3.根据权利要求I所述的用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于所述横向导轨和纵向导轨均成倒置的凹字形，其两侧板分别设有滑槽，所述滑块嵌设在滑槽内，沿滑槽相对移动。4.根据权利要求I所述的用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于所述横向导轨和纵向导轨均有两对，分别对称设置在底座和滑座对称轴的两侧。5.根据权利要求I所述的用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于整个样品台在合拢状态下呈圆柱状，底座、滑座和载样台均为圆形面板。6.根据权利要求I所述的用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于所述滑座的侧边设有手柄。7.根据权利要求I所述的用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于所述载样台的侧边设有手柄。8.根据权利要求3所述的用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于所述底座、滑座和载样台的厚度为7mm 10mm。9.根据权利要求3所述的用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于所述底座、滑座和载样台的直径为150mm 200mm。专利摘要本技术公开了一种用于立体光学显微镜的样品台，其由下至上依次包括底座、滑座和载样台；所述底座与滑座之间设置纵向滑动机构，其包括相互配合滑动的纵向导轨和纵向滑块；所述滑座与载样台之间设置横向滑动机构，其包括相互配合滑动的横向导轨和纵向滑块，纵向滑动机构和横向滑动机构相互垂直设置。本技术通过将样品台分成三个部分，在三个部分之间通过设置滑动机构，从而实现上部载样台的左右和前后移动，当观测样品时，只需调整样品台的载样台的位置即可达到简接调节所要观测的样品位置的目的，从而避免了手动移动样品而造成的样品表面受损或受污染的情况，同时也为观测样品带来了便捷，进而提高了失效分析的效率。文档编号G02B21/26GK202794696SQ201220297159公开日2013年3月13日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于立体光学显微镜的样品台，其特征在于，其由下至上依次包括底座、滑座和载样台；所述底座与滑座之间设置纵向滑动机构，其包括相互配合滑动的纵向导轨和纵向滑块；所述滑座与载样台之间设置横向滑动机构，其包括相互配合滑动的横向导轨和横向滑块，纵向滑动机构和横向滑动机构相互垂直设置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙蓓瑶，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：