电场致流变射流抛光装置制造方法及图纸

技术编号:8407485 阅读:167 留言:0更新日期:2013-03-13 23:18
本发明专利技术公开了一种电场致流变射流抛光装置。包括工作舱、转台、机床、喷射装置、过滤器、搅拌箱、冷却装置、升压装置、导流管和电流变抛光液。所述机床具有三维直线运动;喷射装置固定在机床的水平移动轴动装置上,并和转台载上物台面相对;工作舱将喷射装置和转台载物台密封;过滤器安置在工作舱和搅拌箱之间;冷却装置安置在搅拌箱外壁;升压系统安置在喷射装置和搅拌箱之间;系统各部件通过导流管连接组成液体回路。工作时,电流变抛光液经升压装置升压并输入通电喷射装置,经喷射装置塑形并发生电流变效应形成稳定的准直射流束,对工件抛光;废液处理后循环使用。本发明专利技术结合了电流变抛光和射流抛光技术,属于光学精密加工范畴。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学精密抛光装置,尤其是涉及对光学元件加工的电场致流变射流抛光装置,属于超精密光学表面加工领域。
技术介绍
随着科学技术的不断发展,人们对光学元件的要求也渐渐提高,因此伴随着新的 抛光技术应运而生。19世纪80年,磨料水射流抛光技术(Fluid Jet Polishing,简称FJP)迅速发展起来;在抛光过程中,混合有磨料粒子的抛光液经高压泵加速后,以一定的速度从喷嘴喷出冲击工件表面,由于冲击作用抛光液柱沿径向散开,产生相对于工件表面的切向速度,使得磨料粒子与工件表面产生相对运动,对工件表面进行切削、划刻加工,实现抛光加工;抛光结束后,液体回收再利用。对于这种抛光技术,由于液柱脱离喷嘴的瞬间所受的束缚压力差和在喷射过程中吸卷效应的作用,使得能够获得稳定喷射的距离非常有限,一般在7-8个喷嘴直径范围内,因此严重影响了这种技术的应用范畴。随着磁射流抛光技术(Magnetorheological Jet Polishing,简称MJP)的发展,有效的增加了稳定喷射的距离,从而实现较远距离的精确加工;这种技术主要是利用较低的压力系统将混合有磨料的磁流变液吸入安装在电磁线圈本文档来自技高网...

【技术保护点】
电场致流变射流抛光装置,包括工作舱、转台、机床、喷射装置、过滤器、搅拌箱、冷却装置、升压装置、导流管和电流变抛光液。所述的机床提供X、Y和Z方向的精密运动;转台配有精密载物台并提供载物台的精密旋转;X向轴动装置固定有喷射装置;喷射装置配置有喷嘴和产生沿喷射方向电场的发生装置;工作舱在不影响喷射装置和载物台运动的同时对其密封并回废液;过滤器实现对抛光液的净化;搅拌箱内配有均匀慢速搅拌的驱动电机和搅拌叶片;冷却装置配置在搅拌箱的外侧;升压装置配置在搅拌箱和喷射装置之间。本专利技术电场致流变射流抛光装置的工作过程如下:工作时,将混有一定磨料和添加剂的电流变液制成的电流变抛光液在搅拌箱内搅拌均匀,电场...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:程灏波王谭陈永
申请(专利权)人:北京理工大学
类型:发明
国别省市:

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