用于对齐晶片以用于制造的系统和方法技术方案

所描述的是用于对齐晶片以用于制造的基于计算机的方法和装置，包括计算机程序产品。从第一图像捕捉设备接收晶片的第一部分的第一图像。从第二图像捕捉设备接收晶片的第二部分的第二图像，其中图像捕捉设备变换式定义了第一图像捕捉设备和第二图像捕捉设备之间的第一关系。基于图像捕捉设备变换式、基准变换式、和被设置为标识晶片上的低对比度基准图案的阈值，第一图像中的第一基准图案和第二图像中的第二基准图案被标识，该基准变换式基于晶片的规格定义了第一基准图案和第二基准图案之间的第二关系。基于所标识出的第一和第二基准图案而确定晶片的对齐。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术大体涉及用于对齐晶片以用于制造的基于计算机的方法和装置，包括计算机程序产品。背景在晶片制造过程中，晶片的合适对齐是重要的，因为这样可帮助促进在晶片上的层(如，金属层、衬底层)的准确且合适的形成，导致较高的成品率。例如，可使用丝网印刷机在太阳能晶片上印刷层(如，金属触片)，这样的层经常需要准确地印刷在选择性发射极图案上。为了对齐晶片，可使用平版印刷术或其他印刷技术在晶片上印刷基准(多个)，且然后使用机器视觉监测该基准，且该基准被用于在制造过程中对齐晶片。 然而，有时在制造过程中基准被劣化，导致难以使用机器视觉检测的模糊和/或错误的基准。作为示例，在对齐之前，可在基准上添加附加非透明材料层。例如，可在太阳能晶片上丝网印刷选择性发射极图案(如，使用硅纳米颗粒胶)。使用机器视觉来检测选择性发射极图案的部分以用于对齐。进一步，在干燥之后对齐之前，经常在选择性发射极图案上向太阳能晶片添加一层标准防反射(A/R)涂层。在金属触片将被印刷在选择性发射极图案之前，通过选择性发射极图案层或位于该选择性发射极图案中的对齐基准的外观具有很差的视觉对比度(如，由于该A/R涂层)，引起检测基准和本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于对齐太阳能晶片以用于制造的计算机化的方法，所述方法包括：通过计算设备，从第一图像捕捉设备，接收太阳能晶片的第一部分的第一图像，其中所述太阳能晶片包括一组基准图案，其中每一个基准图案的姿态是由所述晶片的规格所定义的；通过所述计算设备，从第二图像捕捉设备，接收所述太阳能晶片的第二部分的第二图像，其中图像捕捉设备变换式定义了所述第一图像捕捉设备和所述第二图像捕捉设备之间的第一关系；通过所述计算设备，基于下述而标识所述第一图像中的第一基准图案和所述第二图像中的第二基准图案：所述图像捕捉设备变换式；基准变换式，其基于所述规格而定义所述第一基准图案和所述第二基准图案之间的第二关系；和阈值，被设置为标识...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：刘刚，D·迈克尔，
申请(专利权)人：考戈奈克斯股份有限公司，
类型：发明
国别省市：