用于磁共振成像系统的末端凸缘和制造方法技术方案

本发明专利技术名称为用于磁共振成像系统的末端凸缘和制造方法。提供一种用于磁共振成像(MRI)系统的末端凸缘和用于制造末端凸缘的方法。一个末端凸缘是用于MRI系统(20)的真空容器(24)。所述真空容器包括配置成在其中收容磁体组装件的壳体(24)和构成所述壳体末端的末端凸缘(32)。所述凸缘包括外表面(44)、内表面(46)和联接在所述外和内表面之间的芯(48)，其中所述芯具有比所述外表面和所述内表面大的刚度。

【技术实现步骤摘要】

本说明书中公开的主题大致涉及低温冷却的磁共振成像(MRI)系统，并且更具体而言，涉及MRI系统的真空容器的末端凸缘。
技术介绍
在超导线圈MRI系统中，使用氦容器来低温冷却构成超导磁体的所述线圏。这些MRI系统中的ー些的冷冻剂冷却系统可在系统操作期间连续地冷却超导磁体线圈。另外，可设置热屏蔽，其典型地安置在真空容器内且在该真空容器和氦容器之间。用于MRI系统的真空容器的常规凸缘必须构成为用于支承其中的组件的厚金属 结构。这些厚金属凸缘对总MRI系统增加了成本和重量。此外，在末端凸缘上典型地设置有覆盖物，且其间有间隙。因此，对于MRI系统的给定的占有范围，由于该间隙所产生的间隔，就造成对超导磁体组装件的更短的线圈长度。该更短的线圈长度导致降低的电磁(EM)包络。
技术实现思路
依照各种实施例，提供ー种用于磁共振成像(MRI)系统的真空容器。所述真空容器包括配置成在其中收容磁体组装件的壳体和构成所述壳体的末端的末端凸缘。所述凸缘包括外表面、内表面和联接在所述外和内表面之间的芯，其中所述芯具有比所述外表面和所述内表面大的刚度。依照其它实施例，提供ー种用于磁共振成像(MRI)装置的磁体系统。所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空容器(24)，用于磁共振成像MRI系统(20)，所述真空容器包含：壳体(24)，其配置成在其中收容磁体组装件；以及末端凸缘(32)，其构成所述壳体的末端，其中，所述末端凸缘包括外表面(44)、内表面(46)、和联接在所述外和内表面之间的芯(48)，所述芯具有比所述外表面和所述内表面大的刚度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：江隆植，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：