一种校准正压漏孔的方法技术

技术编号:8365906 阅读:221 留言:0更新日期:2013-02-28 02:30
本发明专利技术公开了一种校准正压漏孔的方法,属于真空计量技术领域。所述方法步骤如下:一、氦质谱检漏仪预热,分别将当地空气引入两台集气器内;二、通过氦质谱检漏仪读取集气器内示漏气体氦气的本底信号I0;三、将标准正压漏孔及被校正压漏孔分别放入两台集气器内;四、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内开始累积,分别记录开始时刻tS1及tL1;五、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内累积一段时间后,用氦质谱检漏仪分别读取两个集气器内示漏气体累积信号IS及IL,记录结束时刻tS2及tL2;六、计算被校准正压漏孔的漏率。所述方法简单易行,成本低;能够用于不同量级的被校正压漏孔,延伸了校准范围;提高了校准效率及现场环境下校准的可行性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及,属于真空计量

技术介绍
在文献“恒压式正压漏孔校准装置的设计,《真空科学与技术学报》,2007年第5期,第442页 446页”中,介绍了一种采用恒压法校准正压漏孔的方法,该方法为将正压漏孔流出的示漏气体直接引入恒压法正压漏孔校准装置的变容室中,改变活塞的位移使得变容室的容积增加而保证变容室内压力不变的原理,得到正压漏孔的校准。 这种方法的不足之处在于校准时,校准装置复杂,校准装置需要抽气系统、校准系统、测控系统,校准装置技术含量高、价格昂贵,对研究人员及操作人员要求较高。其次,仅采用了恒压法直接校准正压漏孔,恒压法校准范围窄。再次,不能用于现场开展大批量的校准,仅能在实验室使用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供,所述方法校准过程简单易行,成本低;能够用于不同量级的被校正压漏孔,延伸了校准范围;可以同时累积多台被校正压漏孔,节省累积时间,提高校准效率;提高了现场环境下校准的可行性。本专利技术的目的由以下技术方案实现,所述方法步骤如下步骤一、氦质谱检漏仪预热,分别将当地空气引入两台集气器内,然后封闭两台集气器;步骤二、将氦质谱检漏仪吸枪插入任意一台集气器内,通过氦质谱检漏仪读取当地大气压下集气器内示漏气体氦气的本底信号Itl ;步骤三、将标准正压漏孔及被校正压漏孔分别放入两台集气器内;其中,所述标准正压漏孔和被校正压漏孔为同一类型,标准正压漏孔的漏率已知,被校正压漏孔的漏率未知;步骤四、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内开始累积,分别记录开始时刻tsl及tu;其中,tsl为标准正压漏孔的开始时刻,tL1为被校正压漏孔的开始时刻;步骤五、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内累积一段时间后,用氦质谱检漏仪分别读取两个集气器内示漏气体累积信号Is及Iy记录结束时刻tS2及L ;其中Is为标准正压漏孔的示漏气体累积信号,k为被校正压漏孔的示漏气体累积信号,ts2为标准正压漏孔的结束时刻,tL2为被校正压漏孔的结束时刻;步骤六、计算被校准正压漏孔的漏率;漏率值与累积时间的乘积与示漏气体信号大小成正比,根据比较法有Γ n Qi (Jn <) —人))~-1T= /τ Λ _/vi)(八-,())其中,标准正压漏孔的漏率为Qs,被校正压漏孔的漏率为Ql ;则权利要求1.,其特征在所述方法步骤如下 步骤一、氦质谱检漏仪预热,分别将当地空气引入两台集气器内,然后封闭两台集气器; 步骤二、将氦质谱检漏仪吸枪插入任意一台集气器内,通过氦质谱检漏仪读取当地大气压下集气器内不漏气体氦气的本底信号1(1 ; 步骤三、将标准正压漏孔及被校正压漏孔分别放入两台集气器内;其中,所述标准正压漏孔和被校正压漏孔为同一类型,标准正压漏孔的漏率已知,被校正压漏孔的漏率未知; 步骤四、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内开始累积,分别记录开始时刻tsl及tL1;其中,tsl为标准正压漏孔的开始时刻,tL1为被校正压漏孔的开始时刻; 步骤五、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内累积一段时间后,用氦质谱检漏仪分别读取两个集气器内示漏气体累积信号Is及Iy记录结束时刻tS2及L ;其中Is为标准正压漏孔的示漏气体累积信号,k为被校正压漏孔的示漏气体累积信号,ts2为标准正压漏孔的结束时刻,tL2为被校正压漏孔的结束时刻; 步骤六、计算被校准正压漏孔的漏率;漏率值与累积时间的乘积与示漏气体信号大小成正比,根据比较法有QiMιλ -(u) _ i^L -Iq)0S(/S2 ~/sl) (/、.-々) 其中,标准正压漏孔的漏率为Qs,被校正压漏孔的漏率为Ql ;则Q _ Qs (II.-人))二;j ) ~ (4-Λ) (tLl -fLi)。全文摘要本专利技术公开了,属于真空计量
所述方法步骤如下一、氦质谱检漏仪预热,分别将当地空气引入两台集气器内;二、通过氦质谱检漏仪读取集气器内示漏气体氦气的本底信号I0;三、将标准正压漏孔及被校正压漏孔分别放入两台集气器内;四、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内开始累积,分别记录开始时刻tS1及tL1;五、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内累积一段时间后,用氦质谱检漏仪分别读取两个集气器内示漏气体累积信号IS及IL,记录结束时刻tS2及tL2;六、计算被校准正压漏孔的漏率。所述方法简单易行,成本低;能够用于不同量级的被校正压漏孔,延伸了校准范围;提高了校准效率及现场环境下校准的可行性。文档编号G01M3/20GK102944369SQ20121045088公开日2013年2月27日 申请日期2012年11月12日 优先权日2012年11月12日专利技术者赵澜, 冯焱, 成永军, 张瑞芳, 盛学民, 张涤新 申请人:中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种校准正压漏孔的方法,其特征在:所述方法步骤如下:步骤一、氦质谱检漏仪预热,分别将当地空气引入两台集气器内,然后封闭两台集气器;步骤二、将氦质谱检漏仪吸枪插入任意一台集气器内,通过氦质谱检漏仪读取当地大气压下集气器内示漏气体氦气的本底信号I0;步骤三、将标准正压漏孔及被校正压漏孔分别放入两台集气器内;其中,所述标准正压漏孔和被校正压漏孔为同一类型,标准正压漏孔的漏率已知,被校正压漏孔的漏率未知;步骤四、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内开始累积,分别记录开始时刻tS1及tL1;其中,tS1为标准正压漏孔的开始时刻,tL1为被校正压漏孔的开始时刻;步骤五、两台正压漏孔流出的示漏气体在集气器内累积一段时间后,用氦质谱检漏仪分别读取两个集气器内示漏气体累积信号IS及IL,记录结束时刻tS2及tL2;其中IS为标准正压漏孔的示漏气体累积信号,IL为被校正压漏孔的示漏气体累积信号,tS2为标准正压漏孔的结束时刻,tL2为被校正压漏孔的结束时刻;步骤六、计算被校准正压漏孔的漏率;漏率值与累积时间的乘积与示漏气体信号大小成正比,根据比较法有:QL(tL2-tL1)QS(tS2-tS1)=(IL-I0)(IS-I0)其中,标准正压漏孔的漏率为QS,被校正压漏孔的漏率为QL;则QL=QS(IL-I0)(IS-I0)×(tS2-tS1)(tL2-tL1)....

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:赵澜冯焱成永军张瑞芳盛学民张涤新
申请(专利权)人:中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所
类型:发明
国别省市:

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