改变光束偏振方向二维分布的装置制造方法及图纸

一种改变光束偏振方向二维分布的装置，其特点在于其构成包括沿入射光束方向依次是起偏器、四分之一波片和反射式空间光调制器，该反射式空间光调制器的控制端与控制器的输出端相连，入射光束通过所述的起偏器起偏后形成线偏振光，该线偏振光的偏振方向与Y轴平行，垂直地入射到所述的四分之一波片上，该四分之一波片的O光的光轴与Y轴的夹角设为45°或-45°。本发明专利技术具有结构简单，操作方便的特点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及偏振光学领域，特别是一种用于改变光束偏振方向二维分布的装置。
技术介绍
工业技术中常常需要形成偏振方向特定二维分布的光束或者改变入射光束的偏振方向。例如，高数值孔径光刻中采用X-偏振光束(横电场TE)提高成像对比度，得到更高的曝光线条密集度；光纤通讯中，常常采用偏振装置矫正由于应力作用、纤芯不规则、光纤传输方向不断变化造成的光偏振态误差，降低与偏振有关的噪声，保证光纤通讯质量；径向偏振光束可以通过逆切伦科夫效应用于加速相对论粒子；特殊偏振光束常常用于偏振光学器件和偏振成像系统的研究。通常采用的偏振方向改变器件是三波片偏振控制器，它由两个四分之一波片，一个二分之一波片组成，二分之一波片位于两个四分之一波片之间，每个波片都可绕光轴自 由转动。该系统中波片的转动需要电机或者其它机械装置驱动，这就限制了偏振器的控制速度。美国专利US 8199403B2公开了一种用于微光刻照明的切向偏振和径向偏振光束产生装置。该装置由一个线性起偏器和两个二分之一波片组成，每个二分之一波片包含四个区域，每个区域的光轴方向不同。当线偏振光通过两个二分之一波片时，光束被分成8个区域，每个区域具有不同本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改变光束偏振方向二维分布的装置，其特征在于其构成包括沿入射光束方向依次是起偏器（1）、四分之一波片（3）和反射式空间光调制器（4），该反射式空间光调制器（4）的控制端与控制器（5）的输出端相连，入射光束（11）通过所述的起偏器（1）起偏后形成线偏振光（12），该线偏振光（12）的偏振方向与Y轴平行，垂直地入射到所述的四分之一波片（3）上，该四分之一波片（3）的O光的光轴与Y轴的夹角设为45°或？45°。

【技术特征摘要】
1.一种改变光束偏振方向二维分布的装置，其特征在于其构成包括沿入射光束方向依次是起偏器(I)、四分之一波片(3)和反射式空间光调制器(4)，该反射式空间光调制器(4)的控制端与控制器(5)的输出端相连，入射光束(11)通过所述的起偏器(I)起偏后形成线偏振光(12)，该线偏振光(12)的偏振方向与Y轴平行，垂直地入射到所述的四分之一波片(3)上，该四分之一波片(3)的O光的光轴与Y轴的夹角设为45°或-45°。2.根据权利要求I所述的改变光束偏...

【专利技术属性】
技术研发人员：张运波，曾爱军，陈立群，王莹，黄惠杰，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：