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一种改变光束偏振方向二维分布的装置,其特点在于其构成包括沿入射光束方向依次是起偏器、四分之一波片和反射式空间光调制器,该反射式空间光调制器的控制端与控制器的输出端相连,入射光束通过所述的起偏器起偏后形成线偏振光,该线偏振光的偏振方向与Y轴平...该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。
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一种改变光束偏振方向二维分布的装置,其特点在于其构成包括沿入射光束方向依次是起偏器、四分之一波片和反射式空间光调制器,该反射式空间光调制器的控制端与控制器的输出端相连,入射光束通过所述的起偏器起偏后形成线偏振光,该线偏振光的偏振方向与Y轴平...